CN111061086A - 彩膜基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、显示面板和显示装置，该彩膜基板具有显示区和非显示区；该彩膜基板包括衬底基板和平坦化层；以及位于衬底板和平坦化层之间的遮光层和色阻层；色阻层包括多个显示色阻图案和多个虚设色阻图案；显示色阻图案设置于显示区，虚设色阻图案设置于非显示区；其中，位于显示区的遮光层包括多个开口结构，显示色阻图案在所述衬底基板上的正投影覆盖开口结构在衬底基板上的正投影；位于非显示区的遮光层设置有多个第一凹槽，且非显示区各个位置处的所述遮光层的厚度均大于0。本发明实施例的彩膜基板的显示区和非显示区的厚度能够趋于一致，以改善显示面板中显示区与非显示区的盒厚差异，从而提高显示效果和产品良率。

Description

彩膜基板、显示面板和显示装置

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。

背景技术

随着科技的发展，液晶显示装置被广泛应用于车载视频播放器或者平板电脑等移动终端。液晶显示面板通过彩膜基板(Color Filter，CF)实现彩色显示。

其中，彩膜基板主要包括衬底基板、设置于衬底基板上的遮光层、色阻层和平坦化层。目前，彩膜基板的周边区往往需要设置大面积的虚设色阻，该虚设色阻能够保护显示区的显示色阻，同时能够垫高彩膜基板的非显示；平坦化层能够填平显示区和非显示区，以设置支撑柱。但是，由于显示区的遮光层仅设置于显示区的非开口区，而显示色阻设置于开口区，而非显示区的各个位置处均设置有遮光层，且平坦化层难以实现较远距离的填平，从而导致彩膜基板的显示区的厚度与非显示区的厚度具有较大差异，在将该彩膜基板应用于显示面板中时，显示面板的显示区与非显示区的盒后具有较大差异，在显示画面时导致显示面板的显示周边发黄，显示面板出现显示不均的现象，显示质量较差。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板、显示面板和显示装置，以解决现有技术中，彩膜基板的显示区与非显示区的厚度差异大，导致使用该彩膜基板的显示面板显示显示周边发黄，显示质量较差的技术问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：显示区和非显示区；

所述彩膜基板还包括：

衬底基板和平坦化层；

以及位于所述衬底基板和所述平坦化层之间的遮光层和色阻层；所述色阻层包括多个显示色阻图案和多个虚设色阻图案；所述显示色阻图案设置于所述显示区，所述虚设色阻图案设置于所述非显示区；

其中，位于所述显示区的遮光层包括多个开口结构，所述显示色阻图案在所述衬底基板上的正投影覆盖所述开口结构在所述衬底基板上的正投影；位于所述非显示区的遮光层设置有多个第一凹槽，且所述非显示区各个位置处的所述遮光层的厚度均大于0。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；

所述显示面板还包括：

上述彩膜基板；

与所述彩膜基板相对设置的阵列基板；

以及位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的支撑柱；

其中，位于所述显示区的支撑柱在所述阵列基板上的正投影位于所述遮光层在所述阵列基板上的正投影内；

位于所述非显示区的支撑柱在所述阵列基板上的正投影与所述彩膜基板中遮光层的第一凹槽在所述阵列基板上的正投影具有交叠。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。

本发明实施例提供一种彩膜基板、显示面板和显示装置，该彩膜基板的衬底基板与平坦化层之间设置有遮光层和色阻层；其中，色阻层包括位于显示区的多个显示色阻图案，和位于非显示区的多个虚设色阻图案；由于显示区的遮光层设置有开口结构，且显示色阻图案在衬底基板上的正投影覆盖遮光层开口结构在衬底基板上的正投影，而非显示区的遮光层未设置有开口结构，即非显示区中虚设色阻图案与遮光层层叠设置；通过在非显示区的遮光层上设置多个第一凹槽，且第一凹槽处的遮光层的厚度大于0以及小于非显示区其它位置处的遮光层的厚度，如此，一方面，非显示区各个位置处均被遮光层覆盖，以防止不必要的漏光；另一方面，显示区的遮光层设置有开口结构，而非显示区遮光层设置有多个第一凹槽，以在采用平坦化层填平后，彩膜基板的显示区和非显示区的厚度能够趋于一致，能够改善显示区与非显示区的盒厚差异，以解决因盒厚差异造成的显示不均的问题，从而能够提高显示效果和产品良率，进而降低生产成本，提高生产效率。

附图说明

图1是现有技术中彩膜基板的剖视结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的俯视结构示意图；

图3是本发明实施例提供的一种彩膜基板的膜层结构示意图；

图4是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图；

图5是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图；

图6是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图；

图7是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图；

图8是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的俯视结构示意图；

图9是沿图8中A-A'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图；

图10是沿图8中B-B'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图；

图11沿图8中C-C'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图；

图12是本发明实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图；

图13是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1是现有技术中彩膜基板的剖视结构示意图。如图1所示，彩膜基板001包括衬底基板01、设置于衬底基板01上的遮光层03、色阻层04以及设置于色阻层04背离衬底基板一侧的平坦化层02。其中，遮光层03能够遮挡设置于显示区010和非显示区020的走线、薄膜晶体管、指纹识别元件等，以防产生不必要的漏光，且位于显示区010的遮光层03设置有开口结构，而位于非显示区的遮光层03未设置有开口结构302；色阻层04包括多个不同颜色的色阻图案，且位于显示区的色阻图案041的至少部分位于遮光层03的开口结构302内，而位于非显示区的色阻图案042位于遮光层03背离衬底基板01的一侧。虽然位于色阻层04背离衬底基板01一侧的平坦化层02可用于填平由于平坦化层02与衬底基板01之间的膜层图案化造成的凹陷和凸起，但是由于平坦化层4难以实现较远距离的填平，因此当显示区010的色阻图案041位于遮光层03的开口结构302内，而非显示区020的色阻图案042位于遮光层03背离衬底基板01的一侧时，经平坦化层02填平后，依然会存在彩膜基板001的非显示区010的高度H2'大于显示区020的高度H1'的现象，当采用该彩膜基板形成的液晶盒时，会存在盒厚差异，从而在显示画面时，会出现显示不均的现象，进而影响显示效果。

为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括显示区和非显示区；该彩膜基板还包括：衬底基板和平坦化层；以及位于衬底基板和平坦化层之间的遮光层和色阻层；色阻层包括多个显示色阻图案和多个虚设色阻图案；显示色阻图案设置于显示区，虚设色阻图案设置于非显示区；其中，位于显示区的遮光层包括多个开口结构，显示色阻图案在衬底基板上的正投影覆盖该开口结构在衬底基板上的正投影；位于非显示区的遮光层设置有多个第一凹槽，且非显示区各个位置处的遮光层的厚度均大于0。

采用上述技术方案，通过在非显示区的遮光层中设置第一凹槽，且非显示区各个位置处的遮光层的厚度均大于0，使得第一凹槽处的遮光层的厚度小于非显示区其它位置处的遮光层的厚度，且该第一凹槽处的遮光层的厚度大于0，一方面，非显示区各个位置处均能够被遮光层所覆盖，以防止不必要的漏光；另一方面，显示区的遮光层设置有开口结构，非显示区的遮光层设置有第一凹槽，以在采用平坦化层填平后，彩膜基板的显示区和非显示区的厚度能够趋于一致，从而改善显示区与非显示区的盒厚差异，解决因盒厚差异造成的显示不均的问题，进而提高显示效果和产品良率，以及降低生产成本和提高生产效率。

以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的俯视结构示意图，图3是本发明实施例提供的一种彩膜基板的膜层结构示意图。结合图2和图3所示，彩膜基板100包括显示区110和非显示区120，该非显示区120可围绕显示区110，在将该彩膜基板100应用于显示面板中时，彩膜基板100的显示区110即为显示面板的显示区。

彩膜基板100还包括衬底基板10和平坦化层20，以及位于衬底基板10与平坦化层20之间的遮光层30和色阻层40。其中，色阻层40包括多个显示色阻图案41和多个虚设色阻图案42，显示色阻图案41位于显示区110，虚设色阻图案42位于非显示区120。位于显示区110的遮光层30具有开口结构302，至少部分显示色阻图案42位于遮光层30的开口结构302内；该显示色阻图案41可以包括多个不同颜色的色阻图案，例如，显示色阻图案41可以包括红色显示色阻图案411、绿色显示色阻图案412和蓝色显示色阻图案413等，以在有光线到达彩膜基板时，能够透过遮光层30开口结构302内的显示色阻图案42到达显示面时，显示出色彩丰富的画面。位于非显示区120的遮光层30设置有多个第一凹槽301，且非显示区120各个位置处的遮光层30的厚度大于0，使得非显示区120的遮光层30能够对非显示区120的各个位置均具有遮光作用，以防止不必要的漏光。

同样的，设置于非显示区120的虚设色阻图案42也可以包括红色虚设色阻图案421、绿色虚设色阻图案422和蓝色虚设色阻图案423等。如此，彩膜基板100的显示区110和非显示区120均设置有色阻图案，位于非显示区120的虚设色阻图案41能够保护位于显示区110的显示色阻图案42，防止显示色阻图案42受到外力冲击而脱落。例如在刻蚀工艺中，非显示区120中的虚设色阻图案41能够对显影液起到阻挡作用，以防止显示区110的显示色阻图案41因受到显影液的冲刷而脱落。其中，虚设色阻图案42可与显示色阻图42采用同种材料在同种工艺下形成，以简化彩膜基板100的制程，提高生产效率，降低生产成本。

需要说明的是，图2和图3仅为本发明实施例示例性的附图，图2中彩膜基板100的显示区110包括多个阵列排布的显示色阻图案41，彩膜基板100的非显示区120包括多个阵列排布的虚设色阻图案42，且非显示区120的虚设色阻图案42的颜色种类与显示区110的显示色阻图案41的颜色种类相同；在本发明实施例中非显示区120的虚设色阻图案42的颜色种类与显示区110的显示色阻图案41的颜色种类可以不同，例如非显示区120的虚设色阻图案42颜色的种类数量小于显示区110的显示色阻图案41颜色的种类数量；同时，在能够实现本发明实施例的前提下，本发明实施例对显示色阻图案41和虚设色阻图案42的排布方式和结构不做具体限定。

继续结合参考图2和图3所示，位于显示区110的遮光层30包括多个开口结构302，且显示色阻图案41在衬底基板10上的正投影覆盖遮光层30的开口结构302在衬底基板10上的正投影，由于开口结构302处的遮光层30厚度为0，而非显示区120的遮光层30未设置有开口结构302，且非显示区120各个位置处的遮光层30的厚度均大于0，因此非显示区120的所有虚设色阻图案42均会被遮光层30垫高，而显示区110中显示色阻图案41的至少部分不会被遮光层30垫高，使得彩膜基板100的显示区110与非显示区120的厚度不同，且在未形成平坦化层20之前，因遮光层30和色阻层40等的图案化，使得彩膜基板100的一侧表面呈凹凸不平状。

在遮光层30和色阻层40背离衬底基板10的一侧设置平坦化层20，以填平彩膜基板100的一侧表面。其中，平坦化层20的材料可以包括有机材料，该有机材料例如为聚酰亚胺(PI)材料，有机材料的流动性，可使平坦化层20起到填平彩膜基板100的一侧表面的作用。但是，由于平坦化层20对于较远距离的填平效果较差，因此当显示区110与非显示区120的厚度存在较大差异时，采用平坦化层20填平后，彩膜基板100的显示区110与非显示区120的厚度差异仍然会存在。

非显示区120的遮光层30上设置多个第一凹槽301，第一凹槽301处的遮光层30的厚度T1大于0且会小于非显示区120其它位置处遮光层30的厚度以及显示区110的非开口结构处遮光层30的厚度T2。其中，非开口结构处即为显示区110中被遮光层30所覆盖的区域。此时，非显示区120中设置第一凹槽301的位置处的厚度会小于其它位置处的厚度。由于在形成平坦化层20的过程中，平坦化层20的材料会由凸起的位置处流向凹陷的位置处，使得凸起位置处的平坦化层20的厚度较薄，凹陷位置处的平坦化层的厚度较厚。因此，在形成平坦化层20的过程中，非显示区120的平坦化层20的材料流入第一凹槽301中，以填平第一凹槽301与其他位置的高度差，而未设置第一凹槽301的虚设色阻图案42所在位置处的平坦化层20的材料会相对减小，从而在形成平坦化层20后，显示色阻图案41所在位置处的高度能够与虚设色阻图案42所在位置处的高度保持一致，以使彩膜基板100中显示区110的整体高度H1与非显示区120的整体高度H2能够趋于一致；在将该彩膜基板100应用于显示面板中时，能够改善因显示区110和非显示区120的盒厚差异较大，导致显示周边发黄，造成显示面板显示不均的现象，进而能够提高显示效果和产品良率，以及降低生产成本，提高生产效率。

需要说明的是，位于衬底基板与平坦化层之间的遮光层和色阻层的膜层关系可以如图3所示，位于非显示区的虚设色阻图案42位于遮光层30背离衬底基板10的一侧；也可以为色阻层位于遮光层靠近衬底基板的一侧，本发明实施例对此不做具体限定。同时，第一凹槽可以位于相邻两个虚设色阻图案之间，也可以为第一凹槽在衬底基板上的正投影与虚设色阻图案在衬底基板上的正投影具有交叠，本发明实施例对此也不做具体限定。

示例性的，图4是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图。图4中与图3中相同之处，可参照上述对图3的说明，在此不再赘述，以下仅对图4中与图3中不同之处进行示例性的说明。如图4所示，位于非显示区120的虚设色阻图案42位于遮光层30靠近衬底基板10的一侧。

为便于描述，在本发明实施例中均以图3所示的遮光层和色阻层的膜层关系为例对本发明实施例的技术方案进行实例性的说明。

可选的，继续结合参考图2和图3所示，在第一方向X上，第一凹槽301的宽度为第一宽度W1，开口结构302的宽度为第三宽度W3；其中，第一宽度W1小于第三宽度W3。

具体的，通过对遮光层30进行图案化，以使位于显示区110的遮光层30形成开口结构302，而位于非显示区120的遮光层30上形成第一凹槽301。当第一凹槽301和开口结构302在同一图案化过程中形成时，有利于简化工艺步骤，降低生产成本，提高生产效率。其中，在第一方向X上，通过将第一凹槽301的宽度W1设置为小于开口结构302的宽度W3，能够在图案化时将开口结构302处的遮光层30去除，而第一凹槽301处的部分遮光层30被保留，以使非显示区120各个位置处的遮光层30的厚度均大于0，从而能够使非显示区120的遮光层对显示区120各个位置处均具有遮光作用，以防不必要的漏光。

可选的，继续参考图3，在第一方向X上，第一凹槽301的第一宽度W1的取值范围可以为：W1＜3μm。

示例性的，当遮光层30的图案化工艺包括曝光、显影等工序时，由于当前的曝光设备具有一定的曝光精度，因此当将第一凹槽301的宽度W1设置为小于3μm时，曝光设备无法使第一凹槽301所在位置处的遮光层30分离，仅能形成一槽底厚度T1大于0的第一凹槽301。如此，当第一凹槽301和开口结构302在同一图案化过程中形成时，能够在确保开口结构302处的遮光层30被去除的前提下，使第一凹槽301所在位置处的遮光层30仍具有遮光作用。

可选的，继续结合参考图2和图3，位于非显示区120的遮光层30中的多个第一凹槽301为沿第一方向X延伸且沿第二方向Y排列的条状结构；其中，第一方向X与第二方向Y交叉。如此，在第一方向X上，第一凹槽301的宽度W1小于开口结构302的宽度，而在第二方向Y上，第一凹槽301的长度可以大于开口结构302的长度，以在形成平坦化层20后，能够使显示区110和非显示区120的厚度趋于一致。

需要说明的是，当彩膜基板100中遮光层30的开口结构302呈阵列排布时，第一方向X可以为开口结构302的行方向或列方向，本发明实施例对此不做具体限定。其中，当将该彩膜基板100应用于显示面板中时，该显示面板可以包括多条扫描线和多条数据线，且扫描线与数据线交叉限定像素的位置，遮光层30的开口结构302所在的区域即为扫描线与数据线限定的像素的位置，此时行方向可以为扫描线的延伸方向，列方向可以为数据线延伸的方向。为便于描述，在本发明实施例中，均以第一方向X为行方向，而第二方向Y为列方向为例对本发明实施例进行示例性的说明。

可选的，继续参考图3，位于非显示区120的遮光层30中设置的第一凹槽301在衬底基板10上的正投影为第一投影；至少部分第一投影位于相邻两个虚设色阻图案42在衬底基板10的正投影之间。

具体的，在对色阻层40图案化后可分别形成虚设色阻图案42和显示色阻图案41，且相邻两个虚设色阻图案42之间的色阻层40以及相邻两个显示色阻图案41之间的色阻层40均会被去除，使得相邻两个虚设色阻图案42以及相邻两个显示色阻图案41之间均会形成凹坑。由于在形成平坦化层20的过程中，平坦化层20的材料会由高处流向较低处，因此当至少部分第一凹槽301位于相邻两个虚设色阻图案42之间时，相邻两个虚设色阻图案42之间凹坑的深度会大于相邻两个显示色阻图案41之间的凹坑深度，从而在形成平坦化层20的过程中，会有更多的平坦化层20的材料流入相邻两个虚设色阻图案42之间的凹坑中，而虚设色阻图案42背离衬底基板10一侧的平坦化层20的材料会相对减少。如此，在形成平坦化层20后，设置有虚设色阻图案42的位置处的平坦化层20较薄，而设置有显示色阻图案41的位置处的平坦化层20较厚。如此，能够进一步降低显示区110与非显示区120之间的厚度差异，使得显示区110与非显示区120的厚度趋于一致。

需要说明的是，图3仅为本发明实施例示例性的附图，图3中位于非显示区的遮光层上设置的第一凹槽位于相邻两个虚设色阻图案之间，在本发明实施例中位于非显示区的遮光层的第一凹槽还可以设置于与虚设色阻图案交叠的位置处。在能够实现彩膜基板非显示区与显示区的厚度保持一致的前提下，本发明实施例对第一凹槽的位置不做具体限定。

可选的，图5是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图。如图5所示，位于非显示区120的虚设色阻图案42背离衬底基板10的一侧表面设置有第二凹槽401。

具体的，在虚设色阻图案42背离衬底基板10的一侧表面设置第二凹槽401，使得设置第二凹槽401的虚设色阻图案42的厚度T3小于显示色阻图案41的厚度T4。在形成平坦化层20的过程中，部分平坦化层20的材料用于填平非显示区120的第一凹槽301和第二凹槽401，而非显示区120其它位置处的平坦化层20的材料会相对减少；而显示区110的显示色阻图案41上未设置凹槽，设置于显示区110的平坦化层20无需填平凹槽。如此，在虚设色阻图案42所在区域被遮光层30垫高，而至少部分显示色阻图案41所在区域未被遮光层30垫高时，在形成平坦化层20后彩膜基板100的显示区110与非显示区120的厚度能够进一步趋于一致。同时，当虚设色阻图案42上设置的第二凹槽401的尺寸等于遮光层30中开口结构302的尺寸时，例如在第一方向X上第二凹槽401的宽度W2可与开口结构302的宽度W3相同，彩膜基板100的非显示区120能够与显示区110的厚度保持一致，在将该彩膜基板100应用于显示面板中时，可进一步提高显示面板的显示效率以及产品良率。

可选的，同一虚设色阻图案包括至少一个第二凹槽；在第一方向上，第二凹槽的宽度W2的取值范围为：W2＜3μm。

示例性的，如图5所示，一个虚设色阻图案42上设置有一个第二凹槽401，在形成平坦化层20的过程中，平坦化层20的材料能够填平该第二凹槽401，以使形成平坦化层20后，彩膜基板100的非显示区120与显示区110的厚度能够趋于一致。此外，由于色阻层40需进行图案化才能够分别形成显示色阻图案41和虚设色阻图案42，因此当需要在虚设色阻图案42上形成第二凹槽401时，对色阻层40进行图案化后，可同时形成显示色阻图案41、虚设色阻图案42以及虚设色阻图案42上的第二凹槽401，有利于简化工艺步骤，降低生产成本，提高生产效率。

其中，对色阻层40进行图案化的工艺例如可以包括曝光、显影等工序。由于当前的曝光设备具有一定的曝光精度，因此在第一方向X上，通过将第二凹槽401的宽度W2设置为小于3μm，能够在虚设色阻图案42上形成第二凹槽401的同时，第二凹槽401两侧的虚设色阻图案42保持连接，即第二凹槽401的槽底厚度T3会大于0，以确保虚设色阻图案42和与色阻层40相邻且位于色阻层40靠近衬底基板10一侧的膜层之间具有足够大的接触面积。例如，当与色阻层40相邻且位于色阻层40靠近衬底基板10一侧的膜层为遮光层30时，虚设色阻图案42与遮光层30之间将会有较大的接触面积，以在显影工序中，显影液冲刷色阻层40时，虚设色阻图案42与遮光层30之间会产生较大的摩擦力，能够防止显影液将虚设色阻图案42冲刷掉，从而能够起到阻挡显影液的作用，以对显示区110的显示色阻图案42起到保护作用。

需要说明的是，图5仅为本发明实施例示例性的附图，图5中一个虚设色阻图案42上设置有一个第二凹槽401；在本发明实施例中同一虚设色阻图案还可以包括两个或两个以上的第二凹槽，在能够满足彩膜基板的显示区与非显示区的厚度趋于一致的前提下，本发明实施例对同一虚设色阻图案上所设置的第二凹槽的数量不做具体限定。

示例性的，图6是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图。图6中与图5中相同之处，可参考图5的描述，在此不再赘述，此处仅对图6中与图5中不同之处进行示例性的说明。如图5所示，每个虚设色阻图案42上可设置两个第二凹槽401，各第二凹槽401的宽度W2均可以小于3μm，以防止显影液将虚设色阻图案42冲刷掉。同时，同一虚设色阻图案42上所设置的多个第二凹槽401的尺寸之和可与遮光层30的开口结构302的尺寸相当，以使虚设色阻图案42上的第二凹槽401能够与垫高虚设色阻图案42的遮光层30形成互补结构，从而在形成平坦化层20后，能够使彩膜基板100的显示区110与非显示区120的厚度趋于一致。

可选的，虚设色阻图案上设置的第二凹槽在衬底基板上的正投影与遮光层上设置的第一凹槽在衬底基板上正投影具有交叠。

示例性的，图7是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的膜层结构示意图。如图7所示，设置第二凹槽401的虚设色阻图案的厚度T3会小于显示色阻图案41的厚度T4，设置第一凹槽301的遮光层30的厚度会小于其它部分的遮光层30的厚度。当令虚设色阻图案42上的第二凹槽401与遮光层30上的第一凹槽301具有交叠时，在形成平坦化层20的过程中，平坦化层20的材料会流向第一凹槽301与第二凹槽401的交叠位置处，以填平第一凹槽301与第二凹槽401的交叠位置处的凹坑，从而在形成平坦化层20后，能够使彩膜基板100的显示区110与非显示区120的厚度趋于一致。

此外，当交叠位置处的虚设色阻图案42与遮光层30的厚度和等于显示色阻图案41的厚度时，在形成平坦化层20后，能够使彩膜基板100的显示区110与非显示区120厚度保持一致，从而在将该彩膜基板100应用于显示面板中时，能够时显示区110和非显示区120的盒厚保持一致，以改善显示周边发黄，造成显示面板显示不均的现象，进一步提高显示效果和产品良率，降低生产成本，提高生产效率。

可选的，图8是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的俯视结构示意图。如图8所示，位于非显示区120的虚设色阻图案42为阵列排布的块状色阻图案；而位于显示区110中的显示色阻图案41为沿第一方向X排列且沿第二方向Y延伸的条状色阻图案；其中，第一方向X可以为块状色阻图案42的行方向，第二方向Y可以为块状色阻图案42的列方向。

示例性的，图9是沿图8中A-A'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图，图10是沿图8中B-B'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图，图11沿图8中C-C'截面的一种彩膜基板的剖面结构示意图。结合参考图8～图11，位于非显示区120的虚设色阻图案42位于遮光层30背离衬底基板10的一侧，位于显示区110的显示色阻图案41的部分位于开口结构内。通过将显示区110中的显示色阻图案41设置为沿第二方向Y延伸的条状色阻图案，而非显示区120中的虚设色阻图案42设置为块状色阻图案，从而在形成平坦化层20前，非显示区120中较高的位置为虚设色阻图案42与遮光层30叠加的位置处，显示区110中较高的位置为显示色阻图案41与遮光层30叠加的位置处，以在形成平坦化层20的过程中，涂布于非显示区120的平坦化层20材料中的一部分会流向相邻两行虚设色阻图案42之间的凹陷位置，以及相邻两列虚设色阻图案42之间的凹陷位置；而涂布于显示区110平坦化层20材料中的一部分会流向相邻两列显示色阻图案41之间的凹陷位置，以及流向开口结构302所在的区域。如此，在形成平坦化层20后，彩膜基板100的显示区110的厚度与非显示区120的厚度趋于一致，进一步提高产品良率。

本发明实施例还提出了一种显示面板，该显示面板包括本发明实施例提供的彩膜基板；与彩膜基板相对设置的阵列基板；以及位于阵列基板与彩膜基板之间的支撑柱；位于显示区的支撑柱在阵列基板上的正投影位于彩膜基板中遮光层在阵列基板上的正投影内；位于非显示区的支撑柱在阵列基板上的正投影与彩膜基板中遮光层的第一凹槽在阵列基板上的正投影具有交叠。由于本发明实施例提供的显示面板包括本发明实施例提供的彩膜基板，因此本发明实施例提供的显示面板也具备本发明实施提供的彩膜基板的有益效果，相同之处可参照上述对彩膜基板的描述。

需要说明的是，彩膜基板包括显示区和非显示区，由于显示面板包括彩膜基板，因此彩膜基板的显示区即为显示面板的显示区，彩膜基板的非显示区即为显示面板的非显示区。

示例性地，图12是本发明实施例提供的一种显示面板的膜层结构示意图。如图12所示，显示面板500包括本发明实施例提供彩膜基板100、与彩膜基板100相对设置的阵列基板200、位于彩膜基板100与阵列基板200之间的液晶层300和支撑柱400，该液晶层300包括液晶分子310。其中，位于显示区110的支撑柱400在阵列基板200上的正投影位于彩膜基板100中遮光层30在阵列基板200上的正投影内，即位于显示区110的支撑柱400在阵列基板200上的正投影与遮光层30的开口结构302在阵列基板200上正投影互不交叠，以防支撑柱400的设置影响显示面板01的显示效果；而位于非显示区200的支撑柱014在阵列基板200上的正投影与彩膜基板100中遮光层30的第一凹槽301具有交叠。如此，当位于显示区110的支撑柱400靠近阵列基板200一侧的表面与彩膜基板100中衬底基板10之间的距离为第一距离，位于非显示区120的支撑柱400靠近阵列基板200一侧的表面与彩膜基板100中衬底基板10之间的距离为第二距离时，该第一距离与第二距离能够趋于一致，以使显示面板500的显示区110和非显示区120的液晶层300的厚度保持一致，以改善因盒厚差异造成的显示周边发黄的现象，进而提高显示面板500的显示效果，有利于提高显示面板500的产品良率，降低生产成本。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例提供的显示面板，因此该显示装置具备本发明实施例提供的显示面板的有益效果，相同之处，可参照上述对显示面板的描述，在此不再赘述。

示例性地，图13是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图13所示，显示装置600包括本发明实施例提供的显示面板500。该显示装置600例如可以为便携显示设备、计算机显示器、可穿戴显示设备、车载显示中控屏等，本发明实施例对此不做具体限定。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (12)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：显示区和非显示区；

所述彩膜基板还包括：

衬底基板和平坦化层；

以及位于所述衬底基板和所述平坦化层之间的遮光层和色阻层；所述色阻层包括多个显示色阻图案和多个虚设色阻图案；所述显示色阻图案设置于所述显示区，所述虚设色阻图案设置于所述非显示区；

其中，位于所述显示区的遮光层包括多个开口结构，所述显示色阻图案在所述衬底基板上的正投影覆盖所述开口结构在所述衬底基板上的正投影；位于所述非显示区的遮光层设置有多个第一凹槽，且所述非显示区各个位置处的所述遮光层的厚度均大于0。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一凹槽在所述衬底基板上的正投影为第一投影；

至少部分所述第一投影位于相邻两个所述虚设色阻图案在所述衬底基板的正投影之间。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚设色阻图案背离所述衬底基板的一侧表面设置有第二凹槽。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二凹槽在所述衬底基板上的正投影与所述第一凹槽在所述衬底基板上正投影具有交叠。

5.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，同一所述虚设色阻图案包括至少一个所述第二凹槽；

在第一方向上，所述第二凹槽的宽度W2的取值范围为：W2＜3μm。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，在第一方向上，所述第一凹槽的宽度为第一宽度，所述开口结构的宽度为第三宽度；其中，所述第一宽度小于所述第三宽度。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，多个所述第一凹槽为沿第一方向延伸且沿第二方向排列的条状结构；其中，所述第一方向与所述第二方向交叉。

8.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一宽度W1的取值范围为：W1＜3μm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚设色阻图案为阵列排布的块状色阻图案；所述显示色阻图案为沿第一方向排列且沿第二方向延伸的条状色阻图案；其中，所述第一方向为所述块状色阻图案的行方向，所述第二方向为所述块状色阻图案的列方向。

10.根据权利要求1～8任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述虚设色阻图案位于所述遮光层背离所述衬底基板的一侧。

11.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区和围绕所述显示区的非显示区；

所述显示面板还包括：

权利要求1～10任一项所述的彩膜基板；

与所述彩膜基板相对设置的阵列基板；

以及位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的支撑柱；

其中，位于所述显示区的支撑柱在所述阵列基板上的正投影位于所述遮光层在所述阵列基板上的正投影内；

位于所述非显示区的支撑柱在所述阵列基板上的正投影与所述彩膜基板中遮光层的第一凹槽在所述阵列基板上的正投影具有交叠。

12.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1～11任一项所述的显示面板。

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