[go: up one dir, main page]

CN1147921C - 氮化物半导体的生长方法、半导体器件及其制造方法 - Google Patents

氮化物半导体的生长方法、半导体器件及其制造方法

Info

Publication number
CN1147921C
CN1147921C CNB991243889A CN99124388A CN1147921C CN 1147921 C CN1147921 C CN 1147921C CN B991243889 A CNB991243889 A CN B991243889A CN 99124388 A CN99124388 A CN 99124388A CN 1147921 C CN1147921 C CN 1147921C
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
nitride
iii
group
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CNB991243889A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1258094A (zh
Inventor
日野智公
春
浅野竹春
纪
朝妻庸纪
次
喜嶋悟
隆
船户健次
富谷茂隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Publication of CN1258094A publication Critical patent/CN1258094A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1147921C publication Critical patent/CN1147921C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02367—Substrates
    • H01L21/0237—Materials
    • H01L21/02373—Group 14 semiconducting materials
    • H01L21/02378—Silicon carbide
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02367—Substrates
    • H01L21/0237—Materials
    • H01L21/02373—Group 14 semiconducting materials
    • H01L21/02381—Silicon, silicon germanium, germanium
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02367—Substrates
    • H01L21/0237—Materials
    • H01L21/0242—Crystalline insulating materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
    • H01L21/02439—Materials
    • H01L21/02455—Group 13/15 materials
    • H01L21/02458—Nitrides
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518—Deposited layers
    • H01L21/02521—Materials
    • H01L21/02538—Group 13/15 materials
    • H01L21/0254—Nitrides
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612—Formation types
    • H01L21/02617—Deposition types
    • H01L21/02636—Selective deposition, e.g. simultaneous growth of mono- and non-monocrystalline semiconductor materials
    • H01L21/02639—Preparation of substrate for selective deposition
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
    • H01L21/0332—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their composition, e.g. multilayer masks, materials
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/20—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
    • H01S5/2054—Methods of obtaining the confinement
    • H01S5/2077—Methods of obtaining the confinement using lateral bandgap control during growth, e.g. selective growth, mask induced
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
    • H01S5/323—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
    • H01S5/32308—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
    • H01S5/32341—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

在衬底上制作至少上表面为氮化物的多层薄膜作为生长掩模并利用生长掩模选择生长III-V族氮化物半导体。生长掩模可以是氧化物和其上的氮化物；金属和其上的氮化物；氧化物、由氮化物和氧化物组成的薄膜以及其上的氮化物；或第一金属，其上与第一金属不同的第二金属和其上的氮化物。氧化物可以是SiO2，氮化物可以是TiN或SiN，由氮化物和氧化物组成的薄膜可以是SiNO，金属可以是Ti或Pt。

Description

氮化物半导体的生长方法、 半导体器件及其制造方法
本发明的领域
本发明涉及特别适于应用在采用III-V族氮化物半导体的半导体激光器、发光二极管或电子传递器件中的III-V族氮化物半导体的生长方法、半导体器件的制造方法及半导体器件。
相关技术的描述
GaN化合物半导体是直接跃迁型半导体，具有1.9eV(电子伏)至6.2eV的禁带宽度并能实现可发射从可见光谱到紫外光谱的宽范围内的光线的器件。由于这些性质，近来引起很大兴趣并且发展迅猛。除此之外，GaN半导体用作电子传递器件，如场效应晶体管，具有很大前途。GaN的饱和电子速度大约为2.5×107cm/s，比Si、GaAs及SiC的大，并且其击穿电场高达约5×106V/cm列在金刚石之后。由于这些原因，一直期望GaN半导体成为高频、高温及高功率电子传递器件的大有希望的材料。
这些半导体器件，一般是由在衬底上生长的GaN半导体制作。因此，GaN半导体的晶体质量对于保证及改进这些半导体器件的性能至关重要。然而，由于不存在与GaN晶格匹配良好的合适的衬底，所以生长GaN半导体主要使用蓝宝石，蓝宝石与GaN的晶格失配很大。
与衬底的晶格匹配失败大大影响在其上生长的GaN化合物半导体的晶体性质，并且可以成为在GaN半导体层中产生晶体缺陷的重要因素。
为减少晶体缺陷，通常是采用在低温下在蓝宝石衬底上生长GaN或AIN缓冲层，之后将衬底温度提高到大约1000℃使其再结晶，并在其后在其上生长GaN半导体，从而可改善GaN半导体的质量(比如，Appl.Phys.Lett.48(1986)353，Jpn.J.Appl.Phys.30(1991)L1705)。
但是，即使采用这一技术，晶体缺陷的减少也很有限，并且缺陷密度(特别是螺线位错)仍然是高达108至1010cm-2。
为了减小这种缺陷的密度，有报告说在通常用于生长III-V族化合物半导体如GaN的衬底上按通常的方法生长GaN层，之后在GaN层上设置绝缘薄膜，比如氧化硅薄膜，作为掩模，其形状为在GaN层上在<11-20>方向上以预定间隔延伸的长条形，并在其后利用氢化物汽相外延(HVPE)选择生长GaN层(比如，Jpn.J.Appl.Phys.36(1997)L899)。这一方法可以有把握地将螺线位错密度减少到大约6×107cm-2。
也还有其他在衬底上通过制作在衬底上的在与上述例子中的方向相差90°的方向上延伸的掩模进行选择生长并在选择生长的薄膜上制作半导体发光结构的方法。这一方法是在蓝宝石衬底上，比如利用金属有机物化学汽相淀积(MOCVD)，生长GaN层，然后制作在<1-100>方向上以预定间隔延伸的长条形的氧化硅掩模，其后利用MOCVD法在其上生长GaN层并且接着制作发光结构(Appl.Phys.Lett.72(1998)211，Jpn.J Appl.Phys.36(1997)L899)。据这些报告称，螺线位错的密度可减小到大约1×107cm-2。在这些例子中证实了上面制作的半导体激光器的寿命可延长到1000小时以上。
然而，据本专利发明人的了解，采用上述的通常的生长方法所得到的GaN半导体层在靠近与衬底的边界处仍然包含大量的晶体缺陷，并且缺陷密度并未显著减少。
本发明的目的
因此，本发明的目的就是提供一种能够生长高质量低晶体缺陷密度的单晶III-V族氮化物半导体的III-V族氮化物半导体生长方法，并且也涉及采用这种生长方法制造的半导体器件及半导体器件的制造方法。
发明人进行了研究来克服通常技术中的问题。这些研究总结如下。
图1和2示出X射线衍射光谱的测量结果，所取的每个试样都是通过在c-平面蓝宝石衬底上制作的在<1-100>方向上以预定间隔延伸的长条形的SiO2掩模在c-平面蓝宝石衬底上以MOCVD方法生长GaN层制备而成的，并且一个试样上X射线的入射是在与掩模成水平的方向上(见图3)，而在另一个试样上X射线的入射是在与掩模成垂直的方向上(见图4)。
由图1和2证实，尽管c-轴倾斜在X射线平行入射掩模的试样中显示单峰特性，但在X射线垂直入射掩模的试样中却显示多峰特性。通过透射电镜(TEM)分析发现，纵向晶轴在选择生长掩模区和无掩模区上的三个位置处发生偏斜，如图5所示。在图5中，掩模上的晶轴倾斜不限于所示的示例。
如选择生长薄膜包含晶轴的任何倾斜，特别是如果它包含如上所述的不连续变化，则可以推断沿边界引进了晶格缺陷，如位错。实际上，借助TEM观察到了位错，并且这种缺陷的引进或许就是制作于其上的半导体激光器特性恶化的因素。
经过各种研究的结果本发明发现，采用氮化物来形成掩模的最外表面层可有效地防止在选择生长掩模上生长的薄膜的晶轴的倾斜。
图6和7示出X射线衍射光谱的测量结果，所取的每个试样都是通过在c-平面蓝宝石衬底上制作的在<1-100>方向上以预定间隔延伸的长条形的SiO2上以堆积SiN薄膜方式形成的SiN/SiO2掩模在c-平面蓝宝石衬底上以MOCVD方法生长GaN层制备而成的，并且一个试样上X射线的入射是在与掩模成水平的方向上(见图3)，而在另一个试样上X射线的入射是在与掩模成垂直的方向上(见图4)。
由图6和7证实，通过利用最外表面层是SiN的掩模进行的选择生长，则无论入射到掩模的X射线的方向是平行还是垂直，每个试样只显示一个代表晶轴倾斜的峰。除此之外，还证实代表晶轴倾斜变化的半高全宽值处于测量范围之内。这显示出选择生长薄膜的高结晶质量。
这并不意味着选择生长薄膜的晶轴如图5所示在每个区域都改变，但的确，如图8所示，显示纵向晶轴在整个选择生长薄膜上定向，并且整个薄膜质量均匀。
特别是在采用III-V族氮化物半导体的半导体发光器件中，如用作选择生长的掩模是采用氮化硅或氮化钛作为形成掩模的最外表面层并采用钛作为底层，选择生长比只采用钛作为选择生长掩模的情况要容易，因为是更稳定的氮化物形成表面。除此之外，当采用钛作为n侧电极时，在n型层中的通常只在横向方向上流动的电流很容易在纵向方向上流动。因此，其操作电压可降低。
由图7B和7C可证实，与采用最外表面层是SiN的掩模的选择生长类似，甚至在采用最外表面层是TiN的掩模的选择生长中，每个试样都显示表示晶轴倾斜的单峰，无论是在平行于掩模的方向还是在垂直于掩模的方向。
除此之外，证实代表晶轴倾斜变化的半高全宽值处于测量范围之内。这显示出选择生长薄膜的高结晶质量。
本发明是通过发明人的这些研究而完成的。
根据本发明的第一实施方案可提供一种用来在衬底上形成生长掩模并通过采用生长掩模在衬底上选择生长III-V族氮化物半导体的III-V族氮化物半导体的生长方法，其特征在于：
采用至少其上表面由氮化物组成的多层薄膜作为生长掩模。
根据本发明的第二实施方案可提供一种半导体器件的制造方法用来在衬底上形成生长掩模并通过采用生长掩模在衬底上选择生长III-V族氮化物半导体，其特征在于：
采用至少其上表面由氮化物组成的多层薄膜作为生长掩模。
根据本发明的第三实施方案可提供一种采用III-V族氮化物半导体的半导体器件，其特征在于：
在衬底上形成生长掩模，其中至少其上表面是氮化物，并且III-V族氮化物半导体是通过采用生长掩模在衬底上选择生长的。
在本发明中，在形成生长掩模的多层薄膜表面上的氮化物基本上可以是任何氮化物。但是，其具体例子是氧化硅(SiN)和氮化钛(TiN)。氮化物的厚度最好是在1nm至3μm的范围。多层薄膜可以是各种组合中的任何一种，比如氧化物薄膜和其上的氮化物薄膜的组合；金属薄膜和其上的氮化物薄膜的组合；氧化物薄膜，其上由氮化物和氧化物组成的薄膜，以及其上的氮化物薄膜的组合；以及第一金属薄膜，其上与第一金属薄膜不同的第二金属薄膜和其上的氮化物薄膜。氧化物薄膜比如可以是氧化硅薄膜，氮化物薄膜可以是金属氮化物薄膜，如氮化硅(SiN)薄膜或氮化钛(TiN)薄膜，金属薄膜可以是钛(Ti)薄膜或铂(Pt)薄膜，由氮化物和氧化物组成的薄膜，比如可以是缓变的氮氧化硅(SiN1-xOx(其中0＜x＜1))薄膜。如果愿意，这些多层薄膜中的任何一个都可以在一个或多个边界上在组分上是缓变的。
生长掩模的构形可从各种构形中适当选择。其典型构形是相对衬底在一个方向上延伸的长条状。
在本发明中，在衬底上形成形式为包含氮化物用来至少形成其上表面的多层薄膜的第一生长掩模之后，在衬底上利用该第一生长掩模选择生长第一III-V族氮化物半导体，并在其后在衬底上第一生长掩模未覆盖的地方的上面形成形式为包含氮化物来至少在第一III-V族氮化物半导体上形成其上表面的多层薄膜的第二生长掩模，而第二III-V族氮化物半导体可借助第二生长掩模在第一III-V族氮化物半导体上选择生长。
在本发明中，生长掩模可用作电极。在这种场合，生长掩模必须包含导电薄膜，如金属薄膜，作为其底层，或包含导电氮化物作为其上表面。生长掩模的具体的例子为金属薄膜和其上的氮化物薄膜的组合；金属薄膜，其上由氮化物和氧化物组成的薄膜，以及其上的氮化物薄膜的组合；第一金属薄膜，其上与第一金属薄膜不同的第二金属薄膜和其上的氮化物薄膜；氧化物薄膜和其上的氮化钛薄膜的组合；金属薄膜和其上的氮化钛薄膜的组合；氧化物薄膜，其上由氮化物和氧化物组成的薄膜，以及其上的氮化钛薄膜的组合；以及第一金属薄膜，其上与第一金属薄膜不同的第二金属薄膜和其上的氮化钛物薄膜。与前述相同的薄膜可用作氧化物薄膜、金属薄膜以及由氮化物和氧化物组成的薄膜。
在本发明中，衬底可为蓝宝石衬底、SiC衬底、其上生长有或没有III-V族氮化物半导体的Si衬底或尖晶石衬底。
在本发明中，可用作生长III-V族氮化物半导体的有金属有机物化学汽相淀积(MOCVD)、氢化物汽相外延(HVPE)以及分子束外延(MBE)。
在本发明中，III-V族氮化物半导体由从Ga、Al、In、B及Tl一组中选择的至少一种III族元素以及一种或一种以上至少包含N并可能另外包含(如合适时)As或P的V族元素。III-V族氮化物半导体的具体例子为GaN、AlGaN、AlN、GaInN、AlGaInN及InN。
在具有上面总结的结构的本发明中，由于包含至少形成其上表面的氮化物的多层薄膜是用作生长掩模，在选择生长III-V族氮化物半导体期间，在上表面上的氮化物使生长掩模的纵向晶轴定向，并从而减少生长层的纵向晶轴不规则定向。
本发明的上述及其他目的、特征及优点，在参考附图阅读下面的本发明的详细描述时将会很容易了解。
附图简介
图1为示出通过使X射线相对掩模平行入射到利用SiO2掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图2为示出通过使X射线相对掩模垂直入射到利用SiO2掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图3为示出X射线相对掩模平行入射时的情况的示意图；
图4为示出X射线相对掩模垂直入射时的情况的示意图；
图5示意地示出利用SiO2掩模作为生长掩模时选择生长的GaN层的晶轴的倾斜；
图6为示出通过使X射线相对掩模平行入射到利用SiN/SiO2掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图7A为示出通过使X射线相对掩模垂直入射到利用SiN/SiO2掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图7B为示出通过使X射线相对掩模平行入射到利用SiN/SiO2掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图7C为示出通过使X射线相对掩模垂直入射到利用TiN掩模作为生长掩模选择生长的GaN层上时对X射线衍射光谱的测量结果的曲线图；
图8为示意地示出利用包含至少氮化物形成其上表面的生长掩模选择生长的GaN层的晶轴的倾斜；
图9为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图10为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图11为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图12为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图13为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图14为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的剖视图；
图15为用于说明根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器中的电流通路的剖视图；
图16为用于说明不采用导电生长掩模的GaN化合物半导体激光器中的电流通路的剖视图；
图17为用于说明根据本发明第二实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法的透视图。
优选实施方案的详细描述
下面参考附图说明本发明的实施方案。在所有说明实施方案的附图中同一或等效元件采用同一标号。
图9至图14示出根据本发明第一实施方案的GaN化合物半导体激光器制造方法。此处示出的GaN半导体激光器具有SCH结构(分别限制异质结构)。
在第一实施方案中，首先，如图9所示，在具有预先清洗过的表面的c-平面蓝宝石衬底1上生长包含未掺杂GaN层及n型GaN覆盖层的n型GaN/未掺杂GaN层2。为生长n型GaN/未掺杂GaN层2，可采用比如MOCVD、HVPE及MBE中任何一种。其次，在n型GaN/未掺杂GaN层2上顺序形成由氧化物和金属组成的第一薄膜3、由氮化物和氧化物组成的第二薄膜4以及由导电氮化物组成的第三薄膜5。更具体说来，比如，可采用SiO2薄膜、Ti薄膜或Pt薄膜作为第一薄膜3，比如，可采用SiN1-xOx(0＜x＜1)薄膜、Ti薄膜或Pt薄膜作为第二薄膜4，并且，比如，采用TiN薄膜或SiN薄膜作为第三薄膜5。由于由这些第一薄膜3、第二薄膜4和第三薄膜5组成的生长掩模用作后面将要说明的电极，第一薄膜3和第三薄膜5中至少一个必须是导电的。在采用金属薄膜，如TiN薄膜或SiN薄膜作为第一薄膜3的场合，比如，第三薄膜5可以是TiN薄膜或SiN薄膜中任何一个。如第一薄膜3是氧化物薄膜，如SiO2薄膜，第三薄膜5应该是导电的TiN薄膜。制作这些第一薄膜3、第二薄膜4和第三薄膜5，可采用比如真空蒸发、溅射或CVD工艺。用作第三薄膜5的TiN薄膜可直接形成或者首先制作Ti薄膜然后在热铵(NH3)中将Ti薄膜退火使其氮化。如需要，在制作第一薄膜3、第二薄膜4和第三薄膜5之前，比如使用氢氟酸对n型GaN/未掺杂GaN层进行腐蚀处理，以从其上去除尘埃或氧化膜。
其次，如图10所示，通过光刻在第三薄膜5上以预定间隔形成抗蚀图形6，其形状为垂直于半导体激光器的长条方向延伸的长条。抗蚀图形6的延伸方向可垂直于比如c-平面蓝宝石衬底1的<11-20>方向。
其次，如图11所示，利用抗蚀图形6作为掩模依次对第三薄膜5、第二薄膜4和第一薄膜3进行刻蚀以形成包含这些第一薄膜3、第二薄膜4和第三薄膜5的生长掩模7。生长掩模7的宽度可适当确定为比如4.8μm。为对其进行刻蚀，可采用反应离子刻蚀(RIE)等干刻蚀或采用氢氟酸等刻蚀剂的湿法刻蚀。
其次，如图12所示，去除抗蚀图形6。
之后，已经形成生长掩模7的c-平面蓝宝石衬底1装入MOCVD装置的反应管内。此反应管比如由石英或不锈钢制作。同时装入反应管的可以有比如三甲基镓(TMG)或三乙基镓(TEGa)作为Ga的源材料，氢(H2)或氮(N2)作为载气，以及，比如硅烷(SiH4)作为n型掺杂剂。在此场合，为保证良好的选择生长，应调节源材料的供应量以便最好是将生长速率限制为不大于6μm。衬底温度设定为比如500℃至1200℃的范围内，应当注意，低于500℃的低温不能给提供已经形成生长掩模7的c-平面蓝宝石衬底1上的源材料足够的迁移能量，而超过1200℃的高温不能保证足够的生长速率，因为源材料的粘着系数过分降低并且不能保证反应管的安全。这样一来，如图13所示，在已经形成生长掩模7的n型GaN/未掺杂GaN层2上出现选择生长，可以得到纵向晶轴分布大大减小并且具有良好结晶质量的n型GaN层8的连续薄膜。
其次，在图14中，通过在n型GaN层8上顺序生长n型GaN层9、n型AlGaN包层10、n型GaN光波导层11、具有比如Ga1-xInxN/Ga1-yInyN多量子阱结构的有源层12、p型GaN光波导层13、p型AlGaN包层14及p型GaN接触层15。在此场合，由于作为它们的基层的n型GaN层是具有低晶体缺陷密度的高质量单晶材料，所以这些层也生长为具有低晶体缺陷密度的高质量单晶。对于生长不包含In的各层，即n型AlGaN包层10、n型GaN光波导层11、p型GaN光波导层13、p型AlGaN包层14及p型GaN接触层15，生长温度设定为比如大约1000℃，而对于生长包含In的层，即具有Ga1-xInxN/Ga1-yInyN多量子阱结构的有源层12，生长温度设定为比如大约700℃。在一个示例中，这些层的厚度分别为：n型GaN层9为3μm，n型AlGaN包层10为0.5μm，n型GaN光波导层11为0.1μm，p型GaN光波导层12为0.1μm，p型AlGaN包层14为0.5μm，而p型GaN接触层15为0.5μm。在n型AlGaN包层10和p型AlGaN包层14中Al组分比如为0.1。n型GaN层9、n型AlGaN包层10及n型GaN光波导层11比如用Si作为其施主进行掺杂，并且p型GaN光波导层13、p型AlGaN包层14及p型GaN接触层15比如用Mg作为其受主进行掺杂。之后，进行退火以便电激活经掺杂进入这些层的施主和受主，特别是掺杂到p型GaN光波导层13、p型AlGaN包层14和p型GaN接触层15中的受主。退火温度比如大约为700℃。
之后，在p型GaN接触层15上形成具有预定宽度的长条形抗蚀图形(图中未示出)，比如在c-平面蓝宝石衬底1的<11-20>方向上延伸。利用抗蚀图形作为掩模，比如通过RIE对各层进行刻蚀，直到暴露出n型GaN/未掺杂GaN层2和生长掩模7以构图p型GaN接触层15、p型AlGaN包层14、p型GaN光波导层13、有源层12、n型GaN光波导层11、n型AlGaN包层10、n型GaN层9及n型GaN层8形成台面构造。
之后，去除用作抗蚀掩模的抗蚀图形。之后，在p型GaN接触层15上形成比如由Ni/Au薄膜或Ni/Pt/Au薄膜制作的p侧电极，并在n型GaN/未掺杂GaN层2及与台面部分邻接处的生长掩模7上形成比如由Ti/Al薄膜制作的n侧电极17。n侧电极17通过n型GaN/未掺杂GaN层2与n型GaN层8电连接。
之后，用例如解理将通过这些步骤已经形成激光结构的c-平面蓝宝石衬底1分割成条，以便制作相对的腔缘，并在这些腔缘上涂敷腔缘涂层。之后，通过比如解理将每条分割为芯片。通过这些步骤所要求的具有SCH结构的GaN化合物半导体激光器就完成了。
如上所述，根据本发明的第一实施方案，由于具有良好结晶质量纵向晶轴定向一致的n型GaN层8是利用生长掩模7通过选择生长而生长的，并且形成激光器结构的GaN化合物半导体层是在n型GaN层上生长的，所以可以实现性能优异寿命长可靠性高的GaN化合物半导体激光器。
除此之外，在根据第一实施方案的GaN半导体激光器中，由于生长掩模7的顶层和底层至少一个是具有低电阻率的金属薄膜或TiN薄膜，在工作期间引入p侧电极16和n侧电极17之间的电流流过生长掩模7时的电阻很小，如图15所示。因此，n型GaN/未掺杂GaN层2的厚度和载流子浓度不会影响工作电压，因而就可能减小工作电压。这与图16中所示的激光器相比较就具有优越性，图16中的激光器没有采用在第一实施方案中的导电生长掩模，所以引入p侧电极16和n侧电极17之间的电流流入具有比金属和TiN薄膜的电阻率高的n型GaN/未掺杂GaN层，而工作电压就会受到n型GaN层8的厚度及载流子浓度的影响。
下面说明根据本发明的第二实施方案的GaN半导体激光器的制作方法。此处示出的GaN半导体激光器具有SCH结构。
如图17所示，在第二实施方案中，生长掩模7是在平行于半导体激光器的长条方向上延伸而形成。生长掩模7是多层薄膜，其中至少上表面是由氮化物组成。在此场合，氮化物可以是导电的，也可以是绝缘的。与第一实施方案一样，n型GaN层8是利用生长掩模7选择生长的，并且n型GaN层9、n型AlGaN包层10、n型GaN光波导层11、具有比如Ga1-xInxN/Ga1-yInyN多量子阱结构的有源层12、p型GaN光波导层13、p型AlGaN包层14及p型GaN接触层15顺序生长在n型GaN层8上。
之后，在p型GaN接触层15上形成具有预定宽度的长条形抗蚀图形(图中未示出)，比如在c-平面蓝宝石衬底1的<11-20>方向上延伸。利用抗蚀图形作为掩模，比如通过RIE对各层进行刻蚀，直到暴露出n型GaN层9以构图p型GaN接触层15、p型AlGaN包层14、p型GaN光波导层13、有源层12、n型GaN光波导层11及n型AlGaN包层1形成台面构造。
之后，去除用作抗蚀掩模的抗蚀图形。之后，在p型GaN接触层15上形成p侧电极，并在n型GaN层9与台面部分连接处上形成n侧电极17。
之后，将通过这些步骤已经形成激光结构的c-平面蓝宝石衬底1比如经解理分割成条，以便制作相对的腔缘，并在这些腔缘上涂敷腔缘涂层。之后，比如通过解理将每条分割为芯片。通过这些步骤所要求的具有SCH结构的GaN化合物半导体激光器就完成了。
如上所述，根据本发明的第二实施方案，由于具有良好结晶质量纵向晶轴定向一致的n型GaN层8是利用生长掩模7通过选择生长而生长的，并且形成激光器结构的GaN化合物半导体层是在n型GaN层上生长的，所以可以实现性能优异寿命长可靠性高的GaN化合物半导体激光器。
上面参考附图描述了本发明的具体实施方案，但应当了解，本发明不受这些精确的实施方案的限制，并且在不脱离由后附的权利要求确定的本发明的范围和精神的情况下熟练的技术人员可以对其进行各种改变和修改。
比如，在第一和第二实施方案中的上面中提出的数值、结构、衬底、源材料和加工过程只不过是示例，并且可以使用任何其他合适的数值、结构、衬底、源材料和加工过程。
在第一和第二实施方案中说明的生长掩模7是在c-平面蓝宝石衬底1的<11-20>方向上延伸。然而，长条形的生长掩模7的方向也可以比如是<1-100>方向。
在第一和第二实施方案中，是利用c-平面蓝宝石衬底作为衬底。然而，如需要，也可使用比如SiC衬底、Si衬底或尖晶石衬底。
此外，说明第一和第二实施方案时是将本发明应用于GaN半导体激光器制造，但无须说，本发明也可用于制作GaN发光二极管，以及GaN化合物场效应晶体管及其他GaN化合物电子传递器件。
如上所述，根据本发明的III-V族氮化物半导体的生长方法可利用至少在上表面形成有作为生长掩模的氮化物的多层薄膜来生长高质量低晶体缺陷密度的单晶III-V族氮化物半导体。
此外，根据本发明的半导体器件的制作方法可利用至少在上表面形成有作为生长掩模的氮化物的多层薄膜来生长高质量低晶体缺陷密度的单晶III-V族氮化物半导体，并且因而可利用此种III-V族氮化物半导体制作具有良好特性的高性能半导体器件。
另外，利用根据本发明的半导体器件可使用利用至少在上表面形成有作为生长掩模的氮化物的多层薄膜来选择生长的高质量低晶体缺陷密度的单晶III-V族氮化物半导体制作具有良好特性的高性能半导体器件。

Claims (22)

1.一种III-V族氮化物半导体的生长方法，包括在衬底上形成生长掩模并通过采用生长掩模在衬底上选择生长III-V族氮化物半导体的步骤，其特征在于：
采用至少其上表面由氮化物组成的多层薄膜作为生长掩模。
2.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述氮化物是氮化硅或氮化钛。
3.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述多层薄膜包含氧化物薄膜和其上的氮化物薄膜。
4.如权利要求3中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述氧化物薄膜是氧化硅薄膜，而所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
5.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述多层薄膜包含金属薄膜和其上的氮化物薄膜。
6.如权利要求5中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述金属薄膜是钛薄膜或铂薄膜，而所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
7.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述多层薄膜包含氧化物薄膜、由在所述氧化物薄膜上的氮化物及氧化物组成的薄膜以及其上的氮化物薄膜。
8.如权利要求7中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述氧化物薄膜是氧化硅薄膜，所述由氮化物及氧化物组成的薄膜是氮氧化硅薄膜，而所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
9.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述多层薄膜包含第一金属薄膜，与所述第一金属薄膜不同并覆盖所述第一金属薄膜的第二金属薄膜和在所述的第二金属薄膜上的氮化物薄膜。
10.如权利要求9中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述第一金属薄膜和所述第二金属薄膜的每个都是钛薄膜或铂薄膜，并且所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
11.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述生长掩模是长条形。
12.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其特征在于：在所述衬底上形成至少其上表面由氮化物组成的多层薄膜形式的第一生长掩模；在所述衬底上利用所述第一生长掩模选择生长第一III-V族氮化物半导体；其后在所述衬底上所述第一生长掩模未覆盖的地方形成形式为多层薄膜并且至少上表面是由氮化物形成的第二生长掩模；并且借助第二生长掩模在所述第一III-V族氮化物半导体上选择生长第二III-V族氮化物半导体。
13.如权利要求1中的III-V族氮化物半导体的生长方法，其中所述衬底是蓝宝石衬底、SiC衬底、其上生长有或没有III-V族氮化物半导体的Si衬底或尖晶石衬底。
14.一种半导体器件的制造方法，包括在衬底上形成生长掩模并通过采用生长掩模在衬底上选择生长III-V族氮化物半导体的步骤，其特征在于：
采用多层薄膜作为所述生长掩模，其中至少其上表面由氮化物组成。
15.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其中所述氮化物是氮化硅或氮化钛。
16.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其中所述多层薄膜包含氧化物薄膜和其上的氮化物薄膜。
17.如权利要求16中的半导体器件的制造方法，其中所述氧化物薄膜是氧化硅薄膜，而所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
18.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其中所述多层薄膜包含氧化物薄膜、由在所述氧化物薄膜上的氮化物及氧化物组成的薄膜以及其上的氮化物薄膜。
19.如权利要求18中的半导体器件的制造方法，其中所述氧化物薄膜是氧化硅薄膜，所述由氮化物及氧化物组成的薄膜是氮氧化硅薄膜，而所述氮化物薄膜是氮化硅薄膜或氮化钛薄膜。
20.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其中所述生长掩模是长条形。
21.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其特征在于：在所述衬底上形成至少上表面由氮化物组成的多层薄膜形式的第一生长掩模；在所述衬底上利用所述第一生长掩模选择生长第一III-V族氮化物半导体；其后在所述衬底上所述第一生长掩模未覆盖的地方形成形式为多层薄膜并且至少上表面是由氮化物形成的第二生长掩模；并且借助第二生长掩模在所述第一III-V族氮化物半导体上选择生长第二III-V族氮化物半导体。
22.如权利要求14中的半导体器件的制造方法，其中所述衬底是蓝宝石衬底、SiC衬底、其上生长有或没有III-V族氮化物半导体的Si衬底或尖晶石衬底。
CNB991243889A 1998-11-26 1999-11-26 氮化物半导体的生长方法、半导体器件及其制造方法 Expired - Lifetime CN1147921C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP335851/1998 1998-11-26
JP33585198A JP3470623B2 (ja) 1998-11-26 1998-11-26 窒化物系ｉｉｉ−ｖ族化合物半導体の成長方法、半導体装置の製造方法および半導体装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB031278647A Division CN1302519C (zh) 1998-11-26 1999-11-26 半导体器件制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1258094A CN1258094A (zh) 2000-06-28
CN1147921C true CN1147921C (zh) 2004-04-28

Family

ID=18293109

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB991243889A Expired - Lifetime CN1147921C (zh) 1998-11-26 1999-11-26 氮化物半导体的生长方法、半导体器件及其制造方法
CNB031278647A Expired - Lifetime CN1302519C (zh) 1998-11-26 1999-11-26 半导体器件制造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB031278647A Expired - Lifetime CN1302519C (zh) 1998-11-26 1999-11-26 半导体器件制造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6682991B1 (zh)
EP (1) EP1005067B1 (zh)
JP (1) JP3470623B2 (zh)
KR (1) KR100724010B1 (zh)
CN (2) CN1147921C (zh)
DE (1) DE69936564T2 (zh)
SG (1) SG93850A1 (zh)
TW (1) TW429660B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105977293A (zh) * 2015-03-13 2016-09-28 株式会社东芝 半导体装置及其制造方法

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3702700B2 (ja) * 1999-03-31 2005-10-05 豊田合成株式会社 Ｉｉｉ族窒化物系化合物半導体素子及びその製造方法
US6812053B1 (en) 1999-10-14 2004-11-02 Cree, Inc. Single step pendeo- and lateral epitaxial overgrowth of Group III-nitride epitaxial layers with Group III-nitride buffer layer and resulting structures
DE10056645B4 (de) * 2000-11-09 2007-03-08 Azzurro Semiconductors Ag Verfahren zur Herstellung von rißfreien, planaren Gruppe-III-N,Gruppe III-V-N und Metall-Stickstoff Bauelementestrukturen auf Si-Substraten mittels epitaktischer Methoden
JP2003008143A (ja) * 2001-06-18 2003-01-10 Sony Corp マルチビーム半導体レーザ素子
JP4767987B2 (ja) * 2002-12-05 2011-09-07 日本碍子株式会社 半導体積層構造及びｉｉｉ族窒化物層群の転位低減方法
JP4457576B2 (ja) * 2003-05-08 2010-04-28 住友電気工業株式会社 Ｉｉｉ−ｖ族化合物結晶およびその製造方法
US20070184671A1 (en) * 2003-05-30 2007-08-09 Showa Denko K.K. Method for production of group lll nitride semiconductor device
DE10335081A1 (de) 2003-07-31 2005-03-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterchips und optoeleketronischer Halbleiterchip
DE10335080A1 (de) * 2003-07-31 2005-03-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterchips und optoelektronischer Halbleiterchip
CN100372138C (zh) * 2005-07-13 2008-02-27 晶能光电（江西）有限公司 在硅衬底上制备铟镓铝氮材料的方法
US7638810B2 (en) * 2005-09-09 2009-12-29 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. GaN laser with refractory metal ELOG masks for intracavity contact
CN100362133C (zh) * 2005-09-26 2008-01-16 中国地质大学（北京） 一种硬质耐磨保护薄膜的制备方法
CN100424224C (zh) * 2006-07-20 2008-10-08 上海交通大学 反应磁控溅射TiN/SiO2硬质纳米多层涂层的制备方法
JP4884866B2 (ja) * 2006-07-25 2012-02-29 三菱電機株式会社 窒化物半導体装置の製造方法
CN100479099C (zh) * 2006-09-20 2009-04-15 财团法人工业技术研究院 氮化物半导体基板及其制造方法
US8362503B2 (en) * 2007-03-09 2013-01-29 Cree, Inc. Thick nitride semiconductor structures with interlayer structures
CN102163667B (zh) * 2008-01-14 2014-04-16 晶元光电股份有限公司 半导体发光结构
KR101449035B1 (ko) * 2008-04-30 2014-10-08 엘지이노텍 주식회사 반도체 발광소자
CN102044484A (zh) * 2009-10-23 2011-05-04 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 半导体器件上的钨塞制造方法
JP5370279B2 (ja) * 2010-06-11 2013-12-18 豊田合成株式会社 ｎ型ＩＩＩ族窒化物半導体の製造方法
CN102354659B (zh) * 2011-11-02 2016-05-11 上海华虹宏力半导体制造有限公司 掩膜成核消除方法以及选择性外延生长方法
EP2837021A4 (en) * 2012-04-13 2016-03-23 Tandem Sun Ab METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR BASED ON EPITAXIAL GROWTH
CN103165779B (zh) * 2013-02-08 2016-04-06 芜湖德豪润达光电科技有限公司 Led半导体元件及其制造方法
KR102075986B1 (ko) * 2014-02-03 2020-02-11 삼성전자주식회사 반도체 발광소자
CN105633790A (zh) * 2016-03-09 2016-06-01 中国科学院合肥物质科学研究院 一种利用GaN激光二极管泵浦稀土离子掺杂钽铌酸盐实现可见激光的方法
US10707308B2 (en) 2017-12-24 2020-07-07 HangZhou HaiCun Information Technology Co., Ltd. Hetero-epitaxial output device array
US11177549B2 (en) * 2019-11-06 2021-11-16 International Business Machines Corporation Method of growing titanium nitride on silicon substrate free from silicon nitride interface by using a titanium seed layer
CN115443521A (zh) * 2020-06-17 2022-12-06 华为技术有限公司 一种外延片、led芯片及显示屏
CN112103305B (zh) * 2020-09-21 2022-05-27 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于微图案化石墨烯的Micro-LED阵列及其制备方法、显示装置
JP7556246B2 (ja) 2020-09-23 2024-09-26 セイコーエプソン株式会社 発光装置、発光装置の製造方法およびプロジェクター
WO2024095458A1 (ja) * 2022-11-04 2024-05-10 日本電信電話株式会社 半導体装置の製造方法
WO2024157687A1 (ja) * 2023-01-25 2024-08-02 株式会社ジャパンディスプレイ 発光装置およびその製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7412383A (nl) * 1974-09-19 1976-03-23 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een in- richting met een geleiderpatroon.
FR2580672B1 (fr) * 1985-04-19 1987-05-15 France Etat Procede de fabrication sur un support isolant d'un film de silicium monocristallin oriente et a defauts localises
US5326716A (en) * 1986-02-11 1994-07-05 Max Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V. Liquid phase epitaxial process for producing three-dimensional semiconductor structures by liquid phase expitaxy
FR2629637B1 (fr) * 1988-04-05 1990-11-16 Thomson Csf Procede de realisation d'une alternance de couches de materiau semiconducteur monocristallin et de couches de materiau isolant
JPH02159775A (ja) * 1988-12-14 1990-06-19 Toshiba Corp 半導体受光素子及びその製造方法
FR2645345A1 (fr) * 1989-03-31 1990-10-05 Thomson Csf Procede de modulation dirigee de la composition ou du dopage de semi-conducteurs, notamment pour la realisation de composants electroniques monolithiques de type planar, utilisation et produits correspondants
US4971928A (en) * 1990-01-16 1990-11-20 General Motors Corporation Method of making a light emitting semiconductor having a rear reflecting surface
US5208167A (en) * 1991-09-30 1993-05-04 Rohm Co., Ltd. Method for producing SOI substrate
JPH1022568A (ja) * 1996-07-04 1998-01-23 Hitachi Ltd 半導体装置
JP3925753B2 (ja) * 1997-10-24 2007-06-06 ソニー株式会社 半導体素子およびその製造方法ならびに半導体発光素子
US6271104B1 (en) * 1998-08-10 2001-08-07 Mp Technologies Fabrication of defect free III-nitride materials
US6240115B1 (en) * 1998-08-27 2001-05-29 Agilent Technologies, Inc. Epitaxial facet formation for laser diodes based on III-V material systems
US6255198B1 (en) * 1998-11-24 2001-07-03 North Carolina State University Methods of fabricating gallium nitride microelectronic layers on silicon layers and gallium nitride microelectronic structures formed thereby

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105977293A (zh) * 2015-03-13 2016-09-28 株式会社东芝 半导体装置及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000035670A (ko) 2000-06-26
CN1501444A (zh) 2004-06-02
SG93850A1 (en) 2003-01-21
JP3470623B2 (ja) 2003-11-25
JP2000164988A (ja) 2000-06-16
EP1005067A3 (en) 2000-10-18
CN1302519C (zh) 2007-02-28
DE69936564D1 (de) 2007-08-30
TW429660B (en) 2001-04-11
KR100724010B1 (ko) 2007-05-31
DE69936564T2 (de) 2008-04-03
US6682991B1 (en) 2004-01-27
EP1005067B1 (en) 2007-07-18
CN1258094A (zh) 2000-06-28
EP1005067A2 (en) 2000-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1147921C (zh) 氮化物半导体的生长方法、半导体器件及其制造方法
CN1249820C (zh) 氮化物半导体器件及其制造方法
Krost et al. GaN‐based devices on Si
US5432808A (en) Compound semicondutor light-emitting device
US6815726B2 (en) Semiconductor device and semiconductor substrate, and method of fabricating the same
JP5280004B2 (ja) 発光素子及びその製造方法
US7760785B2 (en) Group-III nitride semiconductor device
US6635901B2 (en) Semiconductor device including an InGaAIN layer
JP5099008B2 (ja) ＳｉＣ基板を用いた化合物半導体装置とその製造方法
JP5708556B2 (ja) Ｉｉｉ族窒化物半導体素子及び窒化ガリウムエピタキシャル基板
US20110140083A1 (en) Semiconductor Device Structures with Modulated Doping and Related Methods
US20030186088A1 (en) Crystal-growth substrate and a zno-containing compound semiconductor device
KR100449074B1 (ko) 반도체의 제조 방법 및 반도체 발광 소자
CN1741296A (zh) 半导体衬底及在半导体衬底上通过外延生长制造的半导体器件
JP2008205514A (ja) Ｉｉｉ−ｖ族窒化物半導体素子
JP2003037289A (ja) 低駆動電圧のｉｉｉ族窒化物発光素子
US20040094756A1 (en) Method for fabricating light-emitting diode using nanosize nitride semiconductor multiple quantum wells
Paisley et al. Molecular beam epitaxy of nitride thin films
JP2005236287A (ja) 窒化物基半導体デバイスのための低ドープ層
US20060255339A1 (en) Single-crystalline gallium nitride substrate
JP2010040692A (ja) 窒化物系半導体素子及びその製造方法
KR100814920B1 (ko) 수직구조 질화물계 반도체 발광소자 및 그 제조방법
JP2003142729A (ja) 半導体発光素子
US7508010B2 (en) Boron phoshide-based compound semiconductor device, production method thereof and light-emitting diode
JPH0529653A (ja) 半導体素子

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20040428

CX01 Expiry of patent term