CN111146122B - 一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法，该液体收集装置包括：收集槽；第一环形遮挡件和第二环形遮挡件，设置于收集槽中，且第二环形遮挡件间隔套设于第一环形遮挡件的外围，以将收集槽分割为内腔室、中间腔室和外腔室；内腔室用于容纳承载平台；第一环形遮挡件和第二环形遮挡件的高度可分别调整，以使内腔室或者中间腔室中的一个收集从第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，外腔室或者中间腔室中的一个收集从第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室收集从第一尺寸范围或第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液。通过上述方式，本申请能够提高液体收集装置处理不同尺寸的处理物时的通用性和适配度。

Description

一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法

技术领域

本申请涉及半导体加工技术领域，特别是涉及一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法。

背景技术

在对处理物进行显影/刻蚀时，需在液体收集装置中对处理物的表面喷洒药液以显影/刻蚀，并使用清洗液来冲洗处理物的表面。其中，液体收集装置用于将药液回收循环利用，并将使用过的清洗液排出。

而对不同尺寸的处理物进行显影/刻蚀时，通常需配备相应尺寸的液体收集装置，因此现有的液体收集装置通用性和适配度较差。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种液体收集装置、显影/刻蚀机台和显影/刻蚀方法，能够提高液体收集装置处理不同尺寸的处理物时的通用性和适配度。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种液体收集装置，该液体收集装置包括：收集槽、第一环形遮挡件和第二环形遮挡件；其中，第一环形遮挡件和第二环形遮挡件设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；所述内腔室用于容纳承载平台，所述承载平台用于承载不同尺寸范围的处理物；其中，所述第一环形遮挡件匹配第一尺寸范围的处理物，所述第二环形遮挡件匹配第二尺寸范围的处理物，所述第一尺寸范围小于所述第二尺寸范围，且所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件的高度分别可受控调整，以使所述内腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，所述外腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室收集从所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液。

其中，当所述承载平台承载所述第一尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的药液收集至所述内腔室中；当所述承载平台承载所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件与所述处理物的外边缘靠近设置时，所述处理物上的药液收集至所述外腔室中；当所述承载平台承载所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的清洗液收集至所述中间腔室中。

其中，所述第一环形遮挡件包括：第一环形挡板，固定设置于所述收集槽内；第二环形挡板，套设于所述第一环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第一环形挡板上下移动；第三环形挡板，与所述第二环形挡板固定连接，且所述第三环形挡板在远离所述第二环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线。

其中，所述第二环形遮挡件包括：第四环形挡板，固定设置于所述收集槽内；第五环形挡板，套设于所述第四环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第四环形挡板上下移动；第六环形挡板，与所述第五环形挡板固定连接，且所述第六环形挡板在远离所述第五环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线。

其中，所述内腔室、所述中间腔室和所述外腔室的底部分别设置有第一出口、第二出口和第三出口，所述液体收集装置还设置有分别与所述第一出口、所述第二出口和所述第三出口连接的第一管路、第二管路和第三管路，且所述第一管路、所述第二管路和所述第三管路上分别设置有第一阀门、第二阀门和第三阀门，所述第一管路和所述第三管路的另一端用于与药液供给装置连接，所述第二管路的另一端与用于与清洗液收集罐连通。

其中，所述液体收集装置还包括：第四管路，与所述第一管路并联设置于所述第一出口位置处，所述第四管路上设置有第四阀门，所述第四管路的另一端用于与药液收集罐连通；第五管路，与所述第三管路并联设置于所述第三出口位置处，所述第五管路上设置有第五阀门，所述第五管路的另一端用于与所述药液收集罐连通；当所述内腔室或所述外腔室中的所述药液符合预设条件时，所述第四阀门和所述第五阀门关闭，所述第一阀门和所述第三阀门打开；当所述内腔室或所述外腔室中的所述药液不符合预设条件时，所述第四阀门和所述第五阀门打开，所述第一阀门和所述第三阀门关闭。

其中，所述液体收集装置还包括：药液浓度测试器，用于测试所述内腔室和所述外腔室中收集的所述药液的浓度。

其中，所述收集槽的外侧壁固定连接有第七环形挡板，在远离所述外侧壁方向上，所述第七环形挡板逐渐靠近所述中心线；且当所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件高度最高时，所述第一环形遮挡件、所述第二环形遮挡件、所述第七环形挡板之间非接触。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显影/刻蚀机台，该显影/刻蚀机台包括：上述技术方案中的液体收集装置；承载平台，位于所述内腔室中，用于承载不同尺寸范围的处理物；药液供给装置，包括药液喷嘴，所述药液喷嘴设置于所述承载平台上方，用于向所述承载平台承载的晶圆表面喷射药液；清洗液供给装置，包括清洗液喷嘴，所述清洗液喷嘴设置于所述承载平台上方，用于向所述承载平台承载的晶圆表面喷射清洗液。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种显影/刻蚀方法，其特征在于，该显影/刻蚀方法包括：根据位于收集槽的内腔室中的承载平台上承载的处理物的尺寸范围，调整第一环形遮挡件和第二环形遮挡件的高度，以使得所述内腔室或者中间腔室中的一个可以收集从第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，外腔室或者所述中间腔室中的一个可以收集从第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室可以收集从所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液；其中，所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；药液供给装置中的药液喷嘴对所述处理物表面喷射药液，或，清洗液供给装置中的清洗液喷嘴对所述处理物表面喷射清洗液。

本申请的有益效果是：本申请所提供的液体收集装置设置有第一环形遮挡件和第二环形遮挡件，且第一环形遮挡件和第二环形遮挡件的高度可调，进而匹配第一尺寸范围和第二尺寸范围的处理物，将不同尺寸的处理物外边缘流出的药液或清洗液收集，提高了液体收集装置对于不同尺寸的处理物的通用性和适配度。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本申请液体收集装置一实施方式的剖面结构示意图；

图2是本申请液体收集装置处理第一尺寸范围的处理物时一实施方式的剖面结构示意图；

图3是本申请液体收集装置处理第二尺寸范围的处理物时一实施方式的剖面结构示意图；

图4是本申请显影/刻蚀机台一实施方式的剖面结构示意图；

图5是本申请显影/刻蚀方法一实施方式的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1，图1是本申请液体收集装置一实施方式的剖面结构示意图，该液体收集装置包括收集槽12、第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16。

其中，第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16设置于收集槽12中，且第二环形遮挡件16间隔套设于第一环形遮挡件14的外围，以将收集槽12分割为独立的内腔室120、中间腔室122和外腔室124；内腔室120用于容纳承载平台18，承载平台18用于承载不同尺寸范围的处理物20。

具体地，请参阅图2，图2是本申请液体收集装置处理第一尺寸范围的处理物时一实施方式的剖面结构示意图。如图2a所示，第一环形遮挡件14匹配第一尺寸范围的处理物20a，当第一尺寸范围的处理物20a表面需要喷射药液或清洗液时，调整第二环形挡板16的高度低于第一环形挡板14，调整第一环形遮挡件14的高度高于第一尺寸范围的处理物20a外边缘，进而第一尺寸范围的处理物20a的外边缘流出的药液(或清洗液)沿图中箭头A和B的方向流入内腔室120；或者，如图2b所示，调整第二环形遮挡件16的高度高于第一尺寸范围的处理物20a外边缘，调整第一环形遮挡件14的高度至第一尺寸范围的处理物20a外边缘的下方，此时第一环形遮挡件14靠近第一尺寸范围的处理物20a的一端与第一尺寸范围的处理物20a外边缘还有较小的间隔，进而第一尺寸范围的处理物20a的外边缘流出的清洗液(或药液)沿图中箭头C和D的方向流入中间腔室122。

其中，若内腔室120用于收集药液，则中间腔室122用于收集清洗液；若中间腔室122用于药液，则内腔室120用于收集清洗液。

进一步地，请参阅图3，图3是本申请液体收集装置处理第二尺寸范围的处理物时一实施方式的剖面结构示意图。第二环形遮挡件16匹配第二尺寸范围的处理物20b，具体地，如图3a所示，第一尺寸范围小于第二尺寸范围。第二尺寸范围的处理物20b表面需要喷射药液或清洗液时，调整第二环形遮挡件16的高度高于第二尺寸范围的处理物20b外边缘，调整第一环形遮挡件14的高度低于第二尺寸范围的处理物20b外边缘，进而第二尺寸范围的处理物20b的外边缘流出的清洗液(或药液)沿图中箭头E和F的方向流入中间腔室122；或者，如图3b所示，调整第一环形遮挡件14的高度低于第二环形遮挡件16的高度，调整第二环形遮挡件16的高度至第二尺寸范围的处理物20b外边缘的下方，此时第二环形遮挡件16靠近第二尺寸范围的处理物20b的一端与第二尺寸范围的处理物20b外边缘还有较小的间隔，进而第二尺寸范围的处理物20b的外边缘流出的药液(或清洗液)沿图中箭头G和H的方向流入外腔室124。

可以理解地，若外腔室124用于收集药液，则中间腔室122用于收集清洗液；若中间腔室122用于药液，则外腔室124用于清洗液。

无论是在调节第一环形遮挡件14还是调节第二环形遮挡件16至处理物20外边缘的下方时，第一环形遮挡件14或第二环形遮挡件16靠近处理物20外边缘的一端都与处理物20的外边缘有一定间隔，该间隔在较小的范围内变化时不会影响液体收集装置对药液或清洗液的收集效果，因此处理物20的尺寸只要在第一尺寸值和第二尺寸值上下浮动的范围内，液体收集装置都可以处理该处理物20。

第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16的高度可调，进而可匹配第一尺寸范围的处理物20a和第二尺寸范围的处理物20b，将不同尺寸的处理物外边缘流出的药液或清洗液收集，提高了液体收集装置对于不同尺寸的处理物的通用性和适配度。

在一具体应用场景中，当承载平台18承载第一尺寸范围的处理物20a，且第一环形遮挡件14位于承载平台16的上方时，第一尺寸范围的处理物20a外边缘流出的药液收集至内腔室120中。当承载平台18承载第二尺寸范围的处理物20b，且第一环形遮挡件14位于承载平台18的下方，第二环形遮挡件16与第二尺寸范围的处理物20b的外边缘靠近设置时，第二环形遮挡件16的高度稍低于第二尺寸范围的处理物20b，第二尺寸范围的处理物20b外边缘流出的药液收集至外腔室124中。当承载平台18承载第一尺寸范围的处理物20a或第二尺寸范围的处理物20b，且第一环形遮挡件14位于承载平台18的下方，第二环形遮挡件16位于承载平台18的上方时，第一尺寸范围的处理物20a或第二尺寸范围的处理物20b外边缘流出的清洗液收集至中间腔室122中。

具体地，承载平台18进一步可设置为可旋转的平台，对于圆形处理物20，在喷洒药液或清洗液的同时，承载平台18不断旋转，可使药液或清洗液更加均匀地被喷洒在处理物20的表面上。

在一具体应用例中，处理物20为晶圆。对于8寸的晶圆，可参照图2中的方式，调整第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16的高度。对于12寸的晶圆，可参照图3中的方式，调整第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16的高度。

进一步地，请继续参阅图1，第一环形遮挡件14包括第一环形挡板140、第二环形挡板142和第三环形挡板144。其中，第一环形挡板140固定设置于收集槽12内；第二环形挡142套设于第一环形挡板140的外壁或内壁，且可相对第一环形挡板140上下移动；第三环形挡板144与第二环形挡板142固定连接，且第三环形挡板144在远离第二环形挡板142方向上逐渐靠近内腔室120的中心线。

可选地，第一环形挡板140设置有若干定位点，进而套设在第一环形挡板140上的第二环形挡板142可在第一环形挡板140上滑动，并且定位于定位点上，以调整第二环形挡板142的高度，进而改变第三环形挡板144的外边缘相对于处理物20的位置。可以理解的是，第一环形挡板140和第二环形挡板142位置调整方式既可以是手动调整，也可由计算机以第一环形遮挡件14所需的高度的阈值作为判断条件，设定上升或下降流程的程序，进行程式控制。

可选地，第二环形挡板142的传动装置可包括丝杆，并且该丝杆由电机驱动，进而由计算机控制第二环形挡板142自动调整位置。

第二环形挡板142可沿第一环形挡板140移动，可在需要调整第一环形遮挡件14的高度时，使调节更便捷，并且第三环形挡板144与第二环形挡板142之间呈一钝角，进而第三环形挡板144可更好地将药液或清洗液引流至腔室中。

同理，第二环形遮挡件16包括第四环形挡板160、第五环形挡板162和第六环形挡板164。其中，第四环形挡板160固定设置于收集槽12内；第五环形挡板162套设于第四环形挡板160的外壁或内壁，且可相对第四环形挡板160上下移动；第六环形挡板164与第五环形挡板162固定连接，且第六环形挡板164在远离第五环形挡板162方向上逐渐靠近内腔室120的中心线。

可选地，第四环形挡板160设置有若干定位点，进而套设在第四环形挡板160上的第五环形挡板162可在第四环形挡板160上滑动，并且定位于定位点上，以调整第五环形挡板162的高度，进而改变第六环形挡板164的外边缘相对于处理物20的位置。可以理解的是，第四环形挡板160和第五环形挡板162位置调整方式既可以是手动调整，也可由计算机以第二环形遮挡件16所需的高度的阈值作为判断条件，设定上升或下降流程的程序，进行程式控制。

可选地，第五环形挡板162的传动装置可包括丝杆，并且该丝杆由电机驱动，进而由计算机控制第五环形挡板162自动调整位置。

第五环形挡板162可沿第四环形挡板160移动，可在需要调整第二环形遮挡件16的高度时，使调节更便捷，并且第六环形挡板164与第五环形挡板162之间呈一钝角，进而第六环形挡板164可更好地将药液或清洗液引流至腔室中。

可选地，在第三环形挡板144和第六环形挡板164上还可设置与之平行的环形挡板，并且该环形挡板可在第三环形挡板144或第六环形挡板164上滑动，进而改变第三环形挡板144或第六环形挡板164靠近处理物20的一端与处理物20的距离，以使液体收集装置适用更多尺寸范围的处理物20。

可选地，收集槽12的外侧壁15固定连接有第七环形挡板19，在远离外侧壁15方向上，第七环形挡板19逐渐靠近内腔室120的中心线。外侧壁15和第七环形挡板19总高度高于第二环形遮挡件16的最大高度，进而即使第二环形遮挡件16上升至极限高度，第七环形挡板19与第二环形遮挡件16也不会接触。因此，当药液或清洗液经处理物20的外边缘流进外腔室124时，即使药液或清洗液从处理物20表面溅起，第七环形挡板19也能将溅起的药液或清洗液引流至外腔室124内。同理，第二环形遮挡件16的最大高度要大于第一环形遮挡件14的最大高度，当药液或清洗液经处理物20的外边缘流进中间腔室122时，即使药液或清洗液从处理物20表面溅起，第六环形挡板164也能将溅起的药液或清洗液引流至中间腔室122。通过上述方式，即使第一环形遮挡件14和第二环形遮挡件16高度最高时，第一环形遮挡件14、第二环形遮挡件16、第七环形挡板19之间互相不会接触。

在一具体应用场景中，请继续参阅图1，中间腔室122只用于收集清洗液，内腔室120或外腔室124用于收集药液。

内腔室120、中间腔室122和外腔室124的底部分别设置有第一出口121、第二出口123和第三出口125，液体收集装置还设置有分别与第一出口121、第二出口123和第三出口125连接的第一管路126、第二管路127和第三管路128，且第一管路126、第二管路127和第三管路128上分别设置有第一阀门1260、第二阀门1270和第三阀门1280，第一管路126和第三管路128的另一端用于与药液供给装置连接17，第二管路127的另一端与用于与清洗液收集罐24连通。

若内腔室120或外腔室124已无法进一步容纳药液，则打开第一阀门1260或第三阀门1280使药液流入药液供给装置17，若中间腔室122已无法进一步容纳清洗液，则打开第二阀门1270使清洗液流进清洗液收集罐24，进而提高药液收集装置的容量。

进一步地，第一出口121处还设有与第一管路126并联设置的第四管路130，第四管路130上设置有第四阀门1300，该第四管路130的另一端与药液收集罐26连通。第三出口125处还设有与第三管路128并联设置的第五管路132，第五管路132上设置有第五阀门1320，该第五管路132的另一端与药液收集罐26连通。药液收集罐26可进一步提高液体收集装置的容量。

进一步地，液体收集装置还包括药液浓度测试器(图未示)，用于测试内腔室120和外腔室124中收集的药液的浓度。药液浓度测试器(图未示)可设置于内腔室120和外腔室124中；或者设置于第一管路126和第三管路128上。

具体地，当内腔室120和/或外腔室124中的药液符合预设条件时，第四阀门1300和第五阀门1320关闭，第一阀门1260和第三阀门1280打开。当内腔室120和/或外腔室124中的药液不符合预设条件时，第四阀门1300和第五阀门1320打开，第一阀门1260和第三阀门1280关闭。进而，达标的药液可并回收至药液供给装置17中，实现药液的循环使用，节约成本，不达标的药液流进药液收集罐26，进而及时排放，提高生产效率。

可选地，第一阀门1260、第三阀门1280、第四阀门1300和第五阀门1320可依据药液浓度的预设条件自动控制，第二阀门1270也可根据中间腔室122中清洗液的液位高度设定阈值自动控制。

请参阅图4，图4是本申请显影/刻蚀机台一实施方式的剖面结构示意图。该显影/刻蚀机台30包括上述实施方式中的液体收集装置、药液供给装置17、承载平台18、清洗液供给装置22。

其中，承载平台18位于内腔室120中，用于承载不同尺寸范围的处理物20。药液供给装置17包括药液喷嘴170，药液喷嘴170设置于承载平台18上方，用于向承载平台18承载的处理物20表面喷射药液。清洗液供给装置22包括清洗液喷嘴220，清洗液喷嘴220设置于承载平台18上方，用于向承载平台18承载的处理物20表面喷射清洗液。

在一具体应用例中，处理物20可为晶圆，其中，8寸的晶圆对应上述实施方式图2中的第一尺寸范围的处理物20a，12寸晶圆对应上述实施方式图3中的第二尺寸范围的处理物20b，关于环形挡板以及阀门如何调整的详细内容可参见上述实施方式，在此不再赘述。

药液供给管路与清洗液供给管路相互独立，在需要使用药液或需要使用清洗液时，可手动调整，或根据显影/刻蚀的流程，通过程序设置成自动切换。

本实施例所提供的显影/刻蚀机台30，可对不同尺寸的处理物20进行显影/刻蚀，并且实现药液的循环利用，提高了显影/刻蚀机台30的通用性，节约了药液的使用进而节约了生产成本。

请参阅图5，图5是本申请显影/刻蚀方法一实施方式的流程示意图，该显影/刻蚀方法包括：

S101：根据位于收集槽的内腔室中的承载平台上承载的处理物的尺寸范围，调整第一环形遮挡件和第二环形遮挡件的高度。

具体地，在上述S101中，对不同尺寸范围的处理物进行显影/刻蚀时，第一环形遮挡件匹配第一尺寸范围的处理物，第二环形遮挡件匹配第二尺寸范围的处理物。其中，第一环形遮挡件和第二环形遮挡件设置于收集槽中，且第二环形遮挡件间隔套设于第一环形遮挡件的外围，以将收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室。第一尺寸范围小于第二尺寸范围。

当处理物的尺寸在第一尺寸范围内，调整第二环形挡板的高度低于第一环形挡板，调整第一环形遮挡件的高度高于处理物外边缘，进而处理物的外边缘流出的药液或清洗液可流入内腔室；或者，调整第二环形遮挡件的高度高于处理物外边缘，调整第一环形遮挡件的高度至处理物外边缘的下方或齐平于处理物的外边缘，此时第一环形遮挡件靠近处理物的一端与处理物外边缘还有较小的间隔，进而处理物的外边缘流出的药液或清洗液可流入中间腔室。

当处理物的尺寸在第二尺寸范围内，调整第二环形遮挡件的高度高于处理物外边缘，调整第一环形遮挡件的高度低于或齐平于处理物的外边缘，进而处理物外边缘流出的药液或清洗液可流入中间腔室；或者，调整第一环形遮挡件的高度低于第二环形遮挡件的高度，调整第二环形遮挡件的高度至处理物外边缘的下方或齐平与处理物的外边缘，此时第二环形遮挡件靠近处理物的一端与处理物外边缘还有较小的间隔，进而的处理物的外边缘流出的药液或清洗液可流入外腔室。

进一步地，针对第一尺寸范围的处理物，若内腔室用于收集药液，则中间腔室用于收集清洗液；若中间腔室用于收集药液，则内腔室用于收集清洗液。若外腔室用于收集药液，则中间腔室用于收集清洗液；针对第二尺寸范围的处理物，若中间腔室用于收集药液，则外腔室用于收集清洗液。

无论是在调节第一环形遮挡件还是调节第二环形遮挡件至处理物外边缘的下方或齐平于处理物的外边缘时，第一环形遮挡件或第二环形遮挡件靠近处理物外边缘的一端都与处理物的外边缘有一定间隔，该间隔在较小的范围内变化时不会影响对药液或清洗液的收集效果，因此处理物的尺寸只要在第一尺寸值和第二尺寸值上下10％的范围内，都可以使用本申请显影/刻蚀方法来进行显影/刻蚀。

S102：药液供给装置中的药液喷嘴对所述处理物表面喷射药液。

具体地，在上述S102中，药液喷射于处理物表面后存储于腔室中，由药液浓度测试器检测药液的浓度是否合格，若合格则打开回液管路的阀门关闭排液管路的阀门，使合格的药液重回药液供给装置；若不合格则关闭回液管路的阀门打开排液管路的阀门，使不合格的药液排出。

S103：清洗液供给装置中的清洗液喷嘴对所述处理物表面喷射清洗液。

具体地，上述S103中，清洗液喷射于处理物的表面后存储于腔室中，可打开排水管路的阀门将使用过的清洗液排出。

其中S102和S103也可为并列，视当前环节所需的工艺流程，决定在S101后执行S102还是S103。

本实施例所提供的显影/刻蚀方法，在同一显影/刻蚀机中即可完成对不同尺寸的处理物的显影/刻蚀，提高了生产效率。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种液体收集装置，其特征在于，包括：

收集槽；

第一环形遮挡件和第二环形遮挡件，设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；所述内腔室用于容纳承载平台，所述承载平台用于承载不同尺寸范围的处理物；

其中，所述第一环形遮挡件匹配第一尺寸范围的处理物，所述第二环形遮挡件匹配第二尺寸范围的处理物，所述第一尺寸范围小于所述第二尺寸范围，且所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件的高度分别可受控调整，以使所述内腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，所述外腔室或者所述中间腔室中的一个收集从所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室收集从所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液；

其中，所述第一环形遮挡件包括：第一环形挡板、第二环形挡板以及第三环形挡板；第一环形挡板固定设置于所述收集槽内；第二环形挡板套设于所述第一环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第一环形挡板上下移动；第三环形挡板与所述第二环形挡板固定连接，且所述第三环形挡板在远离所述第二环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线；

所述第二环形遮挡件包括：第四环形挡板、第五环形挡板以及第六环形挡板；第四环形挡板固定设置于所述收集槽内；第五环形挡板套设于所述第四环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第四环形挡板上下移动；第六环形挡板与所述第五环形挡板固定连接，且所述第六环形挡板在远离所述第五环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线。

2.根据权利要求1所述的液体收集装置，其特征在于，

当所述承载平台承载所述第一尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的药液收集至所述内腔室中；

当所述承载平台承载所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件与所述处理物的外边缘靠近设置时，所述处理物上的药液收集至所述外腔室中；

当所述承载平台承载所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物，且所述第一环形遮挡件位于所述承载平台的下方，所述第二环形遮挡件位于所述承载平台的上方时，所述处理物上的清洗液收集至所述中间腔室中。

3.根据权利要求2所述的液体收集装置，其特征在于，

所述内腔室、所述中间腔室和所述外腔室的底部分别设置有第一出口、第二出口和第三出口，所述液体收集装置还设置有分别与所述第一出口、所述第二出口和所述第三出口连接的第一管路、第二管路和第三管路，且所述第一管路、所述第二管路和所述第三管路上分别设置有第一阀门、第二阀门和第三阀门，所述第一管路和所述第三管路的另一端用于与药液供给装置连接，所述第二管路的另一端与用于与清洗液收集罐连通。

4.根据权利要求3所述的液体收集装置，其特征在于，所述液体收集装置还包括：

第四管路，与所述第一管路并联设置于所述第一出口位置处，所述第四管路上设置有第四阀门，所述第四管路的另一端用于与药液收集罐连通；

第五管路，与所述第三管路并联设置于所述第三出口位置处，所述第五管路上设置有第五阀门，所述第五管路的另一端用于与所述药液收集罐连通；

当所述内腔室或所述外腔室中的所述药液符合预设条件时，所述第四阀门和所述第五阀门关闭，所述第一阀门和所述第三阀门打开；当所述内腔室或所述外腔室中的所述药液不符合预设条件时，所述第四阀门和所述第五阀门打开，所述第一阀门和所述第三阀门关闭。

5.根据权利要求4所述的液体收集装置，其特征在于，所述液体收集装置还包括：

药液浓度测试器，用于测试所述内腔室和所述外腔室中收集的所述药液的浓度。

6.根据权利要求1所述的液体收集装置，其特征在于，

所述收集槽的外侧壁固定连接有第七环形挡板，在远离所述外侧壁方向上，所述第七环形挡板逐渐靠近所述内腔室的中心线；且当所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件高度最高时，所述第一环形遮挡件、所述第二环形遮挡件、所述第七环形挡板之间非接触。

7.一种显影/刻蚀机台，其特征在于，包括：

权利要求1-6任一项所述的液体收集装置；

承载平台，位于所述内腔室中，用于承载不同尺寸范围的处理物；

药液供给装置，包括药液喷嘴，所述药液喷嘴设置于所述承载平台上方，用于向所述承载平台承载的晶圆表面喷射药液；

清洗液供给装置，包括清洗液喷嘴，所述清洗液喷嘴设置于所述承载平台上方，用于向所述承载平台承载的晶圆表面喷射清洗液。

8.一种显影/刻蚀方法，其特征在于，所述方法包括：

根据位于收集槽的内腔室中的承载平台上承载的处理物的尺寸范围，调整第一环形遮挡件和第二环形遮挡件的高度，以使得所述内腔室或者中间腔室中的一个收集从第一尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，外腔室或者所述中间腔室中的一个收集从第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的药液，剩余腔室收集从所述第一尺寸范围或所述第二尺寸范围的处理物的外边缘流出的清洗液；其中，所述第一环形遮挡件和所述第二环形遮挡件设置于所述收集槽中，且所述第二环形遮挡件间隔套设于所述第一环形遮挡件的外围，以将所述收集槽分割为独立的内腔室、中间腔室和外腔室；

其中，所述第一环形遮挡件包括：第一环形挡板、第二环形挡板以及第三环形挡板；第一环形挡板固定设置于所述收集槽内；第二环形挡板套设于所述第一环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第一环形挡板上下移动；第三环形挡板与所述第二环形挡板固定连接，且所述第三环形挡板在远离所述第二环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线；

所述第二环形遮挡件包括：第四环形挡板、第五环形挡板以及第六环形挡板；第四环形挡板固定设置于所述收集槽内；第五环形挡板套设于所述第四环形挡板的外壁或内壁，且可相对所述第四环形挡板上下移动；第六环形挡板与所述第五环形挡板固定连接，且所述第六环形挡板在远离所述第五环形挡板方向上逐渐靠近所述内腔室的中心线；

药液供给装置中的药液喷嘴对所述处理物表面喷射药液，或，清洗液供给装置中的清洗液喷嘴对所述处理物表面喷射清洗液。

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