CN111063258A - 盖板、盖板的制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种盖板、盖板的制备方法和显示装置，盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区，盖板还包括衬底、柔性层和硬质层，衬底在平面区的厚度大于在弯折区内的厚度；柔性层形成在衬底一侧；硬质层形成在柔性层远离衬底的一侧。通过减薄衬底在弯折区内的厚度，可以提高盖板的弯折性能，同时硬质层可以保证平面区的硬度，两者配合可实现盖板同时具有高硬度和良好的弯折性。

Description

盖板、盖板的制备方法和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种盖板、盖板的制备方法和显示装置。

背景技术

折叠手机是未来技术发展趋势，相应使用的盖板需要同时兼顾硬度和弯折性。现有的盖板通常采用玻璃、聚酰亚胺和硬质层的叠层结构，为保证硬度，硬质层需要达到一定厚度，但硬质层厚度较大时，盖板的弯折性能又会受到影响。硬度与弯折相互限制，无法达到完美平衡。

因此，现有的盖板存在无法同时兼顾硬度和弯折性的技术问题，需要改进。

发明内容

本发明提供一种盖板和显示装置，以缓解现有的盖板中无法同时兼顾硬度和弯折性的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种盖板，包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，盖板还包括：

衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；

柔性层，形成在所述衬底一侧；

硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。

在本发明的盖板中，在所述弯折区内，所述衬底远离所述柔性层的一侧形成有凹槽。

在本发明的盖板中，所述凹槽的深度小于或等于所述衬底的厚度。

在本发明的盖板中，所述盖板还包括填充层，所述填充层形成在所述凹槽内。

在本发明的盖板中，所述填充层包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种。

在本发明的盖板中，所述填充层的厚度小于或等于所述凹槽的深度。

本发明还提供一种盖板的制备方法，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，该制备方法包括：

提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层；

在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层。

在本发明的盖板的制备方法中，所述提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层的步骤包括：

提供衬底；

在所述衬底一侧形成柔性层；

在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应。

在本发明的盖板的制备方法中，所述在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应的步骤包括：在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成深度小于或等于所述衬底厚度的凹槽。

在本发明的盖板的制备方法中，所述在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层的步骤包括：

在所述凹槽内设置保护层，所述保护层延伸覆盖所述衬底远离所述柔性层的一侧；

在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层；

剥离所述保护层。

在本发明的盖板的制备方法中，所述剥离所述保护层的步骤后还包括：在所述凹槽内形成填充层。

在本发明的盖板的制备方法中，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成材质为硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种的填充层。

在本发明的盖板的制备方法中，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成厚度小于或等于所述凹槽的深度的填充层。

在本发明的盖板的制备方法中，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内打印形成所述填充层。

本发明还提供一种显示装置，包括盖板和显示面板，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其中盖板还包括：

衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；

柔性层，形成在所述衬底一侧；

硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。

本发明的有益效果为：本发明提供一种盖板、盖板的制备方法和显示装置，盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，盖板包括衬底、柔性层和硬质层，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；所述柔性层形成在所述衬底一侧；所述硬质层形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。通过减薄衬底在弯折区内的厚度，可以提高盖板的弯折性能，同时硬质层可以保证平面区的硬度，两者配合可实现盖板同时具有高硬度和良好的弯折性。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本发明实施例提供的盖板的第一种膜层结构示意图。

图2为本发明实施例提供的盖板的第二种膜层结构示意图。

图3为本发明实施例提供的盖板展开状态的平面结构示意图。

图4为本发明实施例提供的盖板弯折状态的膜层示意图。

图5为本发明实施例提供的盖板的第三种膜层结构示意图。

图6为本发明实施例提供的盖板的制备方法流程示意图。

图7为本发明实施例提供的盖板的制备方法第一阶段示意图。

图8为本发明实施例提供的盖板的制备方法第二阶段示意图。

图9为本发明实施例提供的盖板的制备方法第三阶段示意图。

图10为本发明实施例提供的盖板的制备方法第四阶段示意图。

图11为本发明实施例提供的盖板的制备方法第五阶段示意图。

图12为本发明实施例提供的盖板的制备方法第六阶段示意图。

图13为本发明实施例提供的盖板的制备方法第七阶段示意图。

图14为本发明实施例提供的盖板的制备方法第八阶段示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本发明提供一种盖板，以缓解现有的盖板中无法同时兼顾硬度和弯折性的技术问题。

在现有技术中，折叠手机是未来技术发展趋势，与折叠手机相对应的盖板也成为研究的一个重点。折叠手机使用的盖板既需要一定的硬度，以对手机进行保护，又需要一定的弯折性，以配合折叠手机进行折叠。

现有的盖板通常采用玻璃衬底，由于玻璃的弯折技术尚不成熟，在玻璃衬底上设置透明聚酰亚胺和硬质层的叠层结构是比较主流的开发方向。为保证足够的硬度，硬质层需要达到一定的厚度，但厚度较大时，盖板的弯折性能会受到影响，若减薄硬质层的厚度，虽然弯折性得到改善，但硬度也随之下降，不能对折叠手机进行充分的保护。硬度与弯折相互限制，无法达到完美平衡。

因此，现有的盖板存在无法同时兼顾硬度和弯折性的技术问题，需要改进。

如图1所示，为本发明实施例提供的盖板的第一种膜层结构示意图。盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区300，盖板还包括衬底10、柔性层20和硬质层30，衬底10在平面区的厚度大于在弯折区300内的厚度；柔性层20形成在衬底10一侧；硬质层30形成在柔性层20远离衬底10的一侧。

本发明的盖板可用于柔性显示面板如折叠手机中，盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区300，如图3所示，为本发明实施例提供的盖板展开状态的平面结构示意图，平面区包括第一平面区100和第二平面区200，弯折区300位于第一平面区100和第二平面区200之间，弯折区300的长度为L。如图4所示，为本发明实施例提供的盖板弯折状态的膜层示意图，盖板弯折后，第一平面区100和第二平面区200呈平面状态，弯折区300呈现弯曲状态，弯折的形状可以是半圆形。

衬底10通常为玻璃基板，衬底10在平面区的厚度大于在弯折区300内的厚度。

柔性层20的材料通常为透明聚酰亚胺，由于聚酰亚胺具有优异的耐热性、耐辐射性能、耐化学性、电绝缘性、机械性能等，被广泛应用于柔性器件中。当然，柔性层20的材料不限于此，还可以是其他柔性材料。

硬质层30为硬度较大的透明材料，硬质层30可以保证盖板的硬度，从而对显示面板进行保护。硬质层30可以采用树脂材料、二氧化硅或二氧化钛等，通过喷涂技术或是溅镀技术均匀地设置在柔性层20上，但形成方式不限于此，还可以使用镀膜技术或是涂布技术形成。

本发明中硬质层30整层设置，保证了盖板的硬度，整个面板满足高硬度、耐摩擦，耐冲击的性能，同时衬底10在弯折区300的厚度较小，可以提高盖板的弯折性能，减小弯折半径，提高使用寿命。两者配合可实现盖板同时具有高硬度和良好的弯折性。

衬底10的厚度在弯折区300内比在平面区内小，可以有多种设置方式。在一种实施例中，如图1所示，在弯折区300内，衬底10远离柔性层20的一侧形成有凹槽11。

凹槽11的截面形状可以是梯形、矩形、半圆形等，也可以是其他形状。需要说明的是，凹槽11的截面形状为衬底10未弯折状态下的形状。

在图1中，凹槽11的深度小于衬底10的厚度，当衬底10为玻璃时，凹槽11采用感应耦合等离子体刻蚀的方法形成，当然也可以用其他方式刻蚀形成，还可以在制作衬底10时一体成型，直接形成有凹槽11的衬底10。凹槽11的宽度可以与弯折区300的长度L相等，也可以略小于弯折区300的长度。在一种实施例中，刻蚀完成后，弯折区300内未刻蚀的衬底10的厚度为10μm～50μm。由于未刻蚀部分厚度较小，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。此外，还提高了盖板的使用寿命，在一种实施例中，盖板的弯折次数可达到20万次。

在一种实施例中，盖板还包括填充层40，填充层40形成在凹槽11内。填充层40的厚度小于或等于凹槽11的深度。由于凹槽11的存在，使得弯折区300内的衬底10与平面区内的衬底10之间存在段差，为填补该段差，在凹槽11内设置填充层40。

填充层40包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种。

硅胶光学胶包括硅胶层和硅胶层上下两侧的离型膜，硅胶具有吸附性能高、热稳定性好、化学性质稳定、机械强度较高的特点，硅胶光学胶具有无色透明、光透过率高、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点，硅胶光学胶可提升弯折区300的缓冲特性。

自修复材料可以防止盖板产生的划痕永久变形。当盖板产生划痕或小裂纹时，填充层40中的自修复材料就会释放出来，同时发生一系列的化学反应，将划痕或小裂纹两边的两个表面重新聚合，这样能保证原材料恢复75％左右的平整度。

如图2所示，为本发明实施例提供的盖板的第二种膜层结构示意图。与图1中结构不同之处在于，本实施例中凹槽11的深度与衬底10的深度相等，即凹槽11为通孔，衬底10被分成位于第一平面区100的部分和位于第二平面区200的部分，且两部分不连接。

在一种实施例中，盖板还包括填充层40，填充层40形成在凹槽11内。填充层40的厚度小于或等于凹槽11的深度，用于填补弯折区300内的衬底10与平面区内的衬底10之间存在的段差。填充层40包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种。

由于弯折区300内的衬底10均被刻蚀，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。此外，还提高了盖板的使用寿命，在一种实施例中，盖板的弯折次数可达到20万次。

如图5所示，为本发明实施例提供的盖板的第三种膜层结构示意图。与图1和图2中结构不同之处在于，本实施例中凹槽11形成在衬底10靠近柔性层20的一侧，即在弯折区300内，衬底10形成有凹槽11，柔性层20形成在凹槽11内，且延伸覆盖衬底10。

在本实施例中，凹槽11的深度小于或等于衬底10的厚度，凹槽11采用感应耦合等离子体刻蚀的方法形成，当然也可以用其他方式刻蚀形成，还可以在制作衬底10时一体成型，直接形成有凹槽11的衬底10。柔性层20一部分形成在凹槽11内，一部分延伸覆盖衬底10，最终形成的柔性层20远离衬底10的一侧为平面，即柔性层20自身填补了弯折区300内的衬底10与平面区内的衬底10之间存在的段差。

由于衬底10在弯折区300内的厚度较小，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。此外，还提高了盖板的使用寿命，在一种实施例中，盖板的弯折次数可达到20万次。

本发明还提供一种盖板的制备方法，该盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区，如图6所示，该制备方法的具体步骤包括：

S1：提供衬底，衬底在平面区的厚度大于在弯折区内的厚度，在衬底一侧形成柔性层；

S2：在柔性层远离衬底的一侧形成硬质层。

本发明的盖板可用于柔性显示面板如折叠手机中，盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区300，如图3所示，为本发明实施例提供的盖板展开状态的平面结构示意图，平面区包括第一平面区100和第二平面区200，弯折区300位于第一平面区100和第二平面区200之间，弯折区300的长度为L。如图4所示，为本发明实施例提供的盖板弯折状态的膜层示意图，盖板弯折后，第一平面区100和第二平面区200呈平面状态，弯折区300呈现弯曲状态，弯折的形状可以是半圆形。

下面再结合图7至图14对该制备方法进行具体说明。

步骤S1具体包括：

S11：提供衬底。如图8所示，先提供衬底10，衬底10为玻璃衬底。

S12：在衬底一侧形成柔性层。如图9所示，在衬底10的一侧形成柔性层20，柔性层20的材料通常为透明聚酰亚胺，由于聚酰亚胺具有优异的耐热性、耐辐射性能、耐化学性、电绝缘性、机械性能等，被广泛应用于柔性器件中。当然，柔性层20的材料不限于此，还可以是其他柔性材料。柔性层20采用涂布的方式形成在衬底10上。

S13：在衬底远离柔性层的一侧形成凹槽，凹槽与弯折区对应。如图9所示，在衬底10远离柔性层20的一侧形成凹槽11，凹槽11可采用感应耦合等离子体刻蚀的方式形成，也可用其他方式刻蚀形成。在一种实施例中，带有凹槽11的衬底10可以是一体成型，后续不需要再刻蚀。

凹槽11的截面形状可以是梯形、矩形、半圆形等，也可以是其他形状。需要说明的是，凹槽11的截面形状为衬底10未弯折状态下的形状。

在一种实施例中，凹槽11的深度小于或等于衬底10的厚度。

当凹槽11的深度小于衬底10的厚度时，属于半刻蚀。在一种实施例中，刻蚀完成后，弯折区300内未刻蚀的衬底10的厚度为10μm～50μm。由于未刻蚀部分厚度较小，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。

当凹槽11的深度等于衬底10的厚度时，属于完全刻蚀。即凹槽11为通孔，衬底10被分成位于第一平面区100的部分和位于第二平面区200的部分，且两部分不连接。由于弯折区300内的衬底10均被刻蚀，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。

凹槽11的宽度可以与弯折区300的长度L相等，也可以略小于弯折区300的长度。

步骤S2具体包括：

S21：在凹槽内设置保护层，保护层延伸覆盖衬底远离柔性层的一侧。如图10所示，在凹槽11内设置保护层50，保护层50填充在凹槽11内，与柔性层20接触，且延伸覆盖衬底10远离柔性层20的一侧表面。由于柔性层20较软，而衬底10在弯折区300内厚度较小，后续在柔性层20上形成其他膜层时，柔性层20在弯折区300内容易弯曲变形，使得最终制得的盖板不符合要求。因此，在形成其他膜层前，先设置保护层50，对柔性层20起到支撑作用，防止柔性层20形变。此外，当凹槽11为通孔时，保护层50还可以防止柔性层20在弯折区300内的部分裸露在外而被污染。

S21：在柔性层远离衬底的一侧形成硬质层。如图11所示，在柔性层20远离衬底10的一侧形成硬质层30，硬质层30为硬度较大的透明材料，硬质层30可以保证盖板的硬度，从而对显示面板进行保护。硬质层30可以采用树脂材料、二氧化硅或二氧化钛等，通过喷涂技术或是溅镀技术均匀地设置在柔性层20上，但形成方式不限于此，还可以使用镀膜技术或是涂布技术形成。

S21：剥离保护层。如图12所示，在剥离保护层50之前，先将盖板翻转180度，使保护层50在最上层，然后将保护层50剥离掉。保护层50朝上时剥离更为方便快捷，当然，不翻转直接剥离也是可以的。由于保护层50是用来支撑和保护柔性层20的，在最终的盖板成品中不需要设置保护层50，因此在硬质层30制备完成后，将保护层50剥离，剥离后盖板结构如图13所示。

在一种实施例中，还可以在凹槽11内设置填充层。如图14所示，填充层40形成在凹槽11内。填充层40的厚度小于或等于凹槽11的深度。由于凹槽11的存在，使得弯折区300内的衬底10与平面区内的衬底10之间存在段差，为填补该段差，在凹槽11内设置填充层40。

填充层40包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种，可采用打印的方式形成在凹槽11内。

硅胶光学胶包括硅胶层和硅胶层上下两侧的离型膜，硅胶具有吸附性能高、热稳定性好、化学性质稳定、机械强度较高的特点，硅胶光学胶具有无色透明、光透过率高、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点，硅胶光学胶可提升弯折区300的缓冲特性。

自修复材料可以防止盖板产生的划痕永久变形。当盖板产生划痕或小裂纹时，填充层40中的自修复材料就会释放出来，同时发生一系列的化学反应，将划痕或小裂纹两边的两个表面重新聚合，这样能保证原材料恢复75％左右的平整度。

通过上述步骤，制备得到盖板，盖板可用在柔性显示器件如折叠手机中。

需要说明的是，衬底10在弯折区300的厚度比在平面区内的厚度小，还可以有其他设置方式。在一种实施例中，可以在衬底10靠近柔性层20的一侧形成凹槽11，即在弯折区300内，在衬底10形成凹槽11，再在凹槽11内形成柔性层20，并延伸覆盖衬底10。

凹槽11的深度小于或等于衬底10的厚度，凹槽11采用感应耦合等离子体刻蚀的方法形成，当然也可以用其他方式刻蚀形成，还可以在制作衬底10时一体成型，直接形成有凹槽11的衬底10。柔性层20一部分形成在凹槽11内，一部分延伸覆盖衬底10，最终形成的柔性层20远离衬底10的一侧为平面，即柔性层20自身填补了弯折区300内的衬底10与平面区内的衬底10之间存在的段差。

由于衬底10在弯折区300内的厚度较小，因此盖板在弯折时提高了弯折性能，减小了弯折半径。

本方法中硬质层30整层设置，保证了盖板的硬度，整个面板满足高硬度、耐摩擦，耐冲击的性能，同时衬底10在弯折区300的厚度较小，可以提高盖板的弯折性能，减小弯折半径，提高使用寿命，两者配合可实现盖板同时具有高硬度和良好的弯折性。

本发明还提供一种显示装置，包括盖板和显示面板，盖板包括平面区、以及与平面区连接的弯折区，其中盖板还包括衬底、柔性层和硬质层，衬底在平面区的厚度大于在弯折区内的厚度；柔性层形成在衬底一侧；硬质层形成在柔性层远离衬底的一侧。

在一种实施例中，在弯折区内，衬底远离柔性层的一侧形成有凹槽。

在一种实施例中，凹槽的深度小于或等于衬底的厚度。

在一种实施例中，盖板还包括填充层，填充层形成在凹槽内。

在一种实施例中，填充层包括硅胶、光学胶和自修复材料中的至少一种。

在一种实施例中，填充层的厚度小于或等于凹槽的深度。

在一种实施例中，在弯折区内，衬底形成有凹槽，柔性层形成在凹槽内，且延伸覆盖衬底。

本发明提供的显示装置，盖板中硬质层30整层设置，保证了盖板的硬度，整个面板满足高硬度、耐摩擦，耐冲击的性能，同时衬底10在弯折区300的厚度较小，可以提高盖板的弯折性能，减小弯折半径，提高使用寿命，两者配合可实现盖板同时具有高硬度和良好的弯折性，从而实现显示装置也同时具有高硬度和良好的弯折性。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种盖板、盖板的制备方法和显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (15)

1.一种盖板，包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其特征在于，所述盖板包括：

衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；

柔性层，形成在所述衬底一侧；

硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。

2.如权利要求1所述的盖板，其特征在于，在所述弯折区内，所述衬底远离所述柔性层的一侧形成有凹槽。

3.如权利要求2所述的盖板，其特征在于，所述凹槽的深度小于或等于所述衬底的厚度。

4.如权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述盖板还包括填充层，所述填充层形成在所述凹槽内。

5.如权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述填充层包括硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种。

6.如权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述填充层的厚度小于或等于所述凹槽的深度。

7.一种盖板的制备方法，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其特征在于，所述制备方法包括：

提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层；

在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层。

8.如权利要求7所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述提供衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度，在所述衬底一侧形成柔性层的步骤包括：

提供衬底；

在所述衬底一侧形成柔性层；

在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应。

9.如权利要求8所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成凹槽，所述凹槽与所述弯折区对应的步骤包括：在所述衬底远离所述柔性层的一侧形成深度小于或等于所述衬底厚度的凹槽。

10.如权利要求9所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层的步骤包括：

在所述凹槽内设置保护层，所述保护层延伸覆盖所述衬底远离所述柔性层的一侧；

在所述柔性层远离所述衬底的一侧形成硬质层；

剥离所述保护层。

11.如权利要求10所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述剥离所述保护层的步骤后还包括：在所述凹槽内形成填充层。

12.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成材质为硅胶光学胶和自修复材料中的至少一种的填充层。

13.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内形成厚度小于或等于所述凹槽的深度的填充层。

14.如权利要求11所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述在所述凹槽内形成填充层的步骤包括：在所述凹槽内打印形成所述填充层。

15.一种显示装置，其特征在于，包括盖板和显示面板，所述盖板包括平面区、以及与所述平面区连接的弯折区，其中盖板还包括：

衬底，所述衬底在所述平面区的厚度大于在所述弯折区内的厚度；

柔性层，形成在所述衬底一侧；

硬质层，形成在所述柔性层远离所述衬底的一侧。

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