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CN112105973B - 光学调制元件 - Google Patents

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CN112105973B
CN112105973B CN201980031988.9A CN201980031988A CN112105973B CN 112105973 B CN112105973 B CN 112105973B CN 201980031988 A CN201980031988 A CN 201980031988A CN 112105973 B CN112105973 B CN 112105973B
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金南圭
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LG Chem Ltd
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Abstract

本申请涉及光调制元件及其用途,并且本申请可以通过改善由间隔物引起的基材膜的表面波纹(waviness)来抑制在表面反射视觉观察时的表面波纹现象。这样的光调制元件可以应用于各种柔性显示装置以改善产品的品质。

Description

光学调制元件
技术领域
本申请涉及光调制元件及其用途。
本申请要求基于2018年7月2日提交的韩国专利申请第10-2018-0076481号和2019年7月2日提交的韩国专利申请第10-2019-0079555号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
背景技术
在专利文献1(韩国专利公开第1775332号)中,光调制元件例如液晶单元通常可以包括间隔物以保持上基材膜与下基材膜之间的单元间隙。此外,当将光调制元件应用于绑扎式柔性显示装置例如眼部佩戴物时,可能需要柔性基材膜以用于上基材膜和下基材膜。
然而,当将柔性基材膜应用于制造光调制元件时,可能产生以下问题:由于在存在间隔物的部分和不存在间隔物的部分上的受压程度的差异,在上基材膜和下基材膜的表面上产生弯曲。由于这种表面波纹,如果以反射视觉(reflection visual appreciation)来观察光调制元件的表面,则确认表面波纹,由此可能产生产品品质劣化的问题。因此,需要能够改善由间隔物引起的基材膜的表面波纹的光调制元件。
发明内容
技术问题
本发明的一个问题是提供光调制元件,所述光调制元件可以改善由间隔物引起的基材膜的表面波纹(waviness),从而抑制表面反射视觉观察时的表面波纹现象。
技术方案
本申请涉及光调制元件。光调制元件可以包括彼此相对设置的第一基材膜和第二基材膜。光调制元件可以包括设置在第一基材膜与第二基材膜之间的光调制层。光调制层可以包括间隔物。光调制元件还可以包括设置在第一基材膜和第二基材膜中的一个或更多个基材膜外侧的缓冲层。缓冲层可以形成在第一基材膜的外侧,形成在第二基材膜的外部,或者形成在第一基材膜和第二基材膜各自的外侧。
在本说明书中,“光调制层”可以意指能够根据是否施加外部能量来改变透光率、反射率、雾度等的功能层。
在本说明书中,“缓冲层”可以意指能够减轻由间隔物引起的基材膜的表面波纹的功能层。
在本说明书中,术语“内侧”意指光调制元件中朝向光调制层的一侧,“外侧”意指光调制元件中朝向光调制层的一侧的相反侧。
图1示例性地示出了本申请的光调制元件。图1示例性地示出了这样的光调制元件:其包括彼此相对设置的第一基材膜10和第二基材膜20,设置在第一基材膜10与第二基材膜20之间的包括间隔物31的光调制层30,以及设置在第一基材膜10和第二基材膜20各自的外侧的缓冲层40。
光调制层可以包括间隔物。间隔物可以用作保持第一基材膜与第二基材膜之间的间隔的单元间隙保持构件。间隔物可以为球形间隔物或柱形间隔物。间隔物可以包含选自基于聚合物的材料、基于碳的材料、基于氧化物的材料、及其复合材料中的一者或更多者。球形间隔物的材料可以具体地为二氧化硅、聚硅氧烷聚合物或二乙烯基苯共聚物。柱形间隔物的材料可以具体地为可UV固化丙烯酸酯或环氧树脂。在一个实例中,间隔物可以为黑色间隔物。黑色球形间隔物可以包含炭黑,黑色柱形间隔物也可以包含炭黑。
间隔物的尺寸可以考虑第一基材膜与第二基材膜之间的间隔(单元间隙)来适当地调节。间隔物的尺寸在球形间隔物的情况下可以意指粒径,在柱形间隔物的情况下可以意指高度。间隔物的尺寸可以为例如1μm至50μm。间隔物的尺寸可以具体地为1μm或更大、2μm或更大、或者3μm或更大,并且可以为50μm或更小、40μm或更小、30μm或更小、或者20μm或更小。
光调制层可以包括复数个间隔物。此时,复数个间隔物可以以彼此间隔开的状态存在于光调制层中。在本说明书中,“间隔开的状态”可以意指它们以以预定间隔散布开的状态存在。
由于在光调制层中在存在间隔物的区域和不存在间隔物的区域中受压程度的差异,第一基材膜和/或第二基材膜可以具有表面波纹。通过在第一基材膜和/或第二基材膜外侧形成缓冲层,本申请的光调制元件可以改善表面波纹的识别度,并因此可以抑制在表面反射视觉时观察到表面波纹的现象。
在下文中,将详细地描述缓冲层。如图1所示,缓冲层40可以顺序地包括缓冲膜42和压敏粘合剂层41。
缓冲膜可以具有两个平坦表面。作为缓冲膜,可以使用具有光学透明性的柔性膜。例如,可以使用光学透明的塑料膜作为缓冲膜。具体地,塑料膜可以例示为纤维素膜,例如DAC(二乙酰纤维素)或TAC(三乙酰纤维素)膜;COP(环烯烃共聚物)膜,例如降冰片烯衍生物树脂膜;丙烯酸类膜,例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯)膜);PC(聚碳酸酯)膜;烯烃膜,例如PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯)膜;PVA(聚乙烯醇)膜;PES(聚醚砜)膜;PEEK(聚醚醚酮)膜;PEI(聚醚酰亚胺)膜;PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜;聚酯膜,例如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜;PI(聚酰亚胺)膜;PSF(聚砜)膜;PAR(聚芳酯)膜;或氟树脂膜等,通常,可以使用纤维素膜、聚酯膜或丙烯酸类膜等,并且优选地,可以使用TAC膜或PC膜,但是其可以考虑本申请的目的来适当地选择。
缓冲膜的厚度可以为50μm或更大。这样的厚度范围可以在改善基材膜的表面波纹方面更有利。缓冲膜的厚度的上限可以为例如1000μm或更小。具体地,缓冲膜的厚度可以为50μm或更大、100μm或更大、或者150μm或更大,并且可以为1000μm或更小、900μm或更小、800μm或更小、700μm或更小、600μm或更小、或者550μm或更小。还可以根据缓冲膜的材料适当地选择厚度范围。在一个实例中,当使用PC膜作为缓冲膜时,厚度范围可以为200μm至800μm或400μm至600μm。在另一个实例中,当使用TAC膜作为缓冲膜时,厚度范围可以为50μm至350μm或150μm至250μm。
压敏粘合剂层可以具有面向缓冲膜的平坦表面和面向光调制层的具有表面波纹的表面。具体地,压敏粘合剂层被附接至在光调制元件的第一基材膜和/或第二基材膜的表面上产生的弯曲,其中对应于第一基材膜和/或第二基材膜的表面波纹的侧面可以具有表面波纹,并且其相反侧可以形成为平坦的。因此,缓冲膜形成在压敏粘合剂层的平坦侧上,使得两个表面均可以为平坦的。
压敏粘合剂层可以包含OCA(光学透明粘合剂,optically clear adhesive)压敏粘合剂。OCA压敏粘合剂可以为压敏型压敏粘合剂,并且例如,可以没有特别限制地使用已知的压敏粘合剂,例如丙烯酸类压敏粘合剂、基于有机硅的压敏粘合剂、基于橡胶的压敏粘合剂、和氨基甲酸酯压敏粘合剂。OCA粘合剂具有与以液相提供的OCR(光学透明树脂)压敏粘合剂不同的概念,所述OCA粘合剂可以主要以固体、半固体或弹性的状态提供。压敏型压敏粘合剂为一类粘合剂,其可以意指这样的材料:该材料在不使用水、溶剂热等的情况下即使在仅向粘合剂的一部分施加轻微的压力的情况下也具有粘附至被粘物的功能。
为了确保适当的表面特性,可以控制压敏粘合剂层的厚度。例如,压敏粘合剂层的厚度(T1)与基材膜(即,附接有压敏粘合剂层的基材膜)的厚度(T2)的比率(T1/T2)可以在约0.1至4的范围内。在另一个实例中,该比率(T1/T2)可以为约0.2或更大、约0.3或更大、或者约0.4或更大,或者也可以为约3.5或更小、约3或更小、约2.5或更小、约2或更小、约1.9或更小、1.8或更小、1.7或更小、1.6或更小、1.5或更小、1.4或更小、1.3或更小、1.2或更小、1.1或更小、或者1或更小左右。
另一方面,缓冲膜的厚度(T3)与压敏粘合剂层的厚度(T1)的比率(T3/T1)可以在约0.25至50的范围内。在另一个实例中,该比率(T3/T1)可以为约0.5或更大、约0.75或更大、约1或更大、约1.25或更大、约1.5或更大、约1.75或更大、约2或更大、约2.25或更大、或者约2.5或更大,或者也可以为约40或更小、约30或更小、约20或更小、约10或更小、约9或更小、约8或更小、约7或更小、约6或更小、或者约5或更小左右。
在该范围内,可以有效地解决光调制元件,特别是将单元间隙确保在适当水平同时还应用薄的基材膜的光调制元件的表面波纹问题。
图2是用于说明由间隔物引起的表面波纹的光调制元件的局部放大图。如上所述,第一基材膜10和第二基材膜20中的一个或更多个基材膜可以具有由间隔物31引起的表面波纹。在具有表面波纹的基材膜中,两个表面均可以具有表面波纹。
表面波纹可以在基材膜的与存在间隔物的区域对应的区域中具有凸部,在基材膜的与不存在间隔物的区域对应的区域中具有凹部。
在一个实例中,在基材膜的表面波纹中最凸区域与最凹区域之间的高度差(图2中的B)可以为0.1μm至1μm。具体地,高度差B可以为0.2μm至0.8μm或0.4μm至0.6μm。该高度差可以取决于间隔物的尺寸或基材膜的柔性。
如图2所示,由于由间隔物引起的基材膜的表面波纹,光调制层30也可以具有表面波纹。和基材膜一样,光调制层可以在存在间隔物的区域中具有凸部,在不存在间隔物的区域中具有凹部。
在一个实例中,光调制层的表面波纹中的最凸区域与最凹区域之间的高度差(图2中的A)可以为0.1μm至1μm。高度差A可以具体地为0.2μm至0.8μm或0.4μm至0.6μm。
如图2所示,在压敏粘合剂层已施加至具有表面波纹的基材膜的状态下,压敏粘合剂层41的一侧也可以由于由间隔物引起的基材膜的表面波纹而具有表面波纹。压敏粘合剂层可以在与存在间隔物的区域对应的区域中具有凹部,在与不存在间隔物的区域对应的区域中具有凸部。
在一个实例中,压敏粘合剂层的厚度可以为20μm或更大。该厚度范围可以在改善基材膜的表面波纹方面更有利。压敏粘合剂层的厚度可以具体地为20μm或更大、50μm或更大、或者80μm或更大,并且可以为200μm或更小、150μm或更小、或者120μm或更小。压敏粘合剂层的厚度可以意指在将压敏粘合剂层施加至具有表面波纹的基材膜之前压敏粘合剂层本身的厚度。
在一个实例中,在压敏粘合剂层已施加至具有表面波纹的基材膜的状态下,压敏粘合剂层中的厚度的最大值与最小值之差(图2中的C-D)可以具有与最凸区域与最凹区域之间的高度差B相同的值。因此,压敏粘合剂层中的厚度的最大值与最小值之差(C-D)可以为0.1μm至1μm、0.2μm至0.8μm、或0.4μm至0.6μm。在此,压敏粘合剂层中的厚度的最大值C和最小值D可以意指在压敏粘合剂层已施加至具有表面波纹的基材膜的状态下,基于具有平坦表面的外表面分别测量的厚度的最大值和最小值。
在压敏粘合剂层已施加至具有表面波纹的基材膜的状态下,压敏粘合剂层中的厚度的最大值C可以为通过将由表面波纹引起的高度差与压敏粘合剂层本身的厚度求和而获得的值。在一个实例中,当压敏粘合剂层本身的厚度为20μm时,压敏粘合剂层中的厚度的最大值C可以为约20μm至21μm。
在压敏粘合剂层已施加至具有表面波纹的基材膜的状态下,压敏粘合剂层中的厚度的最小值D可以为通过从压敏粘合剂层本身的厚度中减去由表面波纹引起的高度差而获得的值。在一个实例中,当压敏粘合剂层本身的厚度为20μm时,压敏粘合剂层中的厚度的最小值D可以为约19μm至20μm。
压敏粘合剂层可以以固化状态附接至第一基材膜和第二基材膜中的一个或更多个基材膜。压敏粘合剂层的固化可以通过施加适当的能量例如热和/或光的照射来进行。在一个实例中,压敏粘合剂层可以以在两侧中的每一者上存在离型膜的形式来制备。缓冲层可以如下来形成:除去压敏粘合剂层的一侧上的离型膜并将压敏粘合剂层层合在基材膜的外侧,然后除去压敏粘合剂层的另一侧上的离型膜并将缓冲膜层合在压敏粘合剂层上。
第一基材膜和第二基材膜中的一个或更多个基材膜可以为柔性膜。具体地,第一基材膜和第二基材膜中的任一者可以为柔性膜,或者两者均可以为柔性膜。
在本说明书中,柔性膜可以意指具有柔性的膜。作为柔性膜,可以使用具有光学透明性的柔性膜。例如,可以使用光学透明的塑料膜作为第一基材膜和/或第二基材膜。具体地,塑料膜可以例示为纤维素膜或片,例如DAC(二乙酰纤维素)或TAC(三乙酰纤维素)膜或片;COP(环烯烃共聚物)膜或片,例如降冰片烯衍生物树脂膜或片;丙烯酸类膜或片,例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))膜或片;PC(聚碳酸酯)膜或片;烯烃膜或片,例如PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯)膜或片;PVA(聚乙烯醇)膜或片;PES(聚醚砜)膜或片;PEEK(聚醚醚酮)膜或片;PEI(聚醚酰亚胺)膜或片;PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜或片;聚酯膜或片,例如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜或片;PI(聚酰亚胺)膜或片;PSF(聚砜)膜或片;PAR(聚芳酯)膜或片;或者氟树脂膜或片;等等,并且通常可以使用纤维素膜或片、聚酯膜或片、或者丙烯酸类膜或片等,并且优选地可以使用PET膜或片,但是其可以根据本申请的目的来适当地选择。
曲率半径越小,柔性膜就可以在柔性方面越有利。在一个实例中,如有必要,可以将柔性膜的曲率半径调节至约1mm至10mm左右的水平。应用这样的柔性膜的光调制元件的曲率半径可以为约40mm至50mm左右。光调制元件的曲率半径变得稍微更大的事实是因为电极层的裂纹或者可以考虑用于保持单元间隙的密封剂的粘附力等。应用这样的光调制元件的柔性显示装置的曲率半径可以为约50mm至200mm左右。柔性膜、光调制元件或柔性显示装置的曲率半径可以考虑最终产品的形状来适当地改变。
如上所述的第一基材膜和/或第二基材膜的厚度(T4)与彼此相对设置的第一基材膜与第二基材膜之间的间隔(即,单元间隙)(T5)的比率(T4/T5)可以在约1至100或1至30的范围内。在另一个实例中,该比率(T4/T5)可以为约1或更大、约2或更大、或者约3或更大左右,或者也可以为约90或更小、约80或更小、约70或更小、约60或更小、约50或更小、或者约40或更小左右。
在一个实例中,呈如上状态的基材膜的厚度(T4)可以在约20μm至200μm的范围内。在另一个实例中,该厚度可以为约30μm或更大、约40μm或更大、或者约50μm或更大,或者也可以为约190μm或更小、约180μm或更小、约170μm或更小、约160μm或更小、或者约150μm或更小左右。
基材膜的厚度(T4)可以为至少内侧附接有电极层的基材膜的厚度。
通过这样的基材膜的厚度控制,可以提供薄且具有优异的柔性并且同时确保期望的光学性能的光调制元件,并且在该状态下,通过存在上述缓冲层,还可以防止由表面波纹引起的性能劣化等。
作为第一电极层和/或第二电极层,可以使用透明导电层。例如,作为第一电极层和/或第二电极层,可以使用通过沉积导电聚合物、导电金属、导电纳米线、或金属氧化物例如ITO(铟锡氧化物)等形成的电极层。第一电极层和/或第二电极层的厚度可以各自为15nm至25nm。
在一个实例中,光调制元件还可以包括在第一基材膜和/或第二基材膜内侧的取向膜(未示出)。具体地,取向膜可以存在于第一电极层和/或第二电极层内侧。
如下所述,当光调制层包含液晶化合物作为光调制材料时,取向膜可以具有能够控制液晶化合物的初始取向状态的取向力。取向膜可以为垂直取向膜或水平取向膜。在光调制元件包括在第一基材膜内侧的第一取向膜和在第二基材膜内侧的第二取向膜的情况下,第一取向膜和第二取向膜二者均可以为垂直取向膜或水平取向膜,或者任一者可以为垂直取向膜,而另一者可以为水平取向膜。作为取向膜,可以使用接触型取向膜,例如摩擦取向膜,或者包含光取向膜化合物并且已知能够通过非接触方法例如用线性偏振光照射而表现出取向特性的取向膜。
本申请的光调制元件可以根据是否向光调制层施加外部能量例如电压来改变透射率、反射率或雾度等。透射率、反射率或雾度等的变化范围可以根据光调制元件的用途来适当地控制。
光调制层可以包含光调制材料。光调制材料可以包含在光调制层中不存在间隔物的区域中。光调制材料可以例示为液晶化合物。作为液晶化合物,可以没有任何特别限制地使用取向方向可以通过外部电压施加而改变的液晶化合物。作为液晶,例如,可以使用近晶型液晶、向列型液晶或胆甾醇型液晶等。此外,液晶可以为例如没有任何可聚合基团或可交联基团使得取向方向可以通过外部电压施加而改变的化合物。
光调制层还可以包含各向异性染料。各向异性染料可以通过改善光调制元件的光屏蔽率而有助于透射率变化。在本说明书中,术语“染料”可以意指能够强烈吸收和/或改变可见光区域的整个范围中的至少部分或全部(例如,波长范围为400nm至700nm)的光的材料。此外,在本说明书中,术语“各向异性染料”可以意指能够各向异性吸收可见光区域的至少部分或整个范围内的光的材料。作为各向异性染料,例如,可以选择并使用已知具有可以根据液晶的取向状态而取向的特性的已知染料,例如,可以使用黑色染料。这样的黑色染料已知为例如偶氮染料或蒽醌染料,但不限于此。
本申请的光调制元件还可以包括功能层。功能层可以设置在缓冲层的外侧。图3示例性地示出了其中功能层(50)设置在缓冲层40例如缓冲膜(42)的外侧的光调制元件。本申请的光调制元件可以通过在缓冲层的外侧设置功能层来增强各种功能。
功能层的类型可以考虑光调制元件中要增强的功能来适当地选择。在一个实例中,功能层可以包括防雾层、自修复层、抗反射层、防指纹层、防污层、防眩光层、镜层或硬度增强层。在工业中,硬度增强层通常也称为“硬涂层”。
用于形成功能层的材料和形成方法可以从本领域已知的那些中选择并使用。例如,功能层可以如下来形成:单独制备功能层然后将功能层粘结在缓冲层外侧,将功能层组合物涂覆在缓冲层外侧,或将功能层材料沉积在缓冲层上。
本申请还涉及光调制元件的用途。示例性光调制元件可以通过抑制由间隔物引起的基材膜的表面波纹来降低反射视觉,从而提高产品品质。
在一个实例中,光调制元件可以应用于柔性显示装置。这样的柔性装置可以例示为弯曲的、可弯曲的、可折叠的或可卷曲的显示装置。
柔性显示装置可以例示为眼部佩戴物,例如太阳镜、AR(Augmented Reality,增强现实)或VR(Virtual Reality,虚拟现实);用于建筑物外墙的智能窗户;或天窗、前门窗、后门窗、用于车辆的后窗或风窗玻璃等。
当柔性显示装置为眼部佩戴物时,眼部佩戴物的结构没有特别限制。即,光调制元件可以包括在已知的眼部佩戴物结构的左眼镜片和/或右眼镜片中并应用。
例如,眼部佩戴物可以包括左眼镜片和右眼镜片;以及用于支撑左眼镜片和右眼镜片的框架。在眼部佩戴物中,左眼镜片和右眼镜片可以各自包括光调制元件。这样的镜片可以仅包括光调制元件,或者还可以包括其他配置。
有益效果
本申请可以通过改善由间隔物引起的基材膜的表面波纹来抑制表面反射视觉观察时的表面波纹现象。这样的光调制元件可以应用于各种柔性显示装置以改善产品的品质。
附图说明
图1示例性地示出了本申请的光调制元件。
图2是用于说明表面波纹的光调制元件的局部放大图。
图3示例性地示出了本申请的光调制元件。
图4示例性地示出了比较例1的光调制元件。
图5是比较例1的表面波纹评估图像。
图6至8分别是实施例1至3的表面波纹评估图像。
图9是比较例2的表面波纹评估图像。
具体实施方式
在下文中,将通过实施例具体地描述本申请,但是本申请的范围不受以下实施例限制。
实施例1
作为实施例1的光调制元件,制造具有眼部佩戴物镜片形状的光调制元件。具体地,作为在第一基材膜和第二基材膜中的每一者上形成有电极层的膜,制备总厚度为100μm的PC-ITO膜(Teijin),其中ITO层沉积在PC膜上。将包含液晶化合物(MDA-16-1235,Merck)和粒径为12μm的球形间隔物(KBN-512,Sekisui Co.)的组合物施加在第一基材膜的电极层上以形成光调制层。此时,将组合物施加在PC-ITO膜上在以眼部佩戴物镜片的边缘形状施加的外部密封剂的内部区域中。在层合第二基材膜使得第二基材膜的电极层与光调制层接触之后,由于第一基材膜与第二基材膜之间的力的差异,在第一基材膜和第二基材膜的两个表面上形成表面波纹。此时,在基材膜的表面波纹中最凸区域与最凹区域之间的高度差为0.4μm。通过使用激光显微镜(OLS4000,Olympus)的粗糙度测量法确定高度差。将厚度为100μm的OCA压敏粘合剂(V310,LG Chemical Co.,Ltd.)层合在第二基材膜的外侧。将其中在一侧上涂覆有防雾层(功能层)的厚度为190μm的TAC膜(SAF-RT190,UGAM)经由第二基材膜上的OCA压敏粘合剂层压合在第二基材膜上,从而制造光调制元件。在该光调制元件中,防雾层存在于最外侧。
实施例2
以与实施例1中相同的方式制造光调制元件,不同之处在于使用其中在一侧上形成有硬涂层代替防雾层的厚度为190μm的TAC膜(SHC40T190M,DAICEL)。
实施例3
以与实施例1中相同的方式制造光调制元件,不同之处在于使用其中在一侧上形成有硬涂层的厚度为500μm的PC膜(OM81-5,Polyopt)代替其中在一侧上涂覆有防雾层的厚度为190μm的TAC膜。
比较例1
以与实施例中1相同的方式制造图4所示的光调制元件,不同之处在于在第二基材膜的外侧未形成压敏粘合剂层、缓冲层和防雾层。
比较例2
以与比较例中1相同的方式制造光调制元件,不同之处在于将UV固化丙烯酸酯树脂(LGC)棒涂在第二基材膜的外侧,并用3J的UV固化以形成3μm的涂层。
评估例1.表面波纹的评估
为了评估表面波纹,观察实施例和比较例的光调制元件的表面反射视觉,并且结果示于图5至9中。具体地,为了防止底部反射,将黑色膜放置在光调制元件的底部(第一基材膜侧)上,并将荧光灯座放置在光调制元件的顶部(功能层侧)上。将数码相机以基于正面约45°的角度固定在光调制元件的顶部上,然后拍照以观察表面反射视觉。
如图5和9所示,在比较例1和2中,光调制元件内侧的亮区与暗区之间的表面看起来不平整,并且观察到存在具有不同高度的区域。另一方面,如图6至8所示,在实施例1至3中,未观察到光调制元件内侧的亮区与暗区之间具有不同高度的区域,并且将其评估为不具有表面波纹。从这些实验结果可以看出,与没有任何缓冲层的比较例1和2相比,设置有缓冲层的实施例1至3解决了表面波纹现象。
<附图标记说明>
10:第一基材膜
20:第二基材膜
30:光调制层
31:间隔物
40:缓冲层
41:压敏粘合剂层
42:缓冲膜
50:功能层

Claims (17)

1.一种光调制元件,具有彼此相对设置的第一基材膜和第二基材膜,以及设置在所述第一基材膜与所述第二基材膜之间并且包括间隔物的光调制层,并且
还包括设置在所述第一基材膜和所述第二基材膜中的一个或更多个基材膜外侧的缓冲层,
其中所述缓冲层顺序地包括缓冲膜和压敏粘合剂层,其中所述缓冲膜经由所述压敏粘合剂层附接在所述第一基材膜和所述第二基材膜中的一个或更多个基材膜外侧,
其中所述缓冲膜的两个表面都是平坦的,
其中所述压敏粘合剂层具有面向所述缓冲膜的平坦表面和面向所述光调制层的具有表面波纹的表面。
2.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述第一基材膜或所述第二基材膜的厚度与彼此相对设置的所述第一基材膜与所述第二基材膜之间的间隔的比率在1至30的范围内。
3.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述间隔物在所述光调制层中存在并且彼此间隔开。
4.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述压敏粘合剂层包含光学透明粘合剂压敏粘合剂。
5.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述压敏粘合剂层的厚度与所述第一基材膜或所述第二基材膜的厚度的比率在0.1至4的范围内。
6.根据权利要求5所述的光调制元件,其中所述缓冲膜的厚度与所述压敏粘合剂层的厚度的比率在0.25至50的范围内。
7.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述第一基材膜和所述第二基材膜中的一个或更多个基材膜由于所述间隔物而具有表面波纹。
8.根据权利要求7所述的光调制元件,其中所述表面波纹在所述基材膜的与存在所述间隔物的区域对应的区域中具有凸部,并且在所述基材膜的与不存在所述间隔物的区域对应的区域中具有凹部。
9.根据权利要求7所述的光调制元件,其中所述表面波纹中的最凸区域与最凹区域之间的高度差为0.1μm至1μm。
10.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述第一基材膜和所述第二基材膜中的一个或更多个基材膜为柔性膜。
11.根据权利要求1所述的光调制元件,包括在所述第一基材膜内侧的第一电极层,并且还包括在所述第二基材膜内侧的第二电极层。
12.根据权利要求1所述的光调制元件,其中透射率根据是否向所述光调制层施加电压而改变。
13.根据权利要求1所述的光调制元件,其中所述光调制层包含液晶化合物作为光调制材料。
14.根据权利要求1所述的光调制元件,还包括设置在所述缓冲层的外侧的功能层,其中所述功能层包括防雾层、自修复层、抗反射层、防污层、防眩光层、镜层或硬度增强层。
15.根据权利要求14所述的光调制元件,其中所述功能层包括防指纹层。
16.一种柔性显示装置,包括根据权利要求1所述的光调制元件。
17.根据权利要求16所述的柔性显示装置,其中所述柔性显示装置为眼部佩戴物,
其中所述眼部佩戴物包括左眼镜片和右眼镜片、以及用于支撑所述左眼镜片和所述右眼镜片的框架,所述左眼镜片和所述右眼镜片各自包括根据权利要求1所述的光调制元件。
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