CN111333430B - 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 - Google Patents
一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111333430B CN111333430B CN202010422492.9A CN202010422492A CN111333430B CN 111333430 B CN111333430 B CN 111333430B CN 202010422492 A CN202010422492 A CN 202010422492A CN 111333430 B CN111333430 B CN 111333430B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- parts
- glaze
- odor
- magnetic field
- glazed tile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 56
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 33
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 22
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000000454 talc Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N aluminum;potassium;oxygen(2-);silicon(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] DLHONNLASJQAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims abstract description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 claims abstract description 10
- 229910052656 albite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000006028 limestone Substances 0.000 claims abstract description 10
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 8
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 36
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 23
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 12
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 claims description 12
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 claims description 12
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 12
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 claims description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 40
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 10
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 23
- 230000035943 smell Effects 0.000 description 23
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 15
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 12
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 10
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 7
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 3
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 3
- 230000036541 health Effects 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 3
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 3
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021532 Calcite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004113 Sepiolite Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019994 cava Nutrition 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 2
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052624 sepiolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019355 sepiolite Nutrition 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000805 Pig iron Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001062472 Stokellia anisodon Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 1
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/86—Glazes; Cold glazes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Abstract
本发明公开了一种除味釉料，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。本技术方案提出的一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。进而提出的一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷领域，尤其涉及一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法。
背景技术
现代社会中，居室污染已严重威胁人类的健康。居室污染主要是指来自建筑装璜材料产生的甲醛、笨、氨，煤、液化气、天然气的燃烧等，污染物破坏家庭日常生活环境，影响人们健康。随着人们生活水平和生活品味的提高，人们对公共场所、居住空间、日用生活及医院设施的环境优化及净化日益关注。
陶瓷制品在人们的生活中应用越来越广泛，一些陶瓷砖的生产厂家为解决环境优化及净化的问题，尝试在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉，以利用其辐射出远红外线，实现除去室内的苯、甲醛、硫化物、氨等异味的作用。
现有的陶瓷釉料仅仅通过在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉辐射出远红外线来去除异味，因此其异味去除率较低。为更好地解决环境优化及净化的问题，亟需生产一种异味去除率高的陶瓷釉料运用于陶瓷制品中。
发明内容
本发明的目的在于提出一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。
本发明的另一个目的在于提出一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
一种除味釉料，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；
所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。
优选的，所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。
优选的，所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。
优选的，按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆。
优选的，按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。
优选的，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。
一种上述除味釉料的釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、将除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
优选的，所述除味釉层的厚度为0.05～3mm。
优选的，所述除味釉料过325目筛，筛余0.8～1.2%。
优选的，所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。
本发明的有益效果：本技术方案提出的一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。进而提出的一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。
附图说明
附图对本发明做进一步说明，但附图中的内容不构成对本发明的任何限制。
图1是现有使用远红外陶瓷粉的陶瓷釉料的釉层结构电镜图。
图2是本发明一种除味釉料的釉层结构电镜图。
具体实施方式
一种除味釉料，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；
所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。
本技术方案公开了一种除味釉料，包括负磁场粉、钾长石、钠长石、石灰石、氧化锌、高岭土、氧化铝、烧土、滑石和碳酸钡。
负磁场粉可以辐射远红外线从而达到去除环境中有害气体的目的，当负磁场粉的添加量太少时红外线辐射率低，容易导致有害气体去除率不高；由于负磁场粉富含发色为红色的氧化铁，当负磁场粉的添加量太多时发色太深，不方便对砖面进行印花装饰，而且负磁场粉属于低温材料，若用量太多，使用其他原料调节釉料温度的可调范围就太窄，操作性降低。
氧化铝的量，主要用于调节釉面烧成温度，因为负磁场粉烧成温度低，势必要增加烧成温度高的氧化铝的用量，使釉面烧成温度适应生产窑炉的烧成温度。
釉料配方中的滑石可以为堇青石析晶提供其所需要的MgO，当滑石的添加量过低时，为釉层中析出堇青石晶体的镁元素提供不足；当滑石的添加量过高时，容易导致釉料在烧制后的釉面性能变差，釉面易发白。
釉料配方中碳酸钡的使用，有利于使得釉料在烧制过程中可以充分排气，有效避免无封闭气泡在釉层中，可防止烧制后釉层中不存在针孔等因排气问题而出现的缺陷。
进一步说明，负磁场粉是一种可以辐射远红外线的矿石，且其富含氧化铁，但若做为铁矿，其含铁量却很低，氧化铁含量只有33～37%，属于贫矿，其用于冶炼生铁十分困难。
由于负磁场粉本身可以自发地辐射远红外线，本技术方案将其用于陶瓷领域的釉料中。进一步地，现有技术中用于去除有害气体的釉料配方，其在烧成后一般生成富镁堇青石结构，如图1所示，其分子式为(Mg,Fe)2Al3[AlSi5O18]，这是由于在堇青石晶体结构中，虽然Mg、Fe均是四次配位的，但由于Mg2+比Fe2+的半径小，进入结构四面体中更稳定，因此容易在釉层中生成富镁堇青石结构。
但本技术方案中利用钾长石、钠长石、石灰石、氧化锌、高岭土、氧化铝、烧土、滑石、碳酸钡与富含氧化铁的负磁场粉进行复配，使得除味釉料的配方可在烧成后生成富铁堇青石结构，如图2所示。这是由于堇青石结构中，其成分中Mg和Fe为完全类质同像代替，本技术方案在釉料中引入镁含量极低同时富含铁的负磁场粉后，Fe2+同像替代Mg2+进入四面体，同时骨架外的Al3+也被Fe3+代替，生成铁堇青石。青石是一种具有双折射和二向色性的矿石，也就是说它能有选择地吸收光辐射。由于富铁堇青石的折射率比富镁堇青石的折射率要高，当光线通过富铁堇青石时，对不同光线偏振光的吸收更低，辐射的远红外线也更高。因此，在釉料中生成富铁堇青石的晶体结构，有利于提高釉料的远红外线辐射率，能有效去除环境内的有害气体。
负磁场粉的引入，使得烧制后的釉层可形成复杂的铁堇青石结构，其内部分子的运动，除组成分子的各原子中的电子的运动外，分子本身具有平移运动和转动，分子内部的原子还有相对振动，铁堇青石结构复杂化，使釉层内分子运动的自由度增加，分子的转动和原子的振动能级跃迁，使远红外线产生的量大大增加，从而有利于破坏甲苯、氨、苯、甲苯和硫化氢等有异味、有害气体的分子结构，达到分解有害气体、去除异味的作用。
更进一步说明，在陶瓷生产上，含铁原料一直是避免使用的，因为釉料里的铁一般会造成针孔、溶洞等烧成缺陷，所以现有陶瓷生产中，即使陶瓷原料含微量的铁也会在原料球磨后经过除铁工序去除釉料中的铁。但是本技术方案打破了陶瓷领域的技术限制，将富铁的负磁场粉引入至陶瓷釉料中，且为了避免针孔、溶洞的产生，在釉料中通过对高温原料氧化铝和硅酸锆、低温原料钾钠长石的添加量进行调整，从而达到既能提高除味釉料的有害气体去除率、又能确保釉料无烧成缺陷的效果。
更进一步说明，所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。
本技术方案的负磁场粉的颗粒大小达到纳米级别，有利于使负磁场粉与除味釉料进行更好地混合，有利于负磁场粉在釉料中的分布均匀，从而能有效确保除味釉料的除味性能的实现。
更进一步说明，所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。
本技术方案将负磁场粉按一定比例添加在陶瓷釉料中，烧制后可以得到一种辐射远红外线的釉层，且其放射性检测达标，添加在釉料中安全健康，能有效对有害气体进行去除，同时不影响使用者的健康。
更进一步说明，按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆。
更进一步说明，按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。
本技术方案中还在配方中加入了硅酸锆，其主要可以调节釉料的白度，能有效中和因引入负磁场场而导致的釉面发色暗红，便于对砖面进行印花装饰。
进一步地，常规的硅酸锆，都不可避免地含有铯、铪和钇这些微量元素，但现有技术中只是将硅酸锆所含有的这些微量元素当作杂质。本技术方案中的硅酸锆除了有调节白度的作用以外，同时还提供Cs、Hf、Y等微量元素，令生成的铁堇青石产生大孔道的结构，使铁堇青石晶体表面粗糙，有利于远红外线辐射率增加，从而提高有害气体的去除率。
更进一步说明，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。
本技术方案还提供了除味釉料原料组分的最佳添加比例，使其折射率可达到1.58，运用该添加比例的除味釉料制备釉面砖，釉面砖对甲苯、氨、苯、甲苯和硫化氢的去除率均可达到83%以上。
一种使用上述除味釉料的釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
本技术方案一种釉面砖的制备方法中，虽然除味釉料原料含有富含铁的负磁场粉，但并没有增加除铁工序去除釉料中的铁，有利于确保釉面砖对有害气体进行有效去除。
优选的，以除味釉料的重量份为基准，步骤A中，羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水的加入量均依次为0.15重量份、0.5重量份、0.03重量份和40重量份。
除味釉料加入甲基纤维素、三聚磷酸钠和水，可以使得除味釉料中的原料能充分混合，同时避免除味釉料层与釉面砖的坯体层出现分层现象，提高除味釉料的结合性。
需要说明的是，所述陶瓷砖坯体可由常规的釉面砖砖坯配方制备。
更进一步说明，所述除味釉层的厚度为0.05～3mm。
釉层的厚度也影响其远红外线的辐射率，同时考虑到釉面砖的生产成本及烧成缺陷等因素，本技术方案将除味釉层的厚度限定为0.05～3mm，能有效提高远红外线的辐射率，从而去除环境内的有害气体。
优选的，所述除味釉层的厚度为0.1mm。
更进一步说明，所述除味釉料过325目筛，筛余0.8～1.2%。
进一步地，本技术方案还将除味釉料的颗粒大小进行严格的控制，有利于确保釉料中远红外线的辐射，保证除味性能的提升。
更进一步说明，所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例组1-一种釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将下表1除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；其中，以除味釉料的重量份为基准，羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水的加入量均依次为0.15重量份、0.5重量份、0.03重量份和40重量份；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；其中，除味釉层的厚度为1.3mm；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
分别采用上述表1中不同原料配方的除味釉料制备釉面砖，对获得的釉面砖进行以下性能测试：
其结果如下表2所示：
通过实施例组1的性能测试结果可知，由表2可以看出，上述实施例制备得的釉面砖的有害气体去除效果好，各有害气体的去除率均达到75%以上。
对比实施例组1-一种釉面砖的制备方法
根据实施例1-6中相同的制备方法条件下，仅改变釉面砖中除味釉料原料的配比，如下表3所示：
分别采用上述表3中不同原料配方的除味釉料制备釉面砖，对获得的釉面砖进行有害气体去除率测试，其结果如下表4所示：
通过实施例1-1与对比实施例1-1的性能测试结果可知，负磁场粉可以辐射远红外线从而达到去除环境中有害气体的目的，当负磁场粉的添加量太少时红外线辐射率低，容易导致有害气体去除率不高；通过实施例1-5与对比实施例1-2的性能测试结果可知，虽然甲醛、氨气、苯和甲苯的去除率仍可达到75%以上，但硫化氢的去除率仅为73.2，且观察对比实施例1-2的釉面砖釉面可发现，釉面发色较深，不利于后续工序中对砖面进行印花装饰。
通过实施例1-1与对比实施例1-3的性能测试结果可知，釉料配方中的滑石可以为堇青石析晶提供其所需要的MgO，当滑石的添加量过低时，为釉层中析出堇青石晶体的镁元素提供不足，堇青石生成过少，不利于提高有害气体的去除率，与实施例1-1相比，各有害气体去除率均有下应的下降；通过实施例1-5与对比实施例1-4的性能测试结果可知，虽然甲醛、氨气、苯和甲苯的去除率仍可达到75%以上，但硫化氢的去除率仅为74.3，且观察对比实施例1-4的釉面砖釉面可发现，当滑石的添加量过高时，容易导致釉料在烧制后的釉面性能变差，釉面易发白。
通过实施例组1与对比实施例1-5、1-6、1-7、1-8的性能测试结果可知，对除味釉料中负磁场粉、钾长石、钠长石、石灰石、氧化锌、高岭土、氧化铝、烧土、滑石和碳酸钡的添加量进行控制，有利于釉面砖获得较高的有害气体去除率。
对比实施例组2-一种釉面砖的制备方法
根据实施例1-6中相同的制备方法和条件下，仅改变釉面砖中负磁场粉的氧化铁和氧化镁的含量，如下列对比实施例所示：
对比实施例组2-1：氧化铁含量为20%，氧化镁含量为0.2%；
对比实施例组2-2：氧化铁含量为45%，氧化镁含量为0.2%；
对比实施例组2-4：氧化铁含量为25%，氧化镁含量为10%；
将上述负磁场粉的氧化铁和氧化镁的含量依据实施例1-6中的制备方法制备釉面砖，并对获得的釉面砖进行性能测试，其结果如下表5所示：
通过实施例1-6与对比实施例2-1的性能测试结果可知，负磁场粉可以辐射远红外线从而达到去除环境中有害气体的目的，负磁场粉中的氧化铁有助于釉料中生成富铁堇青石结构，从而有利于提高有害气体的去除率，而负磁场粉中的氧化铁含量过少时，虽然甲醛、氨气、苯和甲苯的去除率仍可达到75%以上，但硫化氢的去除率仅为74.3，总体的有害气体去除率偏低。
通过实施例1-6与对比实施例2-2的性能测试结果可知，虽然负磁场粉中的氧化铁含量的增加有助于釉料中提高有害气体的去除率，但观察对比实施例2-2的釉面砖釉面可发现，其釉面发色较深，并不利于后续工序中对砖面进行印花装饰；
通过实施例1-6与对比实施例2-3的性能测试结果可知，负磁场粉中的氧化铁含量较少且氧化镁含量较多，且其有害气体的去除率均低于75%，这是由于在釉料中生成了富镁堇青石结构，从而不利于提高有害气体的去除率。
对比实施例3-一种釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将去味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得去味釉料；其中，按照质量份数，去味釉料的原料包括以下组分：高岭土21份、方解石27份、钾长石28份、氧化铝8份、火岩泥30份、海泡石17份、硅酸锆13份、磁波石14份、远红外陶瓷粉9份、氧化钐4份、高岭土21份、方解石27份、钾长石28份、氧化铝8份、火岩泥30份、海泡石17份、硅酸锆13份、磁波石14份、硅藻土9份、氧化钐4份；且以去味釉料的重量份为基准，羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水的加入量均依次为0.15重量份、0.5重量份、0.03重量份和40重量份；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成去味釉层；其中，去味釉层的厚度为1.3mm；
C、将步骤B具有去味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
采用上述去味釉料原料的配方组分和制备方法制备釉面砖，并对获得的釉面砖进行有害气体去除率测试，对比实施例3中甲醛去除率、氨气去除率、苯去除率、甲苯去除率和硫化氢气体去除率分别依次为71.2%、70.9%、69.7%、73.2和67.8%。通过实施例1-6与对比实施例3的性能测试结果可知，利用常规配方去味釉料制备釉面砖，其有害气体去除率均在75%以下，总体的有害气体去除率偏低。
实施例组2-一种釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将下表6除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；其中，以除味釉料的重量份为基准，羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水的加入量均依次为0.15重量份、0.5重量份、0.03重量份和40重量份；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；其中，除味釉层的厚度为1.3mm；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
分别采用上述表6中不同原料配方的除味釉料制备釉面砖，对获得的釉面砖进行有害气体的去除率测试，其结果如下表7所示：
通过实施例1-6与实施例组2的性能测试结果可知，硅酸锆的添加有利于远红外线辐射率增加，从而提高有害气体的去除率。
对比实施例组4-一种釉面砖的制备方法，包括以下步骤：
A、将下表8除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；其中，以除味釉料的重量份为基准，羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水的加入量均依次为0.15重量份、0.5重量份、0.03重量份和40重量份；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；其中，除味釉层的厚度为1.3mm；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
分别采用上述表8中不同原料配方的除味釉料制备釉面砖，对获得的釉面砖进行有害气体的去除率测试，其结果如下表9所示：
通过实施例1-6与对比实施例2-1、2-2的性能测试结果可知，当硅酸锆的添加量过少时，观察两对比例的釉面砖釉面，其发色虽然均比实施例1-6的釉面发色要浅，但却对有害气体去除率的提高不明显。
通过实施例1-6与对比实施例2-3、2-4的性能测试结果可知，当硅酸锆的添加量过多时，虽然观察两对比例的釉面砖釉面，其发色浅，且对有害气体去除率有明显提高，但其过多的添加容易导致釉料的烧成温度的变化，且容易造成烧制后的釉面砖出现釉面缺陷。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种除味釉，其特征在于：所述除味釉由除味釉料烧制而成，且所述除味釉生成铁堇青石晶体结构；
按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；
所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%；
按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆，且按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。
2.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。
3.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。
4.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。
5.一种具有权利要求1～4任意一项所述除味釉的釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、将除味釉料的原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；
B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；
C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。
6.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述除味釉层的厚度为0.05～3mm。
7.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述除味釉料过325目筛，筛余0.8～1.2%。
8.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010422492.9A CN111333430B (zh) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010422492.9A CN111333430B (zh) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111333430A CN111333430A (zh) | 2020-06-26 |
| CN111333430B true CN111333430B (zh) | 2020-11-13 |
Family
ID=71179130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010422492.9A Active CN111333430B (zh) | 2020-05-19 | 2020-05-19 | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111333430B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111875255B (zh) * | 2020-07-27 | 2022-07-12 | 广东宏陶陶瓷有限公司 | 健康生态瓷砖及其制备方法 |
| CN112723745A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-04-30 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 抗菌净化釉及使用其的釉面砖的制备方法 |
| CN113772954B (zh) * | 2021-11-09 | 2022-04-15 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种具有细波浪面的瓷砖及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1297519C (zh) * | 2003-10-24 | 2007-01-31 | 蔡日馨 | 一种具远红外线照射作用的纳米釉料及其应用方法 |
| CN103896558B (zh) * | 2014-03-12 | 2015-03-25 | 湖南港鹏实业有限公司 | 一种红外陶瓷保温杯的制备方法及其制得的产品 |
| KR20180019354A (ko) * | 2016-08-16 | 2018-02-26 | 정래옥 | 냉장고의 소음저감 및 소취를 위한 세라믹 제품 및 그 제조방법 |
| CN107188419B (zh) * | 2017-07-07 | 2020-06-12 | 福建省德化县联达陶瓷有限公司 | 一种高耐热抗菌釉粉及其制备方法 |
-
2020
- 2020-05-19 CN CN202010422492.9A patent/CN111333430B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111333430A (zh) | 2020-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111333430B (zh) | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 | |
| CN112110675B (zh) | 一种环境友好型混凝土用抗裂防水剂及其制备方法 | |
| CN103922808B (zh) | 一种利用铁矿渣制备低温绿色仿古釉的方法 | |
| CN113402305B (zh) | 一种砂金釉陶瓷砖及其制备方法 | |
| Jiang et al. | Formation mechanism of high apparent porosity ceramics prepared from fly ash cenosphere | |
| CN109384476A (zh) | 一种防滑耐磨负离子陶瓷砖及其制备方法 | |
| Valášková et al. | Structural variability of high purity cordierite/steatite ceramics sintered from mixtures with various vermiculites | |
| CN1264777C (zh) | 增强强化日用瓷的制造工艺方法 | |
| WO2020082528A1 (zh) | 一种低成本高白度煅烧滑石的制备方法 | |
| CN112723745A (zh) | 抗菌净化釉及使用其的釉面砖的制备方法 | |
| CN103304270B (zh) | 一种利用金矿尾砂制备陶瓷釉料的方法 | |
| CN101775868A (zh) | 一种烧结固化处理工业废渣的方法 | |
| JP4056258B2 (ja) | 酸素ラジカル含有カルシウムアルミネートの製造方法 | |
| Soykan | Low-temperature fabrication of steatite ceramics with boron oxide addition | |
| CN112573826B (zh) | 一种能量粉、除臭砖的制备方法和除臭釉料及制备方法 | |
| CN1657484A (zh) | 一种超白瓷质砖 | |
| Goga et al. | Fly ash from thermal power plant, raw material for glass-ceramic | |
| CN114230326B (zh) | 一种半透光陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN110128163A (zh) | 一种利用废弃催化剂制备堇青石多孔陶瓷材料的方法 | |
| CN1308254C (zh) | 高温发光釉料及其加工工艺、以及其在生产发光瓷砖上的应用 | |
| CN1331805C (zh) | 利用铝型材厂工业污泥制备氧化铝耐磨瓷球的方法 | |
| JP2007084360A5 (zh) | ||
| CN111704823B (zh) | 半干法脱硫灰基增强调温和阻燃型内墙腻子粉及制备方法 | |
| CN114477767A (zh) | 具有湿度调节功能的釉料及使用其的陶瓷砖的制备方法 | |
| KR100729378B1 (ko) | 인조대리석 분진 및 인조대리석 오니를 이용한 하소알루미나의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20210609 Address after: 528031 1st floor, No.127 Jihua West Road, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Patentee after: FOSHAN DONGPENG CERAMIC DEVELOPMENT Co.,Ltd. Patentee after: LI COUNTY XINPENG CERAMIC Co.,Ltd. Address before: 528031 1st floor, No.127 Jihua West Road, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Patentee before: FOSHAN DONGPENG CERAMIC DEVELOPMENT Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20230419 Address after: 528031 1st floor, No.127 Jihua West Road, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Patentee after: FOSHAN DONGPENG CERAMIC DEVELOPMENT Co.,Ltd. Patentee after: LI COUNTY XINPENG CERAMIC Co.,Ltd. Patentee after: FOSHAN DONGHUA SHENGCHANG NEW MATERIAL Co.,Ltd. Address before: 528031 1st floor, No.127 Jihua West Road, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Patentee before: FOSHAN DONGPENG CERAMIC DEVELOPMENT Co.,Ltd. Patentee before: LI COUNTY XINPENG CERAMIC Co.,Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right |