CN111540841A - 显示面板、显示母板及显示面板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板、显示母板与显示面板的制作方法，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底、封装层和保护膜，所述保护膜包括基材和设置于所述基材靠近所述封装层一侧的光学胶，通过限定所述衬底、所述基材与所述光学胶围合形成密闭腔，且所述光学胶与所述封装层在所述衬底上的投影不交叠。使得在撕离保护膜的过程中，降低保护膜的光学胶对封装层造成的损害，提升显示面板性能。

Description

显示面板、显示母板及显示面板的制作方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板、显示母板及显示面板的制作方法。

背景技术

近年来，有机发光二极管(OLED)器件由于自身的优异性得到了迅猛发展，在制作OLED器件的过程中，通常需要对器件进行封装。封装完成后，屏体上贴附一层保护膜，在模组工艺前，需要将该膜层撕离，进行后续模组工艺。

现有技术中，保护膜表面有整面的粘胶，撕离保护膜的过程中，粘胶的黏附力会对封装膜层造成伤害，显示面板的性能也会受到影响。

需要说明的是，公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本申请的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

发明内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种显示面板、显示母板、显示面板的制作方法与显示母板的制作方法。

本申请的第一方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底、封装层和保护膜，所述保护膜包括基材和设置于所述基材靠近所述封装层一侧的光学胶，

所述衬底、所述基材与所述光学胶围合形成密闭腔，且所述光学胶与所述封装层在所述衬底上的投影不交叠。

可选地，在所述衬底朝向所述保护膜的方向上，所述显示面板还包括层叠设置的TFT器件层、发光功能层，所述封装层包覆所述发光功能层，且所述TFT器件层、所述发光功能层与所述封装层位于所述密闭腔内。

可选地，所述光学胶中掺杂有金属粒子，所述金属粒子可与水氧反应。

可选地，所述光学胶的材质为丙烯酸类、硅基树脂聚氨酯类、环氧树脂类中的至少一种或几种；

所述金属粒子为纳米铁粒子或纳米铜粒子。

可选地，所述金属粒子在所述光学胶的质量浓度范围为2.5-10mg/mL。

本申请的第二方面，提供一种显示母板，包括玻璃基底和在所述玻璃基底上阵列排布的多个如上所述的显示面板。

可选地，多个所述显示面板的保护膜的基材同层设置，且相互连接形成一个整体的基材。

本申请的第三方面，提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上制备封装层；

在所述封装层上贴附保护膜，所述保护膜包括基材和设置于所述基材靠近所述封装层一侧的光学胶；

其中，贴附保护膜的步骤包括将所述光学胶贴附在所述衬底上，使所述衬底、所述基材与所述光学胶围合形成密闭腔，且所述光学胶与所述封装层在所述衬底上的投影不交叠。

可选地，提供衬底之后还包括：

在所述衬底上制备TFT器件层；

在所述TFT器件层上制备发光功能层；

在所述发光功能层上制备所述封装层；

其中，所述TFT器件层、所述发光功能层与所述封装层位于所述密闭腔内。

可选地，该制作方法还包括：

将所述保护膜从所述封装层上撕离；

在所述封装层上制备触控功能层；

在所述触控功能层上制备盖板。

本发明提供的显示面板包括依次层叠设置的衬底、封装层和保护膜，保护膜包括基材和设置于基材靠近封装层一侧的光学胶，衬底、基材与光学胶围合形成密闭腔，且光学胶与封装层在衬底上的投影不交叠。从而降低撕离保护膜时，光学胶的黏附力对封装层造成的损伤，提升显示面板性能。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为一种显示面板的纵剖面结构示意图；

图2为一种显示母板的纵剖面结构示意图；

图3为一种显示母板的立体结构示意图；

图4为一种显示面板的制备流程示意图；

图5为一种显示母板的制备流程示意图。

附图标记说明：10-衬底；20-封装层；30-保护膜；301-基材；302-光学胶；40-TFT器件层；50-发光功能层；60-玻璃基底。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例中的特征可以相互结合。

正如背景技术中提到的，发明人在制备显示面板的过程中，发现保护膜是整面覆有粘胶的，封装完成后，贴附保护膜的过程中，保护膜整面的粘胶都会与封装层紧密贴附。而且现有技术中，为了保证封装效果，封装层通常是无机材料层与有机材料层交替设置。封装完成后，进行后续模组工艺时，需要撕离保护膜，整面的粘胶的黏附力会让封装层的膜层间产生剥离现象，对封装效果造成损伤，进而影响显示面板的性能。

第一方面，本申请实施例提供一种显示面板。请参考图1，显示面板包括层叠设置的衬底10、封装层20和保护膜30，保护膜30包括基材301和光学胶302，光学胶302设置于基材301靠近封装层20一侧。衬底10、基材301与光学胶302围成密闭腔，光学胶302与封装层20在衬底10上的投影不交叠。可以看出，封装层20朝向光学胶的基材301的表面上是没有涂覆光学胶302的，光学胶302只涂覆在封装层的侧面，且在保护膜的基材301与衬底10之间。通过重新设置光学胶的位置，使光学胶302只贴附到衬底10上，不贴附到封装层20上，这样在后续撕离保护膜30的过程中，光学胶302的黏附力不会造成封装层20的损伤，提升了显示面板的可靠性。

继续参考图1，在一个具体的实施例中，显示面板还包括TFT器件层40和发光功能层50，TFT器件层40、发光功能层50和封装层20位于密闭腔内。需要注意的是，TFT器件层40通常为包含导电金属层与绝缘材料层的多膜层结构；发光功能层50通常为包含阳极金属层、载流子注入层、载流子传输层及阴极金属层的多膜层结构；封装层20通常为无机材料层与有机材料层交替设置而成的多膜层结构，图中仅简单示意，并未详细示出。

进一步地，在本发明的一具体实施例中，光学胶302中掺杂有金属粒子，金属粒子可与水氧反应。通过在光学胶中掺杂可与水氧反应的金属粒子，入侵到显示面板中的水氧会被保护膜的光学胶消耗掉，提升了显示面板阻隔水氧的能力，提升其显示可靠性。

在一个具体的实施例中，保护膜的基材301的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯中的任意一种。光学胶302的材质为丙烯酸类、硅基树脂聚氨酯类、环氧树脂类中的至少一种或几种；金属粒子为纳米铁粒子或纳米铜粒子。纳米铁粒子可与水氧反应生成氧化铁，纳米铜粒子可与水氧反应生成氧化铜，入侵到保护膜的水氧会被掺杂的金属粒子消耗掉，避免了水氧对显示面板的进一步损害，提升显示面板的封装性能和显示可靠性。

需要注意的是，本实施例是以金属粒子为纳米铁粒子或纳米铜粒子为例进行解释说明的，并非用于对本发明的具体限定。只要金属粒子可将入侵到显示面板中的水氧消耗掉即可，本实施例对金属粒子的种类不做限定。

在一个具体的实施例中，金属粒子的粒径范围为25nm-50nm，将金属粒子的尺寸做成纳米级别，金属粒子的表面积增大，表面活性也增强，纳米级别的金属粒子与入侵到显示面板中的水氧反应更加完全。

在具体的实施例中，金属粒子在光学胶的质量浓度范围为2.5–10mg/mL，需要注意的是，金属粒子是掺杂到光学胶中的，金属粒子在光学胶中的质量浓度比例不宜太大，质量浓度比例过大，会降低光学胶的黏附力；质量浓度比例过小，入侵到显示面板中的水氧不能完全被金属粒子消耗掉，多余的水氧会对显示面板的性能造成损害。

第二方面，本申请实施例提供一种显示母板。请参考图2与图3，显示母板包括玻璃基底60和阵列排布在玻璃基底60上的多个显示面板，每一显示面板均包括衬底10、TFT器件层40、发光功能层50、封装层20与保护膜30。需要注意的是，多个显示面板的衬底10为共用的同一衬底10；多个显示面板的TFT器件层40为同一工艺下制备的，且各个显示面板的TFT器件层40同层设置；多个显示面板的发光功能层50为同一工艺下制备的，且各个显示面板的发光功能层50同层设置；各个显示面板的封装层20为同一工艺下制备的，且各个显示面板的封装层20同层设置；每一显示面板均包括保护膜30，每一显示面板的保护膜30均包括基材301和光学胶302，每一保护膜的基材301同层设置，且为同一工艺条件下贴附到各个显示面板的封装层20上。

需要注意的是，显示母板上的多个显示面板可经过切割等工艺形成相互独立的多个显示面板。

在一个具体的实施例中，显示母板上的多个显示面板的保护膜的基材301同层设置，且相互连接形成一个整体的基材。这种情况下，将显示母板切割时，可沿着保护膜的光学胶区域进行切割，切割后的单个的显示面板的封装性能及显示可靠性仍不会受到影响。

第三方面，本申请实施例提供一种显示面板的制作方法。请参考图4，该制作方法包括：

S1，提供衬底10；

S2，在衬底10上制备封装层20；

S3，在封装层20上贴附保护膜30，保护膜30包括基材301和设置于基材301靠近封装层20一侧的光学胶302；

其中，贴附保护膜的步骤包括将光学胶302贴附在衬底10上，使衬底10、基材301与光学胶302围合形成密闭腔，且光学胶302与封装层20在衬底10上的投影不交叠。

更进一步地，在一个具体的实施例中，参考图5，该显示面板的制作方法还包括：

S1，提供衬底10；

S21，在所述衬底上制备TFT器件层40；

S22，在所述TFT器件层40上制备发光功能层50；

S23，在所述发光功能层50上制备所述封装层20；

S3，在封装层20上贴附保护膜30，保护膜30包括基材301和设置于基材301靠近封装层20一侧的光学胶302；

其中，贴附保护膜的步骤包括将光学胶302贴附在衬底10上，使衬底10、基材301与光学胶302围合形成密闭腔，其中，所述TFT器件层、所述发光功能层与所述封装层位于所述密闭腔内，且光学胶302与封装层20在衬底10上的投影不交叠。

具体地，衬底10可为柔性衬底，例如柔性PI。TFT器件层40通常包括金属导电层与绝缘材料层，制备TFT器件层40的过程包括在衬底上通过CVD、PVD、涂布光刻胶、显影、刻蚀等工艺形成TFT器件层。发光功能层通常包括阳极金属层、载流子注入层、载流子传输层与阴极金属层，制备发光功能层的过程包括将载流子注入材料与载流子传输材料通过蒸镀等工艺制备到TFT器件层上。封装层通常为无机材料层与有机材料层交替设置，制备封装层的过程包括在发光功能层上交替制备多层的无机与有机材料层。

在一个具体的实施例中，光学胶中掺杂有金属粒子，金属粒子可以为尺寸在25-50nm之间的纳米铜粒子或纳米铁粒子，纳米铜粒子与纳米铁粒子可与水氧反应，将入侵到显示面板中的水氧消耗掉，避免水氧入侵对封装可靠性与显示性能造成损伤。需要注意的是，光学胶中的金属粒子是掺杂到金属粒子中的，将保护膜贴附到封装层上时，将保护膜的基材贴附到封装层上，将保护膜的光学胶贴附到衬底上，使得衬底、基材、光学胶形成密闭腔，TFT器件层、发光功能层与封装层设置于密闭腔中，这样光学胶中的金属粒子可对密闭腔的侧表面的水氧入侵起到很好的阻隔作用，提高封装可靠性。

在一个具体的实施例中，该制备方法还包括：

将保护膜30从封装层20上撕离；

在封装层20上制备触控功能层；

在该触控功能层上制备盖板等工艺。

当然，也可通过上述工艺制备显示母板，对制备得到的显示母板进行切割，以形成多个相互独立的显示面板，本发明并不对此做限定。

本实施例提供的显示面板的制备方法，通过在衬底上制备封装层，在封装层上贴附保护膜，使保护膜的基材与封装层贴附，使保护膜的光学胶与衬底贴附，使衬底、基材与光学胶围合形成密闭腔，进而降低在撕离保护膜的过程中，光学胶的黏附力对封装层造成的损害，提升显示面板的良率和可靠性。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括依次层叠设置的衬底、封装层和保护膜，所述保护膜包括基材和设置于所述基材靠近所述封装层一侧的光学胶，

所述衬底、所述基材与所述光学胶围合形成密闭腔，且所述光学胶与所述封装层在所述衬底上的投影不交叠。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述衬底朝向所述保护膜的方向上，所述显示面板还包括层叠设置的TFT器件层、发光功能层，所述封装层包覆所述发光功能层，且所述TFT器件层、所述发光功能层与所述封装层位于所述密闭腔内。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光学胶中掺杂有金属粒子，所述金属粒子可与水氧反应。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述光学胶的材质为丙烯酸类、硅基树脂聚氨酯类、环氧树脂类中的至少一种或几种；

所述金属粒子为纳米铁粒子或纳米铜粒子。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述金属粒子在所述光学胶的质量浓度范围为2.5-10mg/mL。

6.一种显示母板，其特征在于，包括玻璃基底和在所述玻璃基底上阵列排布的多个如权利要求1-5中任一项所述的显示面板。

7.根据权利要求6所述的显示母板，其特征在于，多个所述显示面板的保护膜的基材同层设置，且相互连接形成一个整体的基材。

8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上制备封装层；

在所述封装层上贴附保护膜，所述保护膜包括基材和设置于所述基材靠近所述封装层一侧的光学胶；

其中，贴附保护膜的步骤包括将所述光学胶贴附在所述衬底上，使所述衬底、所述基材与所述光学胶围合形成密闭腔，且所述光学胶与所述封装层在所述衬底上的投影不交叠。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，提供衬底之后还包括：

在所述衬底上制备TFT器件层；

在所述TFT器件层上制备发光功能层；

在所述发光功能层上制备所述封装层；

其中，所述TFT器件层、所述发光功能层与所述封装层位于所述密闭腔内。

10.根据权利要求8-9中任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，还包括：

将所述保护膜从所述封装层上撕离；

在所述封装层上制备触控功能层；

在所述触控功能层上制备盖板。

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