CN111232994A - 一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 117
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 59
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims abstract description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 239000002077 nanosphere Substances 0.000 claims description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 10
- 229920001007 Nylon 4 Polymers 0.000 claims description 9
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 abstract description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 10
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 6
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000003361 porogen Substances 0.000 description 5
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 4
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 4
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 4
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 3
- 239000013335 mesoporous material Substances 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000000599 controlled substance Substances 0.000 description 2
- 238000012377 drug delivery Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 206010006187 Breast cancer Diseases 0.000 description 1
- 208000026310 Breast neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000012229 microporous material Substances 0.000 description 1
- 238000011275 oncology therapy Methods 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000013268 sustained release Methods 0.000 description 1
- 239000012730 sustained-release form Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/30—Particle morphology extending in three dimensions
- C01P2004/32—Spheres
- C01P2004/34—Spheres hollow
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
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Abstract
本发明涉及一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,采用表面带正阳离子的聚苯乙烯微球(PS球)为模板,以正硅酸乙酯(TEOs)为硅源,在碱性环境下进行反应得到二氧化硅包覆的聚苯乙烯微球(PS@SiO2)。将所得PS@SiO2纳米微球锻烧即可得到具有介孔结构的中空二氧化硅纳米微球。本发明无需添加表面活性剂等致孔剂,只需调节正硅酸乙酯(TEOs)的加入量便可得到壳层厚度在8‑40nm的中空介孔二氧化硅球。本发明具有制备方法简便,重现性好(实验重复至少50次),成本低廉(药品价格低廉)等优势。所得中空介孔二氧化硅纳米微球具有分散性好,比表面积大,壳层厚度小,尺寸均一等特征。
Description
技术领域
本发明属于纳米材料可控合成技术领域,涉及一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法。
背景技术
中空介孔材料因其具有较高的比表面积,较大的孔隙体积,均匀有序的介孔结构,以及丰富的合成原料等特征而引起科研人员的广泛关注。近年来发展出一种中空介孔二氧化硅纳米材料,该材料除具有中空和介孔结构的主要特征外,还具有生物相容性好,表面易化学修饰,合成成本低,固载量高等诸多优势。中空介孔二氧化硅纳米微球在生物载药,吸附分离以及能源催化方面具有极其重要的应用价值。
近年来,由于中空介孔纳米材料广泛的应用前景,不同用途的中空介孔纳米材料通过各种合成方法被合成。去模板法是常用的一种制备中空介孔纳米材料的方法。这种方法需要将模板在特定的溶液中溶解或者在高温环境中锻烧。例如,Deng(Biomaterials,Hollow chitosanesilica nanospheres as pH-sensitive targeted delivery carriersin breast cancer therapy,2011 32:4976-4986)等利用聚苯乙烯(PS)为模板,在乙醇中通过纤维素膜过滤后,将其用于制备中空介孔二氧化硅纳米微球,所制备的中空介孔纳米微球的比表面积为210.25m2/g,平均孔径在27.1nm,部分破裂的孔径分布在52.7nm左右。韩(韩世岩,一种介孔中空二氧化硅微球的制备方法,中国,108275687[P]2018-07-13)等通过去模板法制备的中空介孔纳米微球平均粒径分布在200-500nm之间,壁厚为40~55nm。戴(戴李宗,一种单分散性中空介孔二氧化硅纳米粒子的制备方法,中国,103803565[P]2014-05-21)等以聚苯乙烯微球为模板,正硅酸乙酯为硅源,十六烷基三甲基溴化铵或十六烷基三甲基氯化铵为致孔剂,通过锻烧制备了中空介孔二氧化硅纳米微球。
虽然去模板法制备出的中空介孔材料结构较均一,尺寸可控。但去模板过程中会造成壳结构破裂,模板去除不干净,材料容易团聚粘连,形成的壳层厚度大等问题。而且大部分去模板法在形成介孔结构时需要添加表面活性剂,这增加了制备过程的复杂性。例如,Ten(Microporous and Mesoporous Materials,Preparation of hollow mesoporoussilica spheres by a sol–gel/emulsion approach,2010 127:67-72)和Li(ACS AppliedMaterials&Interfaces,Hollow Mesoporous Silica Nanoparticles with TunableStructures for Controlled Drug Delivery,2017 9:2123-2129)等合成的中空介孔纳米球的壳层厚度都大于40nm,且需要外加表面活性剂如CTAB作为制孔剂。贺(广东化工,中空介孔二氧化硅的制备及其药物缓释性能研究,2019 16:29-31)和Zhang(Journal ofMaterials Chemistry B,A soft–hard template approach towards hollow mesoporoussilica nanoparticles with rough surfaces for controlled drug delivery andprotein adsorption 2015 3:6480-6489)等合成的中空介孔纳米球团聚严重,且制备方法复杂。
发明内容
要解决的技术问题
为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,开发一种简单可控的单分散中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法。该方法可重复性高,不需要额外的表面活性剂等致孔剂。此发明工艺简洁,不需要外加CTAB等表面活性剂作为致孔剂,锻烧过程中不会出现结构的坍塌,合成的纳米微球尺寸均一,平均尺寸集中在192±6nm,分散性好,壳层厚度可调控至7±2nm,比表面积达到361.7m2/g。
技术方案
一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,其特征在于:壳层厚度、孔径及比表面积可调的单分散中空介孔二氧化硅纳米微球,制备步骤如下:
步骤1:将苯乙烯、聚吡咯烷酮分散到水溶液中,加入2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐,并通过水浴反应得到聚苯乙烯微球即PS球;制备过程始终通氮气保护;所述苯乙烯、聚吡咯烷酮、2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐与水的质量比为100g︰15g︰2.6g︰100g;
步骤2:将聚苯乙烯微球即PS球分散到乙醇溶液中,再加入TEOs和氨水;并在水浴锅中以反应温度为70~100℃,反应18~24h后得到核壳结构的PS@SiO2纳米微球;PS球的质量与乙醇的体积之比为0.3335g︰45mL;所述正硅酸乙酯TEOs的质量与氨水的体积之比为0.5~2g︰2~5.6mL;
步骤3:将核壳结构的PS@SiO2纳米微球锻烧,锻烧温度为500~600℃,煅烧时间为4~6h,得到中空介孔结构的纳米微球。
所述氨水浓度为25%~28%。
所述步骤2的PS@SiO2纳米微球的反应温度为40~50℃,反应时间为1~3h。
有益效果
本发明提出的一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,采用表面带正阳离子的聚苯乙烯微球(PS球)为模板,以正硅酸乙酯(TEOs)为硅源,在碱性环境下进行反应得到二氧化硅包覆的聚苯乙烯微球(PS@SiO2)。将所得PS@SiO2纳米微球锻烧即可得到具有介孔结构的中空二氧化硅纳米微球。本发明无需添加表面活性剂等致孔剂,只需调节正硅酸乙酯(TEOs)的加入量便可得到壳层厚度在8-40nm的中空介孔二氧化硅球。本发明具有制备方法简便,重现性好(实验重复至少50次),成本低廉(药品价格低廉)等优势。所得中空介孔二氧化硅纳米微球具有分散性好,比表面积大,壳层厚度小,尺寸均一等特征。
在本发明中得到的单分散PS球表面带正阳离子,能够快速将带负电荷的TEOs吸附到PS球表面,并且保证之后所得中空介孔纳米微球的壳层能够控制在更小尺寸,也保证了最终产品的分散性;在锻烧PS球的过程中所产生的二氧化碳气体能够产生较强的气压,冲破二氧化硅壳层形成气孔,因此不需要额外添加表面活性剂等致孔剂,形成理想的中空介孔二氧化硅纳米微球。
实验结果表明,本发明提供的中空介孔纳米微球制备方法,中空介孔纳米微球的粒径分布在190~240nm,壳层厚度可以从40nm调控到8nm;通过透射电子显微镜可以观察到中空介孔纳米微球为中空结构;通过扫描电子显微镜可以观察到中空介孔纳米微球并未破裂;通过氮气吸附脱附实验测得的孔径分布在3~10nm,说明具有介孔结构。
附图说明
图1.实施例1~5所得PS球的TEM和SEM图;
图2.实施例1所得中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM和SEM图;
图3.实施例2所得中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM和SEM图;
图4.实施例3所得中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM和SEM图;
图5.实施例4所得中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM和SEM图;
图6.实施例5所得中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM和SEM图;
表1.实施例1~4所得中空介孔二氧化硅纳米微球的平均尺寸,壳层厚度厚度,孔径和比表面积的数据统计表。
具体实施方式
现结合实施例、附图对本发明作进一步描述:
实施例1
(1)将10g苯乙烯与1.5g聚吡咯烷酮加入100mL水溶液中充分搅拌,然后将0.26g的2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐加到上述混合溶液,该过程通氮气保护并在常温下搅拌60min,然后将反应温度升至70℃,反应24h后得到PS球;所述搅拌速率为100~200r/min;所述PS球用水和乙醇各洗涤三次,45℃下真空烘干。
(2)将0.3335g的PS球加到45mL乙醇溶液中,并超声分散5~10min,然后将PS球的混合溶液转移至磁力搅拌装置中并开启搅拌;所述超声功率为60W。
(3)将2g TEOs加入(2)液中,并立即加入2.4mL的氨水,在50℃水浴锅中加热3h后得到PS@SiO2纳米微球;所得PS@SiO2纳米微球用水和乙醇各洗三次,并在45℃下真空烘干;所述氨水浓度为25%~28%;
(4)将所得PS@SiO2纳米微球在600℃下锻烧5小时,用乙醇和水各洗涤三次,并在45℃下真空烘干后得到中空介孔二氧化硅纳米微球。
首先得到了PS球的TEM(图1a)和SEM(图1b)表征如图1所示,可以看出PS球粒径均一,分散性良好,且平均粒径为190±5nm;其次,中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM(图2a)和SEM(图2b)表征如图2所示,观察到该中空介孔二氧化硅纳米微球是中空结构,壳层厚度为45.6±10nm;观察到中空介孔二氧化硅纳米微球表面几乎无破裂;动态光散射测试结果(表1)显示该中空介孔二氧化硅纳米微球的平均粒径为236±15nm;氮气吸附脱附测试结果(表1)显示其介孔大小为1.2nm,比表面积为78.17m2/g。
实施例2
(1)将10g苯乙烯与1.5g聚吡咯烷酮加入100mL水溶液中充分搅拌,然后将0.26g的2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐加到上述混合溶液,该过程通氮气保护并在常温下搅拌60min,然后将反应温度升至70℃,反应24h后得到PS球;所述搅拌速率为100~200r/min;所述PS球用水和乙醇各洗涤三次,45℃下真空烘干。
(2)将0.3335g的PS球加到45mL乙醇溶液中,并超声分散5~10min,然后将PS球的混合溶液转移至磁力搅拌装置中并开启搅拌;所述超声功率为60W。
(3)将1.2g的TEOs加入(2)液中,并立即加入5.6mL的氨水,在50℃水浴锅中加热1.5h后得到PS@SiO2纳米微球;所得PS@SiO2纳米微球用水和乙醇各洗三次,并在45℃下真空烘干;所述氨水浓度为25%~28%;
(4)将所得PS@SiO2纳米微球在600℃下锻烧5小时,用乙醇和水各洗涤三次,并在45℃下真空烘干得到中空介孔二氧化硅纳米微球。
中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM表征结果如图3a,观察到该中空介孔二氧化硅纳米微球是中空结构,但有少部分破裂,壳层厚度为24.6±3.5nm;SEM表征结果如图3b,观察到中空介孔二氧化硅纳米微球表面粗糙并且部分破裂;与其他实施例相比,实施例2氨水的量增加到5.6ml,因此,氨水浓度对中空介孔二氧化硅纳米微球的形貌有较大的影响;动态光散射测试结果(表1)显示其平均粒径为216±9nm;氮气吸附脱附测试结果(表1)显示其介孔大小为3.7nm,比表面积为320m2/g。
实施例3
(1)将10g苯乙烯与1.5g聚吡咯烷酮加入100mL水溶液中充分搅拌,然后将0.26g的2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐加到上述混合溶液,该过程通氮气保护并在常温下搅拌60min,然后将反应温度升至70℃,反应24h后得到PS球;所述搅拌速率为100~200r/min;所述PS球用水和乙醇各洗涤三次,45℃下真空烘干。
(2)将0.3335g的PS球加到45mL乙醇溶液中,并超声分散5~10min,然后将PS球的混合溶液转移至磁力搅拌装置中并开启搅拌;所述超声功率为60W。
(3)将1g的TEOs加入(2)液中,并立即加入2.24mL的氨水,在50℃水浴锅中加热1.5h后得到PS@SiO2纳米微球;所得PS@SiO2纳米微球用水和乙醇各洗三次,并在45℃下真空烘干;所述氨水浓度为25%~28%;
(4)将所得PS@SiO2纳米微球在600℃下锻烧5小时,用乙醇和水各洗涤三次,并在45℃下真空烘干得到中空介孔二氧化硅纳米微球。
中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM表征结果如图4a,观察到该中空介孔二氧化硅纳米微球是中空结构,壳厚度为18±4nm;SEM表征结果如图4b,观察到中空介孔二氧化硅纳米微球几乎无破裂;动态光散射测试结果(表1)显示其平均粒径为210±3nm;氮气吸附脱附测试结果(表1)显示其介孔大小为4.3nm,比表面积为226m2/g。
实施例4
(1)将10g苯乙烯与1.5g聚吡咯烷酮加入100mL水溶液中充分搅拌,然后将0.26g的2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐加到上述混合溶液,该过程通氮气保护并在常温下搅拌60min,然后将反应温度升至70℃,反应24h后得到PS球;所述搅拌速率为100~200r/min;所述PS球用水和乙醇各洗涤三次,45℃下真空烘干。
(2)将0.3335g的PS球加到45mL乙醇溶液中,并超声分散5~10min,然后将PS球的混合溶液转移至磁力搅拌装置中并开启搅拌;所述超声功率为60W。
(3)将0.5g的TEOs加入(2)液中,并立即加入2mL的氨水,在50℃水浴锅中加热1.5h后得到PS@SiO2纳米微球;所得PS@SiO2纳米微球用水和乙醇各洗三次,并在45℃下真空烘干;所述氨水浓度为25%~28%;
(4)将所得PS@SiO2纳米微球在600℃下锻烧5小时,用乙醇和水各洗涤三次,并在45℃下真空烘干得到中空介孔二氧化硅纳米微球。
中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM表征结果如图5a,观察到该中空介孔二氧化硅纳米微球是中空结构,壳层厚度为7±2nm;SEM表征结果如图5b,观察到中空介孔二氧化硅纳米微球表面几乎无破裂;动态光散射测试结果(表1)显示其平均粒径为192±6nm;氮气吸附脱附测试结果(表1)显示其介孔大小为4.2和10nm,比表面积为361.7m2/g。与其他实施例相比,实施例4所制备的中空介孔纳米微球的壳层厚度更小,比表面积更高,这与加入的TEOs的量密切相关,当TEOs的加入量过大,壳层厚度较厚,气孔不容易形成,导致比表面积减小。因此,该TEOs的加入量需严格控制。
表1
实施例5
(1)将10g苯乙烯与1.5g聚吡咯烷酮加入100mL水溶液中充分搅拌,然后将0.26g的2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐加到上述混合溶液,该过程通氮气保护并在常温下搅拌60min,然后将反应温度升至70℃,反应24h后得到PS球;所述搅拌速率为100~200r/min;所述PS球用水和乙醇各洗涤三次,45℃下真空烘干。
(2)将0.3335g的PS球加到45mL乙醇溶液中,并超声分散5~10min,然后将PS球的混合溶液转移至磁力搅拌装置中并开启搅拌;所述超声功率为60W。
(3)将1g的TEOs加入(2)液中,并立即加入2mL的氨水,在50℃水浴锅中加热1.5h后得到PS@SiO2纳米微球;所得PS@SiO2纳米微球用水和乙醇各洗三次,并在45℃下真空烘干;所述氨水浓度为25%~28%;
(4)将所得PS@SiO2纳米微球在600℃下锻烧8小时,用乙醇和水各洗涤三次,并在45℃下真空烘干得到中空介孔二氧化硅纳米微球。
中空介孔二氧化硅纳米微球的TEM表征结果如图6a,观察到该中空介孔二氧化硅纳米微球虽然是中空结构,但大部分已经坍塌;SEM表征结果如图5b,观察到中空介孔二氧化硅纳米微球表面大部分破裂;与其他实施例对比,实施例5的煅烧时间增长至8小时,因此锻烧时间对中空结构的完整性至关重要。
Claims (3)
1.一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,其特征在于:壳层厚度、孔径及比表面积可调的单分散中空介孔二氧化硅纳米微球,制备步骤如下:
步骤1:将苯乙烯、聚吡咯烷酮分散到水溶液中,加入2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐,并通过水浴反应得到聚苯乙烯微球即PS球;制备过程始终通氮气保护;所述苯乙烯、聚吡咯烷酮、2,2'-偶氮二(2-甲基丙基咪)二盐酸盐与水的质量比为100g︰15g︰2.6g︰100g;
步骤2:将聚苯乙烯微球即PS球分散到乙醇溶液中,再加入TEOs和氨水;并在水浴锅中以反应温度为70~100℃,反应18~24h后得到核壳结构的PS@SiO2纳米微球;PS球的质量与乙醇的体积之比为0.3335g︰45mL;所述正硅酸乙酯TEOs的质量与氨水的体积之比为0.5~2g︰2~5.6mL;
步骤3:将核壳结构的PS@SiO2纳米微球锻烧,锻烧温度为500~600℃,煅烧时间为4~6h,得到中空介孔结构的纳米微球。
2.根据权利要求1所述中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,其特征在于:所述氨水浓度为25%~28%。
3.根据权利要求1所述中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法,其特征在于:所述步骤2的PS@SiO2纳米微球的反应温度为40~50℃,反应时间为1~3h。
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CN202010200355.0A CN111232994B (zh) | 2020-03-20 | 2020-03-20 | 一种中空介孔二氧化硅纳米微球的制备方法 |
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Publications (2)
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CN111232994A true CN111232994A (zh) | 2020-06-05 |
CN111232994B CN111232994B (zh) | 2023-01-24 |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111232994B (zh) |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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