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CN114928235A - 电源装置 - Google Patents

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Publication number
CN114928235A
CN114928235A CN202210128667.4A CN202210128667A CN114928235A CN 114928235 A CN114928235 A CN 114928235A CN 202210128667 A CN202210128667 A CN 202210128667A CN 114928235 A CN114928235 A CN 114928235A
Authority
CN
China
Prior art keywords
power supply
control circuit
housing
frequency
supply device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202210128667.4A
Other languages
English (en)
Inventor
田坂泰久
山口英正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Publication of CN114928235A publication Critical patent/CN114928235A/zh
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/1305Feedback control systems
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M1/00Details of apparatus for conversion
    • H02M1/12Arrangements for reducing harmonics from AC input or output
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/062Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
    • B23K26/0622Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses

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Abstract

本发明涉及一种激光光源装置的电源装置,其目的之一在于提供一种能够降低共模电流对控制电路的影响的电源装置。一种电源装置(20),其具有向激光振荡器(110)供给短脉冲状的高频电压(Vr)的高频电源(300),该电源装置具备:控制电路(140),控制高频电源(300);控制电源(260),向控制电路(140)供给电力;金属制的第2框体(224),容纳控制电路(140)及控制电源(260);及金属制的第1框体(222),容纳第2框体(224)及高频电源(300)。第2框体(224)相对于第1框体(222)绝缘,并且第2框体(224)与第1框体(222)彼此分隔开。

Description

电源装置
本申请主张基于2021年2月12日申请的日本专利申请第2021-020650号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
技术领域
本发明涉及一种电源装置。
背景技术
已知有一种向激光光源装置供给高频电压的电源装置。本申请人在专利文献1中公开了一种电源装置。该电源装置向激光振荡器供给短脉冲(burst)状的高频电压。该电源装置具备激光控制装置,该激光控制装置根据将检测激光振荡器的脉冲激光的光检测器的检测信号进行平滑化而得的信号来调节电源装置的状态。
专利文献1:日本特开2019-192714号公报
本发明人等对激光光源装置的电源装置进行了研究,其结果发现了以下课题。
在激光光源装置的电源装置中,在向成为负载的激光振荡器供给短脉冲状的高频电压时,在光源装置中产生共模电流。该共模电流经由杂散电容和机架接地而传递至电源装置。若共模电流流入电源装置的控制电路中,则有可能会成为控制电路的错误动作或故障的原因。
发明内容
本发明是鉴于这种课题而完成的,本发明涉及一种激光光源装置的电源装置,其目的之一在于提供一种能够降低共模电流对控制电路的影响的电源装置。
为了解决上述课题,本发明的一种实施方式的电源装置具有向激光振荡器供给短脉冲状的高频电压的高频电源,该电源装置具备:控制电路,控制高频电源;控制电源,向控制电路供给电力;金属制的第2框体,容纳控制电路及控制电源;及金属制的第1框体,容纳第2框体及高频电源。第2框体相对于第1框体绝缘,并且第2框体与第1框体彼此分隔开。
另外,上述构成要件的任意组合或将本发明的构成要件或表述在方法、系统等之间相互替换而得的实施方式也作为本发明的实施方式而有效。
根据本发明,能够提供一种能够降低共模电流对控制电路的影响的电源装置。
附图说明
图1是具备第1实施方式的电源装置的激光加工系统的框图。
图2是表示图1的电源装置的侧视剖视图。
图3是用于说明图1的激光加工系统的动作的框图。
图4是图3的激光加工系统的动作波形图。
图5是表示具备第2实施方式的电源装置20的激光加工系统的框图。
图6是具备比较例的电源装置的激光加工系统的框图。
图7是表示图6的电源装置的侧视剖视图。
图中:10-光源装置,20-电源装置,24a-侧板部,24b-底板部,24m-空间,90-激光加工机,110-激光振荡器,140-控制电路,200-充电电源,222-第1框体,224-第2框体,260-控制电源,270-高频降低机构,300-高频电源。
具体实施方式
以下,参考各附图对本发明的优选实施方式进行说明。在实施方式及变形例中,对于相同或等同的构成要件及部件标注相同的符号,并适当省略重复说明。并且,为了便于理解,在各附图中,适当放大或缩小表示部件的尺寸。并且,在各附图中,省略对实施方式的说明中并不重要的部件的一部分。
并且,对于具有共同点的各个构成要件,在名称的开头标注“第1、第2”等而进行区分,并在统称时则省略这些。并且,包括第1、第2等编号的术语用于说明各种构成要件,但是该术语仅用于将一个构成要件与其他构成要件进行区分的目的,该术语并不用于限定构成要件。并且,为了区分构成要件彼此之间,有时会在符号的末尾标注为“A、B”等,并在不进行区分而进行统称时则省略这些。
[第1实施方式]
参考图1,对本发明的第1实施方式所涉及的电源装置20进行说明。图1是具备本实施方式的电源装置20的激光加工系统100的框图。激光加工系统100可以用作产业用的加工工具。电源装置20对光源装置10供给高频电压Vr。光源装置10包括被高频电压Vr激励而产生脉冲激光Lp的激光振荡器110(例如,CO2激光器),从而将脉冲激光Lp供给至激光加工机90。激光加工机90将供给过来的脉冲激光Lp经由规定的光学系统照射到对象物上从而进行开孔等加工。
电源装置20的第1框体222的机架接地(以下,称为“FG”)、光源装置10的框体122的FG及激光加工机90的框体922的FG通过地线22彼此连接在一起。地线22例如接地。
电源装置20包括整流器250、充电电源200、高频电源300、控制电源260及控制电路140。整流器250对所接收到的三相交流电压Vc进行整流从而生成整流电压Vp。充电电源200将整流电压Vp转换为直流电压Vd。高频电源300将直流电压Vd转换为高频电压Vr并供给至光源装置10。控制电源260对交流电压Vc进行整流/平滑化从而生成直流电压Vg(例如,5V),并将其供给至控制电路140。控制电路140在直流电压Vg下进行动作,并且向充电电源200及高频电源300供给用于控制定时或电平(Level)等的控制信号。
光源装置10具有激光振荡器110的一对放电电极11和检测从激光振荡器110输出的激光的强度的光检测器180。光检测器180例如为光电二极管(PD:Photo Diode)。光检测器180的基极电位侧线与框体122的FG连接。光检测器180的信号线12与控制电路140连接,从而将光检测器180的检测信号供给至控制电路140。
高频电源300以高频开关驱动开关元件(未图示)以产生激光产生用高频电压Vr,并将其供给至成为负载的光源装置10的激光振荡器110的放电电极11。
在以高频开关驱动了开关元件的情况下,根据开关元件的动作,在激光振荡器110的放电电极11与框体122之间反复施加高电压。在高频区域中,激光振荡器110的放电电极11与光源装置的框体122之间的寄生电容Cf的阻抗会下降,因此从激光振荡器110的放电电极11经由寄生电容Cf流向框体122的共模电流icom会变大。
在此,参考图6及图7对比较例的电源装置20B进行说明。图6是具备比较例的电源装置20B的激光加工系统100B的框图。该比较例为发明人等在研发本发明的电源装置20的过程中为了比较而采用的例子。比较例的光源装置10和激光加工机90的结构与本实施方式相同。比较例的电源装置20B与本实施方式的电源装置20的不同点在于控制电路140的基极电位侧线与第1框体222的FG连接从而彼此电连接,而其他结构则相同。
图7是表示电源装置20B的侧视剖视图。电源装置20B的第1框体222具有:方筒状的侧板部22a,对长方体空间22h的侧面进行区划;平板状的底板部22b,封闭侧板部22a的底部;及平板状的上盖部22c,封闭侧板部22a的顶棚部。侧板部22a、底板部22b及上盖部22c设为相同电位。在第1框体222内容纳有控制电源260、控制电路140、整流器250、充电电源200及高频电源300作为主电路,控制电源260、控制电路140、整流器250、充电电源200及高频电源300的基极电位侧线与第1框体222的FG连接。
在比较例中,控制电路140通过第1框体222及地线22与光源装置的框体122电连接,因此从激光振荡器110流向框体122的共模电流icom通过地线22及信号线12流入控制电路140。若这样的共模电流icom流入控制电路140,则有可能会成为控制电路140的错误动作或故障的原因。
接着,结合比较例的说明对本发明的电源装置20进行说明。图2是表示本实施方式的电源装置20的侧视剖视图。为了降低共模电流icom带来的影响,本实施方式的电源装置20具有第2框体224,该第2框体224容纳控制电源260和控制电路140,并且该第2框体224相对于第1框体222绝缘。并且,控制电路140的基极电位侧线并未与第1框体222的FG连接,而是连接到与第1框体222绝缘的第2框体224。
对第1框体222进行说明。第1框体222为金属制的箱状的壳体。第1框体222具有:方筒状的侧板部22a,对上下排列的下空间22j及上空间22k的侧面进行区划;平板状的底板部22b,封闭侧板部22a的底部;平板状的顶棚部22d,封闭侧板部22a的顶棚部;及平板状的隔板部22e,将下空间22j与上空间22k分隔开。在下空间22j内容纳有第2框体224,在第2框体224内容纳有控制电源260和控制电路140。在上空间22k内容纳有整流器250、充电电源200及高频电源300。
第2框体224为金属制的箱状的壳体。第2框体224具有:方筒状的侧板部24a,对空间24m的侧面进行区划;及平板状的底板部24b,封闭侧板部24a的底部。侧板部24a经由绝缘部件24p以从侧板部22a分开规定的距离而浮起的状态支承于侧板部22a的内侧。底板部24b经由绝缘部件24p以从底板部22b分开规定的距离而浮起的状态支承于底板部22b的上侧。通过采用该结构,第2框体224相对于第1框体222电绝缘。
若绝缘部件24p的分隔距离小,则共模电流icom有可能会经由它们之间的静电容量而泄漏到控制电路140。因此,该分隔距离设定成泄漏到控制电路140的共模电流icom成为所期望的电平以下。即,表示绝缘部件24p的分隔距离为5mm以上时可获得所期望的性能。在本实施方式中,作为一例,绝缘部件24p的分隔距离设定为20mm~30mm。
通过采用该结构,在本实施方式的电源装置20中,控制电路140的基极电位侧线与第1框体222之间的阻抗变高,因此能够限定由高频电源300及光源装置10的高频驱动而产生的共模电流icom迂回进入的路径。其结果,能够降低共模电流icom对控制电路140的影响。并且,第2框体224可以通过信号线12与光源装置的框体122的FG电接地。若第1框体222和第2框体224之间绝缘,则不会形成经由地线22、信号线12而通过第1框体222、第2框体224及框体122的回路,因此能够减少共模电流icom迂回进入控制电路140的量。
接着,参考图3及图4,对激光加工系统100的动作进行说明。图3是用于说明激光加工系统100的动作的框图。图4是激光加工系统100的动作波形图。
参考图3,对激光加工机90进行说明。激光加工机90对对象物902照射脉冲激光束904,从而对对象物902进行加工。对象物902的种类并不受特别限定,而且加工种类也并不受特别限定,例如可以有开孔(钻孔)、切割等,但并不只限于此。
激光加工机90具备光学系统910、加工机控制装置920及工作台930。对象物902载置于工作台930上,并且根据需要进行固定。
加工机控制装置920集中控制激光加工系统100。具体而言,加工机控制装置920向电源装置20输出定时信号S1及指定脉冲激光束的强度的强度指令S2。并且,加工机控制装置920根据表示加工处理的数据(recipe:配方)生成用于控制工作台930的位置控制信号S3。
工作台930根据来自加工机控制装置920的位置控制信号S3来对对象物902进行定位,并相对于对象物902和脉冲激光束904的照射位置中的一个扫描另一个。工作台930可以是单轴、双轴(XY)或三轴(XYZ)。
高频电源300及激光振荡器110以加工机控制装置920的定时信号S1作为触发而进行振荡,从而产生脉冲激光Lp。定时信号S1为取高电平或低电平两个值的脉冲信号,例如,高电平的区间成为发光区间,低电平的区间成为停止区间。脉冲激光Lp的发光区间中的强度根据强度指令S2来设定。光学系统910将基于脉冲激光Lp的脉冲激光束904照射到对象物902。光学系统910的结构并不受特别限定,可以包括用于将光束导向对象物902的反射镜组、用于光束整形的透镜、光圈等。
参考图3,对光源装置10进行说明。光源装置10具备激光振荡器110和光检测器180。激光振荡器110具备一对放电电极及形成激光谐振腔的一对反射镜等。
从激光振荡器110输出的脉冲激光Lp的一部分被光束分离器等分支并输入到光检测器180。光检测器180检测脉冲激光Lp的强度,并将第1检测信号Vs1供给至控制电路140。光检测器180具有能够检测各脉冲的强度的程度的高速响应性是重要的,因此优选使用量子型检测元件而不是热型检测元件。光检测器180所输出的第1检测信号Vs1成为与脉冲激光Lp的波形相对应的脉冲状的信号。
参考图3,对电源装置20进行说明。电源装置20生成高频电压Vr,并将其施加到激光振荡器110的一对放电电极。高频电压Vr的频率(称为同步频率)取决于激光振荡器110的一对放电电极的静电容量和伴随其的电感的共振频率。
参考图3,对充电电源200进行说明。充电电源200接收整流电压Vp,并基于其生成直流电压Vd。例如,从控制电路140向充电电源200输入指示直流电压Vd的目标电平的电压指令S5。电压指令S5可以是表示直流电压Vd的目标值的模拟的基准电压Ve,也可以是表示基准电压Ve的数字值。充电电源200将直流电压Vd的电平稳定为基准电压Ve。
参考图3,对高频电源300进行说明。高频电源300接收直流电压Vd,并将其转换为交流的高频电压Vr。高频电源300可以包括:逆变器,将直流电压Vd转换为交流电压;及变压器,对逆变器的输出进行升压。高频电压Vr的振幅与直流电压Vd成正比,因此脉冲激光Lp的有效强度可以根据电压指令S5(基准电压Ve)来控制。
参考图3,对控制电路140进行说明。从加工机控制装置920向控制电路140输入定时信号S1及强度指令S2。控制电路140在定时信号S1为高电平期间向电源装置20的逆变器供给同步频率的激励信号S4。由此,从电源装置20向激光振荡器110供给短脉冲状的高频电压Vr,激光振荡器110根据定时信号S1来交替地重复进行振荡和停止。典型地,定时信号S1的重复频率为1kHz~10kHz左右,脉冲宽度(即,激光的激励时间)为数十μs的量级。
控制电路140根据强度指令S2来生成基准电压Ve。由此,根据强度指令S2来控制高频电压Vr的振幅、甚至脉冲激光Lp的强度。
接着,对光源装置10的基本动作进行说明。图4是光源装置10的动作波形图。在图4中,从上朝下依次示出了定时信号S1、激励信号S4、高频电压Vr、流过激光振荡器110的放电电极的放电电流Id、脉冲激光Lp的强度。另外,为了便于理解,在本说明书中参考的波形图及时序图中,适当地放大或缩小表示了纵轴及横轴,并且为了便于理解,还简化、夸张或强调表示了各波形。
若在时刻t0定时信号S1变为高电平,则生成具有同步频率的激励信号S4。高频电源300根据激励信号S4而进行开关动作,从而将高频电压Vr供给至激光振荡器110。若高频电压Vr施加到激光振荡器110的放电电极,则产生放电,放电电流Id开始流动。激励信号S4在定时信号S1为高电平的导通时间(激励时间)Ton期间持续。
在开始放电后经过了一定的延迟时间的时刻t1,脉冲激光Lp的强度增加。激光脉冲的波形取决于激光振荡器的特性。在该例子中,上升之后立即显现出大峰值,之后,平坦部分持续。
若在时刻t2定时信号S1变为低电平,则激励信号S4停止,高频电压Vr也停止。如此一来,放电逐渐变弱,继而消失。脉冲激光Lp的强度也在时刻t2以后逐渐衰减。光源装置10通过重复进行该动作来生成脉冲激光Lp。
返回到图3,对控制电路140的基本动作进行说明。控制电路140接收从光检测器180供给过来的第1检测信号Vs1。控制电路140根据第1检测信号Vs1使脉冲激光Lp的强度(及能量)稳定化,从而降低温度或气体劣化等的影响。控制电路140包括将脉冲状的第1检测信号Vs1进行平滑化的平滑化电路142,根据经平滑化的第2检测信号Vs2来调节电源装置20的状态(动作参数)。平滑化电路142可以由模拟或数字的低通滤波器构成。关于低通滤波器的时间常数(即,截止频率),只要根据预想的定时信号S1的重复频率来确定即可,例如,低通滤波器的时间常数设定为1~20ms左右。例如,在定时信号S1的频率为1kHz~10kHz的情况下,若将低通滤波器的时间常数设为5ms,则时间常数成为定时信号S1的周期的5~50倍。平滑化电路142所生成的第2检测信号Vs2可以理解为表示第1检测信号Vs1的若干个连续的脉冲的有效强度的平均值。
控制电路140包括校正部144,该校正部144通过反馈控制校正电源装置20的动作参数,以使根据第2检测信号Vs2获得的激光的有效强度的检测值与其目标值一致。有效强度的目标值根据强度指令S2而生成。在本实施方式中,校正对象的动作参数为高频电压Vr的振幅,即,控制电路140校正直流电压Vd。
在激光振荡器110刚要进入发光期间之前,直流电压Vd稳定成目标电压Ve。激光振荡器110根据定时信号S1而振荡,从而生成表示脉冲激光Lp的强度的第1检测信号Vs1。
第1检测信号Vs1在平滑化电路142中被平滑化,从而生成第2检测信号Vs2。在该例子中,第2检测信号Vs2按照每个周期在发光之后立即通过A/D转换器转换为数字值。根据该数字值与其目标值之间的误差来生成校正量。
参考图3,对充电电源200进行说明。充电电源200具备电容器组202、充电电路210及充电控制器230。充电电源200与高频电源300通过直流母线204连接在一起。电容器组202与直流母线204连接。
在激光的一次照射结束之后,电容器组202放电,直流电压Vd下降。充电电路210向电容器组202供给充电电流Ic直至下一次照射为止以使直流电压Vd恢复。充电控制器230控制基于充电电路210的充电动作,以使直流母线204的直流电压Vd接近与电压指令S5相对应的目标电压Ve。例如,充电控制器230可以根据电压指令S5来控制充电电路210的充电时间及充电次数中的至少一方。
充电电路210可以由开关转换器(例如,降压DC/DC转换器)构成。充电控制器230可以通过先前的主充电和其后续的副充电来对电容器组202进行充电。
在主充电中,生成具有与电压指令S5相对应的脉冲宽度的单触发脉冲,使充电电路210进行一次开关动作,以粗精确度进行充电。由此,向电容器组202供给大的充电电流,直流电压Vd恢复到大致接近基准电压Ve的电平。接着,转移到副充电,使DC/DC转换器进行数次开关动作,以使直流电压Vd与基准电压Ve一致。
高频电源300具备升压变压器302及逆变器310。升压变压器302的二次绕组W2与激光振荡器110的放电电极连接。逆变器310例如包括全桥电路等。逆变器310的电源端子供给有直流电压Vd。逆变器310根据激励信号S4来进行开关动作,对升压变压器302的一次绕组W1施加交流电压Va,从而使二次绕组W2产生高频电压Vr。另外,逆变器310及升压变压器302的结构并不受特别限定。
以上,对激光加工系统100的动作进行了说明。
接着,对上述结构的本实施方式的电源装置20的特征进行说明。电源装置20具有向激光振荡器110供给短脉冲状的高频电压Vr的高频电源300,该电源装置具备:控制电路140,控制高频电源300;控制电源260,向控制电路140供给电力;金属制的第2框体224,容纳控制电路140及控制电源260;及金属制的第1框体222,容纳第2框体224及高频电源300。第2框体224相对于第1框体222绝缘,并且第2框体224与第1框体222彼此分隔开。
根据该结构,通过使容纳控制电路140的金属制第2框体224从第1框体222浮起,能够切断共模电流icom通过框体的FG流向控制电路140的路径的一部分。其结果,能够减少由共模电流icom引起的控制电路140的故障或错误动作。
在本实施方式中,第2框体224经由绝缘部件以与第1框体222分开规定的距离的状态支承于所述第1框体222,因此能够将第2框体224相对于第1框体222电绝缘。
在本实施方式中,第2框体224通过信号线12与包括激光振荡器110的光源装置10的框体122电连接,因此,若第1框体222与第2框体224之间绝缘,则不会形成经由地线22、信号线12而通过第1框体222、第2框体224及框体122的回路。其结果,能够减少共模电流icom迂回进入控制电路140的量。
在本实施方式中,第2框体224具有:侧板部24a,对容纳控制电路140及控制电源260的空间的侧面进行区划;及底板部24b,封闭侧板部24a的底部,因此,能够减少由共模电流icom引起的控制电路140及控制电源260的错误动作或故障。
在本实施方式中,控制电路140接收来自检测从激光振荡器110输出的激光的强度的光检测器180的检测信号,因此,根据将检测信号进行平滑化而得的信号能够调节电源装置20的动作参数。
[第2实施方式]
接着,对本发明的第2实施方式所涉及的电源装置20的概要进行说明。在第2实施方式的附图及说明中,对与第1实施方式相同或等同的构成要件及部件标注相同符号。适当省略与第1实施方式重复的说明,重点对与第1实施方式不同的结构进行说明。图5是表示具备本实施方式的电源装置20的激光加工系统100的框图,其对应于图1。
本实施方式与第1实施方式的区别在于,在从控制电源260向控制电路140供给电力的路径上设置有用于减少高频信号的传递的高频降低机构270,其他结构则相同。省略重复说明,重点对高频降低机构270进行说明。关于高频降低机构270,只要能够减少在控制电源260与控制电路140之间的路径中相互传递高频信号即可。在图5的例子中,高频降低机构270为共模扼流圈。共模扼流圈是相对于非共模电流成为低阻抗而相对于共模电流成为高阻抗的元件。共模扼流圈能够减少控制电源260与控制电路140之间的共模电流的相互传递。
根据本实施方式,也能够发挥与第1实施方式相同的作用和效果。而且,根据本实施方式,由于在从控制电源260向控制电路140供给电力的路径上设置有用于减少高频信号的传递的高频降低机构270,因此能够提高共模电流ic om有可能会迂回进入的控制电源260与控制电路140之间的路径上的高频阻抗,能够减少从该路径迂回进入控制电路140的共模电流icom。其结果,能够进一步减少由共模电流icom引起的控制电路140的故障或错误动作。并且,在本实施方式中,由于高频降低机构270包括共模扼流圈,因此能够进一步减少共模电流icom的迂回进入量。
并且,第2框体224也可以通过信号线12与光源装置的框体122的FG电连接。若第1框体222与第2框体224之间绝缘,则不会形成经由地线22及信号线12而通过第1框体222、第2框体224及框体122的回路,因此能够减少共模电流icom迂回进入控制电路的量。而且,若有高频降低机构264,则能够进一步减少迂回进入量。
以上,对本发明的实施方式的例子进行了详细说明。上述的实施方式均仅表示用于实施本发明的具体例。实施方式的内容并不用于限定本发明的技术范围,在不脱离技术方案中所限定的发明的思想的范围内,能够进行构成要件的变更、追加、删除等多种设计变更。在上述实施方式中,关于能够进行这样的设计变更的内容,标注了“实施方式的”、“在实施方式中”等语句进行了说明,但是,并不意味着没有这样的语句的内容就不允许进行设计变更。
[变形例]
以下,对变形例进行说明。在变形例的附图及说明中,对与实施方式相同或等同的构成要件及部件标注相同符号。适当省略与实施方式重复的说明,重点对与实施方式不同的结构进行说明。
在实施方式中,对第1框体222具有将下空间22j与上空间22k分隔开的隔板部22e的例子进行了说明,但并不只限于此。例如,第1框体222也可以不具有隔板部22e。
在实施方式中,对第2框体224的顶棚侧开放的例子进行了说明,但并不只限于此。例如,也可以在第2框体224的顶棚侧设置盖子。
在实施方式中,对第2框体224为箱状的例子进行了说明,但并不只限于此。例如,第2框体224也可以是板状。
在实施方式中,对控制电路140从加工机控制装置920接收定时信号S1和强度指令S2的例子进行了说明,但并不只限于此。控制电路140并非一定要从加工机控制装置920接收信号。
在实施方式中,对控制电源260不具备隔离变压器的例子进行了说明,但是,控制电源260也可以具备隔离变压器。
上述的各实施方式及变形例的任意组合也作为本发明的实施方式而有效。通过组合而产生的新的实施方式兼具所组合的实施方式及变形例各自的效果。

Claims (7)

1.一种电源装置,其具有向激光振荡器供给短脉冲状的高频电压的高频电源,所述电源装置的特征在于,具备:
控制电路,控制所述高频电源;
控制电源,向所述控制电路供给电力;
金属制的第2框体,容纳所述控制电路及所述控制电源;及
金属制的第1框体,容纳所述第2框体及所述高频电源,
所述第2框体相对于所述第1框体绝缘,并且所述第2框体与所述第1框体彼此分隔开。
2.根据权利要求1所述的电源装置,其特征在于,
所述第2框体经由绝缘部件以与所述第1框体分开规定的距离的状态支承于所述第1框体。
3.根据权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于,
所述第2框体通过信号线与包括所述激光振荡器的光源装置的框体电连接。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的电源装置,其特征在于,
所述第2框体具有:侧板部,对容纳所述控制电路及所述控制电源的空间的侧面进行区划;及底板部,封闭所述侧板部的底部。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的电源装置,其特征在于,
所述控制电路接收来自检测从所述激光振荡器输出的激光的强度的光检测器的检测信号。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的电源装置,其特征在于,
在从所述控制电源向所述控制电路供给电力的路径上设置有用于减少高频信号的传递的高频降低机构。
7.根据权利要求6所述的电源装置,其特征在于,
所述高频降低机构包括共模扼流圈。
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