CN110799453B - 表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件 - Google Patents
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- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title claims abstract description 153
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 112
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 74
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 49
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 25
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 48
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 47
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 claims description 41
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 11
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate group Chemical group [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 6
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical group O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 6
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical group ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 6
- VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N carbodiimide group Chemical group N=C=N VPKDCDLSJZCGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 5
- ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N isothiocyanate group Chemical group [N-]=C=S ZBKFYXZXZJPWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003106 haloaryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical group O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 53
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 49
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 43
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 22
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 13
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 12
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 12
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 10
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 10
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000005268 rod-like liquid crystal Substances 0.000 description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 3
- AXCHZLOJGKSWLV-UHFFFAOYSA-N (4-phenylphenyl)methanol Chemical compound C1=CC(CO)=CC=C1C1=CC=CC=C1 AXCHZLOJGKSWLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 NNJMFJSKMRYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N Alizarin Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M alizarin red S Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2O HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical group 0.000 description 2
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenylcyclohexane-1-carbonitrile Chemical class C=1C=CC=CC=1C1(C#N)CCCCC1 AUXIEQKHXAYAHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1,4-dioxane Chemical class C1OCCOC1C1=CC=CC=C1 WLNDDIWESXCXHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyrimidine Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC=CC=N1 OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBWXZZIIMVVCNZ-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydroacephenanthrylene Chemical group C1=CC(CC2)=C3C2=CC2=CC=CC=C2C3=C1 ZBWXZZIIMVVCNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical group S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005264 High molar mass liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 244000082204 Phyllostachys viridis Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical group C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007878 VAm-110 Substances 0.000 description 1
- 125000001389 aceanthrenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005142 aryl oxy sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N azanylidyneindigane Chemical compound [In]#N NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCLQZCOGUCNIOC-UHFFFAOYSA-N azanylidynelanthanum Chemical compound [La]#N QCLQZCOGUCNIOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N azanylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#N GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- MVDSQGXUBNDITG-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclohexanecarboxylic acid Chemical class C1=CC=CC=C1.OC(=O)C1CCCCC1 MVDSQGXUBNDITG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008359 benzonitriles Chemical class 0.000 description 1
- JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N biphenylacetylene Chemical class C1=CC=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Substances FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical compound OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical group C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000006303 iodophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001337 iron nitride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002540 isothiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- IDBFBDSKYCUNPW-UHFFFAOYSA-N lithium nitride Chemical compound [Li]N([Li])[Li] IDBFBDSKYCUNPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WDWDWGRYHDPSDS-UHFFFAOYSA-N methanimine Chemical class N=C WDWDWGRYHDPSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007882 oil-soluble azo polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- 125000005582 pentacene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005062 perfluorophenyl group Chemical group FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)* 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 1
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 125000001388 picenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=C3C4=CC=C5C=CC=CC5=C4C=CC3=C21)* 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 150000005137 pleiadenes Chemical group 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- KTQYWNARBMKMCX-UHFFFAOYSA-N tetraphenylene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 KTQYWNARBMKMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical group C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical group C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
- C01B21/0648—After-treatment, e.g. grinding, purification
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/40—Compounds of aluminium
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
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- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
- C01B21/0728—After-treatment, e.g. grinding, purification
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F292/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
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- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/08—Treatment with low-molecular-weight non-polymer organic compounds
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
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- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3737—Organic materials with or without a thermoconductive filler
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/84—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
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Abstract
本发明的第1课题在于提供一种分散性优异的表面修饰无机氮化物。并且,本发明的第2课题在于提供一种包含上述表面修饰无机氮化物的组合物、导热材料及带导热层的器件。本发明的表面修饰无机氮化物包含无机氮化物和吸附于上述无机氮化物表面上的下述通式(I)所表示的化合物。通式(1)中,n表示3以上的整数。X表示芳香族烃环基或芳香族杂环基。Y表示单键、‑O‑、‑CO‑、‑CO‑O‑、‑O‑CO‑、‑S‑、‑CS‑、‑NRA‑、‑N=N‑或2价不饱和烃基。RA表示氢原子或烷基。R1及R2各自独立地表示取代基。其中,R1及R2中的至少任一者表示包含选自特定官能团组A中的特定官能团的1价的有机基团。另外,通式(1)中,具有多个的X各自可以相同也可以不同。并且,具有多个的X各自可以相同也可以不同。
Description
技术领域
本发明涉及一种表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件。
背景技术
为了扩大无机氮化物的应用范围,提出有对其表面进行修饰的方法。
例如,在专利文献1的实施例中公开有用4-联苯羧酸或4-联苯甲醇等处理氮化铝粒子的表面的方法。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-236376号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
另一方面,当将无机氮化物与树脂粘合剂等有机物混合使用时,要求更进一步提高无机氮化物对有机物的亲和性。例如,当将氮化硼等无机氮化物与有机物混合而用作导热材料时,从更进一步提高导热性的观点考虑,期望提高在有机物中的无机氮化物的分散性。为了提高无机氮化物的分散性,需要对无机氮化物的表面进行改质。
本发明人等参考专利文献1来准备用4-联苯羧酸或4-联苯甲醇处理了氮化硼的表面的表面修饰无机氮化物,将该表面修饰无机氮化物与有机物进行混合而制作导热材料,并评价了在有机物中的表面修饰无机氮化物的分散性的结果,确认到分散性不充分,需要进一步进行改善。
因此,本发明的课题在于提供一种分散性优异的表面修饰无机氮化物。
并且,本发明的课题在于提供一种包含上述表面修饰无机氮化物的组合物、导热材料及带导热层的器件。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了实现上述课题而进行了深入研究的结果,发现通过使用用通式(I)所表示的化合物进行了表面处理的无机氮化物能够解决上述课题,并完成了本发明。
即,发现了通过以下构成能够实现上述目的。
〔1〕一种表面修饰无机氮化物,其包含无机氮化物和吸附于上述无机氮化物表面上的下述通式(I)所表示的化合物。
〔2〕根据〔1〕所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述X为芳香族烃环基。
〔3〕根据〔1〕所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述芳香族烃环基为苯环基。
〔4〕根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述n为4以上的整数。
〔5〕根据〔1〕至〔4〕中任一项所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述R1及上述R2均表示包含选自上述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团。
〔6〕根据〔5〕所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述R1及上述R2中的一者为包含选自下述特定官能团组B中的特定官能团的有机基团,上述R1及上述R2中的另一者表示包含选自下述特定官能团组C中的特定官能团的有机基团。
特定官能团组B:
醛基、异氰酸酯基、异硫氰酸酯基、氰酸酯基、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基、羧酰氯基、鎓基、碳酸酯基、卤代芳基、碳二亚胺基、酯基、羰基、膦酸基、次膦酸基、磷酸基、磷酸酯基、磺酸基、卤代烷基、卤原子、腈基、硝基、酰亚胺酯基、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、炔基及马来酰亚胺基。
特定官能团组C:
羟基、酸酐基、羧酸基、乙烯基、硫醇基及氨基。
〔7〕根据〔1〕至〔6〕中任一项所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述无机氮化物为选自包括氮化硼及氮化铝的组中的至少1种。
〔8〕根据〔7〕所述的表面修饰无机氮化物,其中,上述无机氮化物为氮化硼。
〔9〕一种组合物,其包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的表面修饰无机氮化物和聚合性单体。
〔10〕根据〔9〕所述的组合物,其中,上述聚合性单体具有选自包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基及乙烯基的组中的基团。
〔11〕根据〔9〕或〔10〕所述的组合物,其中,上述聚合性单体或其固化物显示出液晶性。
〔12〕根据〔9〕至〔11〕中任一项所述的组合物,其用于形成导热材料。
〔13〕一种导热材料,其包含〔1〕至〔8〕中任一项所述的表面修饰无机氮化物。
〔14〕根据〔13〕所述的导热材料,其为薄片状。
〔15〕根据〔13〕或〔14〕所述的导热材料,其用于散热片。
〔16〕一种带导热层的器件,其具有器件和配置于上述器件上且包含〔13〕至〔15〕中任一项所述的导热材料的导热层。
发明效果
根据本发明,能够提供一种分散性优异的表面修饰无机氮化物。
并且,根据本发明,能够提供一种包含上述表面修饰无机氮化物的组合物、导热材料及带导热层的器件。
附图说明
图1表示氮化硼添加前后的含有化合物C-3的溶液的紫外可见吸收光谱。
图2表示氮化硼添加前后的含有化合物C-42的溶液的紫外可见吸收光谱。
图3表示氮化硼添加前后的含有化合物C-43的溶液的紫外可见吸收光谱。
图4表示氮化硼添加前后的含有化合物C-44的溶液的紫外可见吸收光谱。
具体实施方式
以下,对本发明的表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件进行详细说明。
以下所记载的构成要件的说明有时是基于本发明的代表性实施方式而进行的,但本发明并不限定于这种实施方式。
另外,本说明书中,使用“~”表示的数值范围是指将“~”前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
本说明书中,“(甲基)丙烯酰基”的记载表示“丙烯酰基及甲基丙烯酰基中的任一者或两者”的含义。
本说明书中,环氧乙烷基为也被称作环氧基的官能团,例如饱和烃环基的相邻的2个碳原子通过氧代基(-O-)键合而形成环氧乙烷环的基团等也包含于环氧乙烷基中。
本说明书中,“表面修饰无机氮化物”是指由后述的通式(I)所表示的化合物(以下,也称为“特定化合物”。)进行了表面修饰的无机氮化物。
本说明书中,“表面修饰”是指在无机氮化物表面的至少一部分吸附有后述的特定化合物的状态。吸附的形态并不受特别限定,但优选为键合的状态。另外,表面修饰还包括特定化合物的一部分脱离而得到的有机基团(例如,阳离子性基团)键合于无机氮化物表面的状态。键合可以为共价键合、配位键合、离子键合、氢键合、范德华键合及金属键合等中的任一种键合。表面修饰也可以以在无机氮化物表面的至少一部分形成单分子膜的方式进行。
另外,本说明书中,表面修饰可以仅为无机氮化物表面的一部分,也可以为整体。
本说明书中,“可以具有取代基”时的取代基的种类、取代基的位置及取代基的数量并不受特别限定。取代基的数量例如可以为1个、2个、3个或其以上。作为取代基的例子,能够举出除氢原子以外的1价的非金属原子团,例如能够选自以下取代基组T。
取代基组T:卤原子(-F、-Br、-Cl、-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、硫醇基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨甲酰氧基、N-烷基氨甲酰氧基、N-芳基氨甲酰氧基、N,N-二烷基氨甲酰氧基、N,N-二芳基氨甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨甲酰氧基、烷基硫氧基(sulfoxy group)、芳基硫氧基、酰硫基、酰氨基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、脲基、N'-烷基脲基、N’,N’-二烷基脲基、N'-芳基脲基、N’,N’-二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N'-烷基-N-烷基脲基、N'-烷基-N-芳基脲基、N’,N’-二烷基-N-烷基脲基、N’,N’-二烷基-N-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N’,N’-二芳基-N-烷基脲基、N’,N’-二芳基-N-芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-烷基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基及其共轭碱基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、N-烷基氨甲酰基、N,N-二烷基氨甲酰基、N-芳基氨甲酰基、N,N-二芳基氨甲酰基、N-烷基-N-芳基氨甲酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-SO3H)及其共轭碱基、烷氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酰基、N-烷基氨亚磺酰基、N,N-二烷基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N,N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N,N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N,N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、N-酰基氨磺酰基及其共轭碱基、N-烷基磺酰基氨磺酰基(-SO2NHSO2(alkyl))及其共轭碱基、N-芳基磺酰基氨磺酰基(-SO2NHSO2(aryl))及其共轭碱基、N-烷基磺酰基氨甲酰基(-CONHSO2(alkyl))及其共轭碱基、N-芳基磺酰基氨甲酰基(-CONHSO2(aryl))及其共轭碱基、烷氧基甲硅烷基(-Si(Oalkyl)3)、芳氧基甲硅烷基(-Si(Oaryl)3)、羟基甲硅烷基(-Si(OH)3)及其共轭碱基、膦酰基(-PO3H2)及其共轭碱基、二烷基膦酰基(-PO3(alkyl)2)、二芳基膦酰基(-PO3(aryl)2)、烷基芳基膦酰基(-PO3(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基(-PO3H(alkyl))及其共轭碱基、单芳基膦酰基(-PO3H(aryl))及其共轭碱基、膦酰氧基(-OPO3H2)及其共轭碱基、二烷基膦酰氧基(-OPO3(alkyl)2)、二芳基膦酰氧基(-OPO3(aryl)2)、烷基芳基膦酰氧基(-OPO3(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰氧基(-OPO3H(alkyl))及其共轭碱基、单芳基膦酰氧基(-OPO3H(aryl))及其共轭碱基、氰基、硝基、芳基、烷基、杂环基、环氧乙烷基、烯基及炔基。
并且,这些取代基如有可能可以在取代基彼此或与取代的基团键合而形成环。
〔表面修饰无机氮化物〕
本发明的表面修饰无机氮化物包含无机氮化物和吸附于上述无机氮化物表面上的后述的通式(I)所表示的化合物(特定化合物)。换言之,本发明的表面修饰无机氮化物为用后述的特定化合物对无机氮化物的表面进行修饰而成的表面修饰无机氮化物。
在本发明的表面修饰无机氮化物中,使用后述的特定化合物作为无机氮化物的表面修饰剂。
作为特定化合物的特征点,可以举出具有选自后述的特定官能团组A中的特定官能团这一点和在分子中具有介晶骨架(为相当于通式(I)中的(X-Y)n的部位,n为3以上的整数。)这一点。认为通过上述结构,特定化合物变得容易吸附于无机氮化物的表面。尤其,确认到当无机氮化物为氮化硼时,吸附性更优异。由于特定化合物吸附于无机氮化物的表面,因此所得到的表面修饰无机氮化物的分散性得到提高。其结果,推测包含上述表面修饰无机氮化物的材料以表面修饰无机氮化物在上述材料中不偏在的状态良好地分散而存在,因此其导热性优异。尤其,认为当上述特定化合物具有聚合性基团时,由包含上述表面修饰无机氮化物和聚合性单体的组合物得到的固化物经由单体容易形成表面修饰无机氮化物彼此间的导电路径,因此导热性进一步得到提高。
尤其,认为由于特定化合物在分子中具有介晶骨架(为相当于通式(I)中的(X-Y)n的部位,n为3以上的整数。),因此所得到的表面修饰无机氮化物还具有使聚合性单体取向的功能。其结果,推测尤其当聚合性单体或其固化物显示出液晶性时,在表面修饰无机氮化物表面上聚合性单体或其固化物被取向(垂直取向),成为取向的液晶成分介于表面修饰无机氮化物之间的形态,表面修饰无机氮化物之间的导热性进一步得到提高,其结果,材料整体的导热性进一步得到提高。
以下,对表面修饰无机氮化物中所包含的成分进行详细叙述,然后对表面修饰无机氮化物的制造方法及其用途等进行详细叙述。
<无机氮化物>
无机氮化物的种类并不受特别限定。
作为无机氮化物的例子,可以举出氮化硼(BN)、氮化碳(C3N4)、氮化硅(Si3N4)、氮化镓(GaN)、氮化铟(InN)、氮化铝(AlN)、氮化铬(Cr2N)、氮化铜(Cu3N)、氮化铁(Fe4N或Fe3N)、氮化镧(LaN)、氮化锂(Li3N)、氮化镁(Mg3N2)、氮化钼(Mo2N)、氮化铌(NbN)、氮化钽(TaN)、氮化钛(TiN)、氮化钨(W2N、WN2或WN)、氮化钇(YN)及氮化锆(ZrN)等。
上述无机氮化物可以单独使用,也可以组合多种使用。
在所得到的表面修饰无机氮化物的导热性更优异的观点上,无机氮化物优选包含选自包括硼原子、铝原子及硅原子的组中的至少1种。更具体而言,无机氮化物更优选为选自包括氮化硼、氮化铝及氮化硅的组中的至少1种,进一步优选为选自包括氮化硼及氮化铝的组中的至少1种,尤其优选为氮化硼。
无机氮化物的形状并不受特别限定,可以为粒子状、薄膜状或扁平状。粒子状时,例如为米粒状、球形状、立方体状、纺锤形状、鳞片状、凝聚状或不规则形状即可。
无机氮化物的大小并不受特别限定,但在表面修饰无机氮化物的分散性更优异的观点上,无机氮化物的平均粒径优选500μm以下,更优选300μm以下,进一步优选200μm以下。下限并不受特别限定,但在处理性的观点上,优选10nm以上,更优选100nm以上。
作为上述平均粒径的测定方法,使用电子显微镜随机选择100个无机氮化物,测定各个无机氮化物的粒径(长径),将它们进行算术平均而求出。另外,当使用市售品时,也可以使用产品目录值。
<通式(I)所表示的化合物>
如上所述,上述通式(I)所表示的化合物(特定化合物)为吸附于无机氮化物表面的成分。以下,对特定化合物进行说明。
[化学式1]
通式(1)中,n表示3以上的整数。作为n的上限并不受特别限定,例如为10以下。在分散性更优异的观点上,n优选4以上,进一步优选5以上。
通式(1)中,X表示芳香族烃环基或芳香族杂环基。
作为芳香族烃环基,可以为单环式芳香族烃环基及多环式芳香族烃环基中的任一种。
作为构成单环式芳香族烃环基的单环式芳香族烃环并不受特别限定,例如可以举出5元~10元的环,优选5元或6元的环。作为单环式芳香族烃环,例如可以举出环戊二烯环及苯环等。
作为多环式芳香族烃环,只要具有2个以上的上述单环式芳香族烃环,则并不受特别限定,但更优选包含2环以上的苯环的稠环,进一步优选包含3环以上的苯环的稠环。另外,上述稠环中所包含的单环式芳香族烃环的个数的上限并不受特别限制,例如10个以下的情况多。
作为多环式芳香族烃环,具体而言,可以举出亚联苯环、苯并二茚环、苊烯环、芴环、非那烯环、菲环、蒽环、荧蒽环、醋菲烯环、醋蒽烯环、芘环、环、并四苯环、七曜烯环、苉环、苝环、戊芬环、并五苯环、四亚苯环、己芬环及三亚苯环等。
在分散性更优异的观点上,作为芳香族烃环,优选单环式芳香族烃环,更优选苯环。
作为芳香族杂环基,可以为单环式芳香族杂环基及多环式芳香族杂环基中的任一种。另外,构成多环式芳香族杂环基的多环式芳香族杂环是指由2个以上的单环式芳香族杂环构成的稠环及由1个以上的单环式芳香族杂环和1个以上的单环式芳香族烃环构成的稠环。
作为单环式芳香族杂环并不受特别限定,例如可以举出5元~10元的环,优选5元或6元的环。作为单环式芳香族杂环所包含的杂原子,例如可以举出氮原子、氧原子及硫原子。
作为单环式芳香族杂环,例如可以举出噻吩环、噻唑环、咪唑环、吡啶环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环及三嗪环。
作为多环式芳香族杂环,例如可以举出苯并咪唑环、吲哚环、喹啉环及喹喔啉环等。
作为上述X,在分散性更优异的观点上,优选芳香族烃环基,更优选单环式芳香族烃环基,进一步优选苯环基。
另外,上述X所表示的芳香族烃环基或芳香族杂环基可以具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
通式(1)中,具有多个的X各自可以相同也可以不同。
通式(1)中,Y表示单键、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-S-、-CS-、-NRA-、-N=N-或2价不饱和烃基。
作为2价不饱和烃基,可以举出亚烯基(例如:-CH=CH-)或亚炔基(例如:-C≡C-)。上述不饱和烃基可以具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
RA表示氢原子或烷基(可以为直链状、支链状及环状中的任一种。碳原子数优选1~6,更优选1~3)。
作为Y,在分散性更优异的观点上,优选单键、-CO-O-或-O-CO-。
另外,通式(1)中,具有多个的Y各自可以相同也可以不同。
并且,当R1和/或R2表示具有乙烯基作为特定官能团的有机基团时,优选上述有机基团不是(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯酰基。
通式(1)中,R1及R2各自独立地表示氢原子或取代基。其中,R1及R2中的至少任一者表示包含选自下述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团。
(特定官能团组A)
醛基(-CHO)、异氰酸酯基(-N=C=O)、异硫氰酸酯基(-N=C=S)、氰酸酯基(-O-CN)、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基(-SO2Cl)、羧酰氯基(-COCl)、鎓基、碳酸酯基(-O-CO-O-)、卤代芳基、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酸酐基(-CO-O-CO-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)、羧酸基(-COOH)、膦酸基(-PO(OH)2)、次膦酸基(-HPO(OH))、磷酸基(-OP(=O)(OH)2)、磷酸酯基(-OP(=O)(ORB)2)、磺酸基(-SO3H)、卤代烷基、卤原子(F原子、Cl原子、Br原子及I原子)、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-)、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、乙烯基(-CH=CH2)、炔基(从炔中去除1个氢原子而得到的基团。例如,包括乙炔基及丙-2-炔-1-基等。)、马来酰亚胺基、硫醇基(-SH)、羟基(-OH)及氨基。
上述酰基叠氮基是指由下述结构表示的基团。另外,式中的*表示键合位置。酰基叠氮基的抗衡阴离子(Z-)并不受特别限定,例如可以举出卤离子。
[化学式2]
上述琥珀酰亚胺基、氧杂环丁基及马来酰亚胺基分别表示从由下述式表示的化合物中去除1个任意位置的氢原子而形成的基团。
[化学式3]
并且,上述鎓基是指具有鎓盐结构的基团。鎓盐是指具有不参与化学键合的电子对的化合物通过该电子对与其他阳离子形态的化合物进行配位键合而产生的化合物。鎓盐通常包含阳离子和阴离子。
作为鎓盐结构并不受特别限定,例如可以举出铵盐结构、吡啶鎓盐结构、咪唑鎓盐结构、吡咯烷鎓盐结构、哌啶鎓结构、三乙烯二胺盐结构、鏻盐结构、锍盐结构及硫代吡喃鎓盐结构等。另外,成为抗衡的阴离子的种类并不受特别限定,可以使用公知的阴离子。阴离子的价数也不受特别限定,例如可以举出1~3价,优选1~2价。
作为鎓基,其中优选具有下述通式(A1)所表示的铵盐结构的基团。
[化学式4]
通式(A1)中,R1A~R3A分别独立地表示氢原子或烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)。烷基中的碳原子数例如为1~10,优选1~6,更优选1~3。M-表示阴离子。*表示键合位置。另外,烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
作为上述卤代芳基,只要为在芳香环基上取代有1个以上的卤原子的卤代芳基,则并不受特别限定。作为上述芳香环基,可以为单环结构及多环结构中的任一种,但优选苯基。并且,作为卤原子,可以举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子,优选氟原子。另外,卤代芳基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
作为卤代芳基,具体而言,可以举出氟苯基、全氟苯基、氯苯基、溴苯基及碘苯基等。
作为上述磷酸酯基,只要为-OP(=O)(ORB)2所表示的基团,则并不受特别限定。作为上述RB,可以举出氢原子或1价的有机基团。其中,RB中的任意1个以上表示1价的有机基团。作为1价的有机基团,例如可以举出烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)。烷基中的碳原子数例如为1~10,优选1~6,更优选1~3。另外,烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
作为上述卤代烷基并不受特别限定,例如可以举出在碳原子数1~10的烷基上取代有1个以上的卤原子的卤代烷基。上述烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)的碳原子数优选1~6,更优选1~3。作为卤原子,可以举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子,优选氟原子、氯原子或溴原子。另外,卤代烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
作为上述酰亚胺酯基,只要为-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-所表示的基团,则并不受特别限定。作为上述RC,例如可以举出氢原子及烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)。烷基中的碳原子数例如为1~10,优选1~6,更优选1~3。另外,烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
另外,酰亚胺酯基可以通过与不参与亚胺氮(imine nitrogen)的化学键合的电子对与其他阳离子(例如,氢离子)进行配位键合而成为鎓盐结构。
作为上述烷氧基甲硅烷基并不受特别限定,例如可以举出下述通式(A2)所表示的基团。
通式(A2):*-Si(ORD)3
通式(A2)中,RD分别独立地表示烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)。*表示键合位置。
作为RD所表示的烷基的碳原子数,例如可以举出1~10,优选1~6,更优选1~3。
具体而言,可以举出三甲氧基甲硅烷基及三乙氧基甲硅烷基等。
另外,烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。
作为上述氨基并不受特别限定,可以为伯氨基、仲氨基及叔氨基中的任一种。具体而言,可以举出-N(RE)2(RE分别独立地氢原子、或烷基(包括直链状、支链状及环状中的任一种。)。烷基中的碳原子数例如为1~10,优选1~6,更优选1~3。另外,烷基可以进一步具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。)所表示的氨基。
通式(I)中,作为上述R1及R2所表示的取代基并不受特别限定,除了包含选自后述的特定官能团组A中的特定官能团的有机基团以外,例如可以举出包含(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯酰基的1价的有机基团等。在分散性更优异的观点上,上述R1及R2优选均为包含选自后述的特定官能团组A中的特定官能团的有机基团。
当上述R1及R2表示包含选自下述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团时,R1及R2表示下述通式(B1)所表示的1价的基团或下述通式(B2)所表示的1价的基团,或者,表示下述通式(B3)所表示的2价的连接基团并与上述X上的原子键合而形成环。另外,当R2表示下述通式(B3)所表示的2价的连接基团并与上述X上的原子键合而形成环时,下述通式(B3)所表示的2价的连接基团即*31-L3-*32在*31处与上述Y键合,在*32处与上述X上的原子键合。
通式(B1):*1-L1-A1
通式(B1)中,L1表示单键或2价的连接基团。
作为2价的连接基团并不受特别限定,例如可以举出-O-、-S-、-NRF-(RF表示氢原子或烷基。)、2价的烃基(例如,亚烷基、亚烯基(例如:-CH=CH-)、亚炔基(例如:-C≡C-)及亚芳基(优选亚苯基))、上述特定官能团组A中的2价的有机基团(碳酸酯基(-O-CO-O-)、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酸酐基(-CO-O-CO-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)、酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-))或将它们组合而得到的基团。
作为上述组合而得到的基团,具体而言,可以举出-(2价的烃基)-X111-、-X111-(2价的烃基)-、-(2价的烃基)-X111-(2价的烃基)-、-X111-(2价的烃基)-X111-及-X111-(2价的烃基)-X111-(2价的烃基)-等。另外,-X111-为-O-、-S-、-NRF-、上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将它们组合而得到的基团。上述组合而得到的基团的总碳原子数例如为1~20,优选1~15,更优选1~10。
上述A1表示上述特定官能团组A中的1价的有机基团(醛基(-CHO)、异氰酸酯基(-N=C=O)、异硫氰酸酯基(-N=C=S)、氰酸酯基(-O-CN)、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基(-SO2Cl)、羧酰氯基(-COCl)、鎓基、卤代芳基、碳二亚胺基(-N=C=N-)、羧酸基(-COOH)、膦酸基(-PO(OH)2)、次膦酸基(-HPO(OH))、磷酸基(-OP(=O)(OH)2)、磷酸酯基(-OP(=O)(ORB)2)、磺酸基(-SO3H)、卤代烷基、卤原子(F原子、Cl原子、Br原子及I原子)、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、乙烯基(-CH=CH2)、炔基(从炔中去除1个氢原子而得到的基团。例如,包括乙炔基及丙-2-炔-1-基等。)、马来酰亚胺基、硫醇基(-SH)、羟基(-OH)或氨基)。
当上述R1表示下述通式(B1)所表示的1价的基团时,*1表示与上述X的键合位置。当上述R2表示下述通式(B1)所表示的1价的基团时,*1表示与上述Y的键合位置。
当通式(B1)中A1为羟基时,还优选上述L1由下述通式(B1’)表示。
通式(B1’):*1-L1a-L1b-*1a
通式(B1’)中,L1a表示单键或2价的连接基团。
作为2价的连接基团并不受特别限定,例如可以举出-O-、-S-、-NRF-(RF表示氢原子或烷基。)、2价的烃基(例如,亚烷基、亚烯基(例如:-CH=CH-)、亚炔基(例如:-C≡C-)及亚芳基(优选亚苯基))、上述特定官能团组A中的2价的有机基团(碳酸酯基(-O-CO-O-)、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酸酐基(-CO-O-CO-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)、酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-))或将它们组合而得到的基团。
作为上述组合而得到的基团,例如可以举出-X111-(2价的烃基)-X111-等。另外,-X111-为-O-、-S-、-NRF-、上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将它们组合而得到的基团。上述组合而得到的基团的总碳原子数例如优选1~10。
L1b表示芳香族烃基。另外,芳香族烃基可以具有取代基(例如,在取代基组T中例示出的基团)。作为芳香族烃基,优选亚苯基。上述*1a表示与羟基的键合位置。上述*1的含义与上述通式(B1)中的*1相同,优选的方式也相同。
通式(B2):*2-L2-A2
通式(B2)中,L2表示包含上述特定官能团组A中的2价的有机基团(碳酸酯基(-O-CO-O-)、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酸酐基(-CO-O-CO-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)或酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-))的2价的连接基团。
作为上述L2,具体而言,可以举出上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将上述特定官能团组A中的2价的有机基团与选自包括-O-、-S-、-NRF-(RF表示氢原子或烷基。)及2价的烃基(例如,亚烷基、亚烯基(例如:-CH=CH-)、亚炔基(例如:-C≡C-)及亚芳基(优选亚苯基))的组中的连接基团组合而得到的基团。
作为上述组合而得到的基团,例如可以举出-(2价的烃基)-X112-(2价的烃基)-及-X112-(2价的烃基)-X112-等。另外,-X112-为上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将上述特定官能团组A中的2价的有机基团与选自-O-、-S-及-NRF-中的2价的基团组合而得到的基团。上述组合而得到的基团的总碳原子数例如为1~20,优选1~15,更优选1~10。
上述A2表示1价的有机基团。作为上述A2所表示的1价的有机基团并不受特别限定,例如可以举出烷基。烷基中的碳原子数例如为1~10,优选1~6,更优选1~3。
当上述R1表示下述通式(B2)所表示的1价的基团时,*2表示与上述X的键合位置。当上述R2表示下述通式(B2)所表示的1价的基团时,*2表示与上述Y的键合位置。
通式(B3):*31-L3-*32
通式(B3)中,L3表示包含上述特定官能团组A中的2价的有机基团(碳酸酯基(-O-CO-O-)、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酸酐基(-CO-O-CO-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)或酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-))的2价的连接基团。
作为上述L3,例如可以举出上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将上述特定官能团组A中的2价的有机基团与选自包括-O-、-S-、-NRF-(RF表示氢原子或烷基。)及2价的烃基(例如,亚烷基、亚烯基(例如:-CH=CH-)、亚炔基(例如:-C≡C-)及亚芳基(优选亚苯基))的组中的连接基团组合而得到的基团。
作为上述组合而得到的基团,例如可以举出-X113-(2价的烃基)-X113-等。另外,-X113-为上述特定官能团组A中的2价的有机基团或将上述特定官能团组A中的2价的有机基团与选自-O-、-S-及-NRF-中的2价的基团组合而得到的基团。上述组合而得到的基团的总碳原子数例如为1~20,优选1~15,更优选1~10。
当R1表示上述通式(B3)所表示的2价的连接基团并与上述X上的2个原子键合而形成环时,*31及*32表示键合位置。另外,当R2表示上述通式(B3)所表示的2价的连接基团并与上述X上的原子键合而形成环时,下述通式(B3)所表示的2价的连接基团即*31-L3-*32在*31处与上述Y键合,在*32处与上述X上的原子键合。
当上述R1及R2均表示包含选自上述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团时,作为R1及R2,在分散性更优异的观点上,优选上述R1及上述R2中的一者为包含选自下述特定官能团组B中的特定官能团的有机基团,且上述R1及上述R2中的另一者为包含选自下述特定官能团组C中的特定官能团的有机基团。
另外,包含选自特定官能团组B中的特定官能团的有机基团及包含选自特定官能团组C中的特定官能团的有机基团除了特定官能团的选择项不同以外,其含义与包含选自上述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团相同,并且优选的方式也相同。
(特定官能团组B)
醛基(-CHO)、异氰酸酯基(-N=C=O)、异硫氰酸酯基(-N=C=S)、氰酸酯基(-O-CN)、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基(-SO2Cl)、羧酰氯基(-COCl)、鎓基、碳酸酯基(-O-CO-O-)、卤代芳基、碳二亚胺基(-N=C=N-)、酯基(-CO-O-或-O-CO-)、羰基(-CO-)、膦酸基(-PO(OH)2)、次膦酸基(-HPO(OH))、磷酸基(-OP(=O)(OH)2)、磷酸酯基(-OP(=O)(ORB)2)、磺酸基(-SO3H)、卤代烷基、卤原子(F原子、Cl原子、Br原子及I原子)、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、酰亚胺酯基(-C(=NRC)-O-或-O-C(=NRC)-)、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、炔基(从炔中去除1个氢原子而得到的基团。例如,包括乙炔基及丙-2-炔-1-基等。)及马来酰亚胺基。
(特定官能团组C)
羟基(-OH)、酸酐基(-CO-O-CO-)、羧酸基(-COOH)、乙烯基(-C=C-)、硫醇基(-SH)及氨基。
当上述R1及R2均表示包含选自上述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团时,作为R1及R2,在分散性更优异的观点上,其中优选上述R1及上述R2中的一者为包含醛基的有机基团,且上述R1及上述R2中的另一者表示包含选自上述特定官能团组C中的特定官能团的有机基团。
在分散性更优异的观点上,上述通式(1)优选为下述通式(2)所表示的化合物。另外,通式(2)所表示的化合物相当于在通式(1)所表示的化合物中与R2连接的Y为单键的方式。
[化学式5]
上述通式(2)中,R1及R2的含义各自与通式(1)中的R1及R2相同,并且优选的方式也相同。
上述通式(2)中,X11及X12的含义各自与通式(1)中的X相同,并且优选的方式也相同。
上述通式(2)中,Y11的含义与通式(1)中的Y相同,并且优选的方式也相同。
上述通式(2)中,n11表示2以上的整数。n11优选3以上,更优选4以上。另外,n11的上限例如为9。
上述特定化合物的分子量例如为200以上,从表面修饰无机氮化物的分散性更优异的观点上,优选300以上,并且,从溶解度的观点考虑,优选2,000以下,更优选1,000以下。
以下示出特定化合物的具体例,但本发明并不限定于此。另外,下述例示中,“Me”表示甲基,“Et”表示乙基。
[化学式6]
[化学式7]
[化学式8]
[化学式9]
<表面修饰无机氮化物的制造方法>
表面修饰无机氮化物的制造方法并不受特别限定,例如可以举出具有使无机氮化物与特定化合物接触的工序的方法。
无机氮化物与特定化合物的接触例如通过搅拌包含无机氮化物及特定化合物的溶液来实施。
上述溶液的溶剂的种类并不受特别限定,但优选有机溶剂。作为有机溶剂,例如可以举出乙酸乙酯、甲基乙基酮、二氯甲烷及四氢呋喃。
上述溶液可以包含后述的聚合性单体等其他成分。在该情况下,所得到的混合物也能够用作后述的组合物。
无机氮化物与特定化合物的混合比只要考虑无机氮化物的结构及表面积以及特定化合物的分子的纵横比等分子结构来确定即可。
搅拌条件(搅拌转速、温度条件)并不受特别限定。
<表面修饰无机氮化物>
在表面修饰无机氮化物中,特定化合物对无机氮化物进行表面修饰。特定化合物优选与无机氮化物形成氢键合等键合而实现表面修饰。
表面修饰无机氮化物的形状并不受特别限定,可以为粒子状、薄膜状及扁平状。
表面修饰无机氮化物中的特定化合物与无机氮化物的质量比(特定化合物的质量/无机氮化物的质量)并不受特别限定,但在表面修饰无机氮化物的分散性更优异的观点上,上述质量比优选0.0001~0.5,更优选0.0005~0.1。
在表面修饰无机氮化物中,只要特定化合物吸附于无机氮化物表面即可,其他表面修饰剂可以吸附于无机氮化物表面。即,表面修饰无机氮化物可以包含无机氮化物和吸附于无机氮化物表面上的特定化合物及其他表面修饰剂。
〔组合物〕
上述表面修饰无机氮化物对各种材料的分散性得到了改善。利用该性质,表面修饰无机氮化物能够与其他材料混合而以组合物形态适用于各种用途。
组合物中的表面修饰无机氮化物的含量并不受特别限定,可以根据组合物的用途适当地选择最佳的含量。表面修饰无机氮化物的含量相对于组合物中的总固体成分,例如为0.01~95质量%,其中,在进一步显现表面修饰无机氮化物的特性的观点上,表面修饰无机氮化物的含量相对于组合物中的总固体成分,优选20~95质量%,更优选30~90质量%,进一步优选40~85质量%。
组合物可以包含1种表面修饰无机氮化物,也可以包含2种以上。
如上所述,组合物中可以包含表面修饰无机氮化物以外的材料,例如可以举出聚合性单体、固化剂、固化促进剂及聚合引发剂等。
以下,对各种成分进行详细叙述。
<聚合性单体>
聚合性单体为通过热或光等规定的处理而固化的化合物。
聚合性单体具有聚合性基团。
聚合性基团的种类并不受特别限制,可以举出公知的聚合性基团,从反应性的观点考虑,优选能够进行加成聚合反应的官能团,更优选聚合性烯属不饱和基团或环聚合性基团。作为聚合性基团,例如可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧乙烷基、乙烯基、马来酰亚胺基、苯乙烯基、烯丙基及氧杂环丁基等。另外,上述各基团中的氢原子可以被卤原子等其他取代基取代。其中,从反应性的观点考虑,聚合性基团优选为选自包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基及乙烯基的组中的基团。
另外,聚合性单体中所包含的聚合性基团的数量并不受特别限定,但在将组合物固化而得到的固化物的耐热性更优异的观点上,优选为2个以上,更优选为3个以上。上限并不受特别限定,但8个以下的情况多。
聚合性单体的种类并不受特别限定,能够使用公知的聚合性单体。例如,可以举出日本专利第4118691号的段落0028中所记载的环氧树脂单体及丙烯酸树脂单体、日本特开2008-013759号公报的段落0006~0011中所记载的环氧化合物以及日本特开2013-227451号公报的段落0032~0100中所记载的环氧树脂混合物等。
并且,也能够使用双酚A二缩水甘油醚单体及双酚F二缩水甘油醚单体等。
组合物中的聚合性单体的含量并不受特别限定,可以根据组合物的用途适当地选择最佳的含量。其中,聚合性单体的含量相对于组合物中的总固体成分,优选10~90质量%,更优选15~70质量%,进一步优选15~60质量%。
组合物可以包含1种聚合性单体,也可以包含2种以上。
聚合性单体优选显示出液晶性。即,优选聚合性单体为液晶化合物。换言之,优选为具有聚合性基团的液晶化合物。
并且,还优选聚合性单体的固化物显示出液晶性。另外,聚合性单体的固化物是指使聚合性单体本身固化而得到的固化物,不包括上述表面修饰无机氮化物。另外,在得到上述固化物时,根据需要可以使用后述的固化剂。
如上所述,聚合性单体或其固化物优选显示出液晶性。即,聚合性单体或其固化物优选为液晶成分。
聚合性单体可以为棒状液晶化合物及圆盘状液晶化合物中的任一种。即,聚合性单体可以为具有聚合性基团的棒状液晶化合物及具有聚合性基团的圆盘状液晶化合物中的任一种。
以下,对棒状液晶化合物及圆盘状液晶化合物进行详细叙述。
(棒状液晶化合物)
作为棒状液晶化合物,可以举出甲亚胺类、氧化偶氮类、氰基联苯类、氰基苯酯类、苯甲酸酯类、环己烷羧酸苯酯类、氰基苯基环己烷类、氰基取代苯基嘧啶类、烷氧基取代苯基嘧啶类、苯基二噁烷类、二苯乙炔类及链烯基环己基苄腈类。不仅能够使用如上所述的低分子液晶化合物,还能够使用高分子液晶化合物。上述高分子液晶化合物为具有低分子的反应性基团的棒状液晶化合物进行聚合而成的高分子化合物。
作为优选的棒状液晶化合物,可以举出下述通式(XXI)所表示的棒状液晶化合物。
通式(XXI):Q1-L111-A111-L113-M-L114-A112-L112-Q2
式中,Q1及Q2分别独立地为聚合性基团,L111、L112、L113及L114分别独立地表示单键或2价的连接基团。A111及A112分别独立地表示碳原子数1~20的2价的连接基团(间隔基)。M表示介晶基团。
另外,聚合性基团的定义如上所述。
作为L111、L112、L113及L114所表示的2价的连接基团,优选为选自包括-O-、-S-、-CO-、-NR112-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR112-、-NR112-CO-、-O-CO-、-CH2-O-、-O-CH2-、-O-CO-NR112-、-NR112-CO-O-及-NR112-CO-NR112-的组中的2价的连接基团。上述R112为碳原子数1~7的烷基或氢原子。
A111及A112表示碳原子数1~20的2价的连接基团。其中,优选碳原子数1~12的亚烷基、亚烯基或亚炔基,更优选碳原子数1~12的亚烷基。
2价的连接基团优选为直链状,可以包含不相邻的氧原子或硫原子。并且,上述2价的连接基团可以具有取代基,作为取代基,例如可以举出卤原子(氟原子、氯原子或溴原子)、氰基、甲基及乙基。
作为M所表示的介晶基团,可以举出公知的介晶基团。其中,优选下述通式(XXII)所表示的基团。
通式(XXII):-(W1-L115)n-W2-
式中,W1及W2分别独立地表示2价的环状亚烷基、2价的环状亚烯基、亚芳基或2价的杂环基。L115表示单键或2价的连接基团。n表示1、2或3。
作为W1及W2’例如可以举出1,4-环己烯二基、1,4-环己烷二基、1,4-亚苯基、嘧啶-2,5-二基、吡啶-2,5-二基、1,3,4-噻二唑-2,5-二基、1,3,4-噁二唑-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,5-二基、噻吩-2,5-二基及哒嗪-3,6-二基。在1,4-环己烷二基的情况下,可以为反式体及顺式体的结构异构物中的任一异构物,也可以为任意比例的混合物。其中,优选为反式体。
W1及W2分别可以具有取代基。作为取代基,例如可以举出在上述取代基组T中例示出的基团,更具体而言,可以举出卤原子(氟原子、氯原子、溴原子及碘原子)、氰基、碳原子数1~10的烷基(例如,甲基、乙基及丙基等)、碳原子数1~10的烷氧基(例如,甲氧基、乙氧基等)、碳原子数1~10的酰基(例如,甲酰基、乙酰基等)、碳原子数1~10的烷氧基羰基(例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、碳原子数1~10的酰氧基(例如,乙酰氧基、丙酰氧基等)、硝基、三氟甲基及二氟甲基等。
作为L115所表示的2价的连接基团,可以举出上述L111~L114所表示的2价的连接基团的具体例,例如可以举出-CO-O-、-O-CO-、-CH2-O-及-O-CH2-。
以下例示出上述通式(XXII)所表示的介晶基团的基本骨架中优选的骨架。这些骨架上可以取代有上述取代基。
[化学式10]
[化学式11]
另外,通式(XXI)所表示的化合物能够参考日本特表平11-513019号公报(WO97/000600)中所记载的方法进行合成。
棒状液晶化合物可以为日本特开平11-323162号公报、日本专利4118691号中所记载的具有介晶基团的单体。
(圆盘状液晶化合物)
圆盘状液晶化合物至少局部地具有圆盘状结构。圆盘状结构至少具有芳香族环。因此,圆盘状液晶化合物能够通过在分子间的π-π相互作用下形成堆积(stacking)结构来形成柱状结构。
作为圆盘状结构,具体而言,可以举出Angew.Chem.Int.Ed.2012,51,7990-7993或日本特开平7-306317号公报中所记载的三亚苯结构及日本特开2007-002220号公报、日本特开2010-244038号公报中所记载的3取代苯结构等。
其中,通过使用圆盘状液晶化合物作为聚合性单体,可得到显示出高导热性的导热材料。作为其原因,认为棒状液晶化合物只能直线地(一维地)导热,相对于此,圆盘状液晶化合物能够沿法线方向平面地(二维地)导热,因此导热路径增加,导热率得到提高。
并且,通过使用圆盘状液晶化合物,组合物的固化物的耐热性得到提高。
圆盘状液晶化合物优选具有3个以上的聚合性基团。包含具有3个以上的聚合性基团的圆盘状液晶化合物的组合物的固化物具有玻璃化转变温度高、耐热性高的倾向。与棒状液晶化合物相比,圆盘状液晶化合物不会对介晶部分的特性带来影响,且容易具有3个以上的聚合性基团。圆盘状液晶化合物所具有的聚合性基团的数量优选为8个以下,更优选为6个以下。
作为圆盘状液晶化合物,优选以下通式(XI)所表示的化合物或通式(XII)所表示的化合物。
[化学式12]
式中,R11、R12、R13、R14、R15及R16分别独立地表示*-X11-L11-P11或*-X12-Y12,*表示与三亚苯环的键合位置,R11、R12、R13、R14、R15及R16中2个以上为*-X11-L11-P11,X11及X12分别独立地表示单键、-O-、-C(=O)-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-OC(=O)NH-、-OC(=O)S-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、-C(=O)S-、-NHC(=O)-、-NHC(=O)O-、-NHC(=O)NH-、-NHC(=O)S-、-S-、-SC(=O)-、-SC(=O)O-、-SC(=O)NH-或-SC(=O)S-,L11表示2价的连接基团或单键,P11表示聚合性基团,Y12表示氢原子、碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基或在碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基中1个或2个以上的亚甲基被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-C(=O)-、-OC(=O)-或-C(=O)O-取代的基团。
R11、R12、R13、R14、R15及R16优选3个以上为*-X11-L11-P11。其中,更优选R11及R12中的任意1个以上、R13及R14中的任意1个以上以及R15及R16中的任意1个以上为*-X11-L11-P11,进一步优选R11、R12、R13、R14、R15及R16全部为*-X11-L11-P11,尤其优选R11、R12、R13、R14、R15及R16全部为相同的*-X11-L11-P11。
作为X11及X12,分别独立地优选为-O-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-OC(=O)NH-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-或NHC(=O)O-,更优选为-OC(=O)-、-C(=O)O-、-OC(=O)NH-或-C(=O)NH-,进一步优选为-C(=O)O-。
L11表示连接X11与P11的2价的连接基团或单键。作为2价的连接基团,可以举出-O-、-OC(=O)-、-C(=O)O-、碳原子数1~10(优选碳原子数1~8,更优选碳原子数1~6)的亚烷基、碳原子数6~20(优选碳原子数6~14,更优选碳原子数6~10)的亚芳基或由它们的组合构成的基团等。
作为碳原子数1~10的亚烷基,例如可以举出亚甲基、乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基及己烯基等。
作为碳原子数6~20的亚芳基,例如可以举出1,4-亚苯基、1,3-亚苯基、1,4-亚萘基、1,5-亚萘基及亚蒽基等,优选1,4-亚苯基。
上述亚烷基及上述亚芳基分别可以具有取代基。作为取代基,例如可以举出在上述取代基组T中例示出的基团。取代基的数量优选为1~3个,更优选为1个。取代基的取代位置并不受特别限定。作为取代基,优选卤原子或碳原子数1~3的烷基,更优选甲基。还优选亚烷基及亚芳基未被取代。尤其优选亚烷基未被取代。
P11表示聚合性基团。聚合性基团的定义如上所述。
P11优选为丙烯酰基、甲基丙烯酰基或环氧乙烷基。
另外,当P11为羟基时,优选L11包含亚芳基,且该亚芳基与P11键合。
Y12表示氢原子、碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基、或在碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基中1个或2个以上的亚甲基被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-C(=O)-、-OC(=O)-或-C(=O)O-取代的基团。
当Y12为碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基、或在碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基中1个或2个以上的亚甲基被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-C(=O)-、-OC(=O)-或-C(=O)O-取代的基团时,可以被卤原子取代。
作为碳原子数1~20的直链状或支链状的烷基,可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、1,1-二甲基丙基、正己基、异己基、直链状或支链状的庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基及十二烷基。
环状的烷基的碳原子数优选3以上,更优选5以上,并且,优选20以下,更优选10以下,进一步优选8以下,尤其优选6以下。作为环状的烷基的例子,可以举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基及环辛基。
作为Y12,优选氢原子、碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基或碳原子数1~20的环氧烷基(alkylene oxide group),更优选碳原子数1~12的直链状或支链状的烷基或碳原子数1~20的环氧乙烷基(ethylene oxide group)或环氧丙烷基(propyleneoxide group)。
关于上述通式(XI)所表示的化合物的具体例,能够参考日本特开平7-281028号公报的段落0028~0036、日本特开平7-306317号公报、日本特开2005-156822号公报的段落0016~0018、日本特开2006-301614号公报的段落0067~0072及液晶便览(平成12年YAMAZEN CORPORATION发刊)330页~333页中所记载的化合物。
[化学式13]
式中,A2、A3及A4分别独立地表示-CH=或-N=,R17、R18及R19分别独立地表示*-X211-(Z21-X212)n21-L21-P21或*-X211-(Z22-X222)n22-Y22,*表示与中心环的键合位置,R17、R18及R19中2个以上为*-X211-(Z21-X212)n21-L21-P21,X211、X212及X222分别独立地表示单键、-O-、-C(=O)-、-OC(=O)-、-OC(=O)O-、-OC(=O)NH-、-OC(=O)S-、-C(=O)O-、-C(=O)NH-、-C(=O)S-、-NHC(=O)-、-NHC(=O)O-、-NHC(=O)NH-、-NHC(=O)S-、-S-、-SC(=O)-、-SC(=O)O-、-SC(=O)NH-或-SC(=O)S-,Z21及Z22分别独立地表示5元环或6元环的芳香族基团或5元环或6元环的非芳香族基团,L21表示连接X212与P21的2价的连接基团或单键,P21表示聚合性基团,Y22表示氢原子、碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基、或在碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基中1个或2个以上的亚甲基被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-C(=O)-、-OC(=O)-或-C(=O)O-取代的基团,n21及n22分别独立地表示0~3的整数,n21及n22为2以上时的具有多个的Z21-X212及Z22-X222可以相同也可以不同。
优选R17、R18及R19全部为*-X211-(Z21-X212)n21-L21-P21。更优选R17、R18及R19全部为相同的*-X211-(Z21-X212)n21-L21-P21。
作为X211、X212及X222,优选单键或-OC(=O)-。
Z21及Z22分别独立地表示5元环或6元环的芳香族基团或5元环或6元环的非芳香族基团,例如可以举出1,4-亚苯基、1,3-亚苯基及2价的杂环基等。
上述芳香族基团及非芳香族基团可以具有取代基。作为取代基,可以举出在上述取代基组T中例示出的基团。取代基优选为1个或2个,更优选为1个。取代基的取代位置并不受特别限定。作为取代基,优选卤原子或甲基。作为卤原子,优选氯原子或氟原子。还优选上述芳香族基团及非芳香族基团未被取代。
作为2价的杂环,例如可以举出以下杂环。
[化学式14]
式中,*表示键合于X211的部位,**表示键合于X212(或X222)的部位;A41及A42分别独立地表示次甲基或氮原子;X4表示氧原子、硫原子、亚甲基或亚氨基。
A41及A42优选至少一者为氮原子,更优选两者为氮原子。并且,X4优选为氧原子。
L21表示连接X212与P21的2价的连接基团或单键,其含义与通式(XI)中的L11相同。作为L21,优选-O-、-OC(=O)-、-C(=O)O-、碳原子数1~10(优选碳原子数1~8,更优选碳原子数1~6)的亚烷基或由它们的组合构成的基团。
P21表示聚合性基团。聚合性基团的定义如上所述。
P21优选为丙烯酰基、甲基丙烯酰基或环氧乙烷基。
Y22分别独立地表示氢原子、碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基、或在碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基中1个或2个以上的亚甲基被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-C(=O)-、-OC(=O)-或-C(=O)O-取代的基团,其含义与通式(XI)中的Y12相同,优选的范围也相同。
n21及n22分别独立地表示0~3的整数,优选1~3的整数,更优选2或3。
关于通式(XII)所表示的化合物的详细内容及具体例,能够参考日本特开2010-244038号公报的段落0013~0077的记载,其内容被编入本说明书中。
作为通式(XI)或通式(XII)所表示的化合物,从通过减小电子密度来增强堆积、容易形成柱状集合体的观点考虑,优选为具有氢键性官能团的化合物。
作为氢键性官能团,可以举出-OC(=O)NH-、-C(=O)NH-、-NHC(=O)-、-NHC(=O)O-、-NHC(=O)NH-、-NHC(=O)S-及SC(=O)NH-等。
关于作为通式(XI)所表示的化合物及通式(XII)所表示的化合物而尤其优选的具体例,可以举出以下化合物。
[化学式15]
[化学式16]
[化学式17]
**表示键合位置。以下相同。
[化学式18]
[化学式19]
[化学式20]
[化学式21]
[化学式22]
[化学式23]
[化学式24]
通式(XI)所表示的化合物能够依据日本特开平7-306317号公报、日本特开平7-281028号公报、日本特开2005-156822号公报及日本特开2006-301614号公报中所记载的方法进行合成。
通式(XII)所表示的化合物能够依据日本特开2010-244038号公报、日本特开2006-076992号公报及日本特开2007-002220号公报中所记载的方法进行合成。
<其他成分>
(固化剂)
组合物可以进一步包含固化剂。
固化剂的种类并不受特别限定,只要为将上述聚合性单体固化而得到的化合物即可。作为固化剂,优选为具有选自包括羟基、氨基、硫醇基、异氰酸酯基、羧基、(甲基)丙烯酰基及羧酸酐基的组中的官能团的化合物,更优选为具有选自包括羟基、(甲基)丙烯酰基、氨基及硫醇基的组中的官能团的化合物。
固化剂优选包含2个以上的上述官能团,更优选包含2个或3个。
作为固化剂,例如可以举出胺类固化剂、酚类固化剂、胍类固化剂、咪唑类固化剂、萘酚类固化剂、丙烯酸类固化剂、酸酐类固化剂、活性酯类固化剂、苯并噁嗪类固化剂及氰酸酯酯类固化剂等。其中,优选丙烯酸类固化剂、酚类固化剂或胺类固化剂。
组合物中的固化剂的含量并不受特别限定,相对于组合物中的总固体成分,优选1~50质量%,更优选1~30质量%。
(固化促进剂)
组合物可以进一步包含固化促进剂。
固化促进剂的种类并不受限定,例如可以举出三苯基膦、2-乙基-4-甲基咪唑、三氟化硼胺络合物、1-苄基-2-甲基咪唑及日本特开2012-067225号公报的段落0052中所记载的固化催化剂。
组合物中的固化促进剂的含量并不受特别限定,相对于组合物中的总固体成分,优选0.1~20质量%。
(聚合引发剂)
组合物可以进一步包含聚合引发剂。
尤其,当特定化合物或聚合性单体具有(甲基)丙烯酰基时,组合物优选包含日本特开2010-125782的段落0062及日本特开2015-052710的段落0054中所记载的聚合引发剂。
组合物中的聚合引发剂的含量并不受特别限定,相对于组合物中的总固体成分,优选0.1~50质量%。
(溶剂)
组合物可以进一步包含溶剂。
溶剂的种类并不受特别限定,优选为有机溶剂。作为有机溶剂,例如可以举出乙酸乙酯、甲基乙基酮、二氯甲烷及四氢呋喃等。
<组合物的制造方法>
组合物的制造方法并不受特别限定,能够采用公知的方法,例如能够通过利用公知的方法混合上述各种成分(表面修饰无机氮化物及聚合性单体等)来进行制造。混合时,可以一并混合各种成分,也可以依次混合。
并且,如上所述,在制造表面修饰无机氮化物时,可以一并混合无机氮化物、特定化合物及其他添加剂来制造组合物。
<组合物的固化方法>
组合物的固化方法并不受特别限定,可以根据聚合性单体的种类适当地选择最佳的方法。固化方法例如可以为热固化反应,也可以为光固化反应,优选热固化反应。
热固化反应时的加热温度并不受特别限定。例如,在50~200℃的范围内适当地选择即可。并且,在进行热固化反应时,可以实施多次温度不同的加热处理。
另外,优选对呈薄片状的组合物实施固化反应。具体而言,例如涂布组合物并对所得到的涂膜实施固化反应即可。此时,可以进行冲压(press)加工。
并且,固化反应也可以为半固化反应。即,所得到的固化物也可以为所谓的B阶段状态(半固化状态)。
以与器件等接触的方式配置如上所述的半固化的固化物之后,进一步进行加热等而使其正式固化,由此包含作为固化物的导热材料的层与器件的粘接性进一步得到提高。
<用途>
上述表面修饰无机氮化物及上述组合物能够适用于各种用途。例如,能够作为颜料、催化剂、电极材料、半导体材料、导热材料及润滑剂等而应用于各种领域。即,包含上述表面修饰无机氮化物的材料能够适用于各种用途。另外,包含表面修饰无机氮化物的材料的形状并不受特别限定,例如可以为薄片状。
其中,上述表面修饰无机氮化物及上述组合物优选用于形成导热材料或润滑剂。
以下,关于其优选用途进行详细叙述。
(导热材料)
本发明的导热材料包含表面修饰无机氮化物。
在导热材料中可以包含表面修饰无机氮化物以外的成分,例如可以举出粘合剂。另外,作为粘合剂,可以举出上述聚合性单体固化而形成的粘合剂。
导热材料能够使上述组合物固化来进行制作。即,上述组合物能够用于形成导热材料。另外,关于包含固化反应的导热材料的制作,能够参考《高导热性复合材料》(CMC出版、竹泽由高著)。
另外,上述导热材料中只要包含表面修饰无机氮化物即可,其制造方法并不限定于使用上述组合物的方式。
导热材料为导热性优异的材料,能够用作散热片等的散热材料。例如,能够用于功率半导体器件等各种器件的散热用途。更具体而言,通过在器件上配置包含上述导热材料的导热层来制作带导热层的器件,能够高效率地将来自器件的发热由导热层散热。
导热材料的形状并不受特别限定,根据用途可以成型为各种形状。典型地,导热材料优选为薄片状。
另外,上述导热材料可以为完全固化的状态,也可以为半固化状态(上述B阶段状态)。如上所述,若为半固化状态的导热材料,则配置于器件上之后,通过实施加热处理,能够在器件上形成粘接性优异的导热层。
(润滑剂)
上述表面修饰无机氮化物能够优选用于制作润滑剂。即,作为表面修饰无机氮化物的用途,可以举出包含表面修饰无机氮化物的润滑剂。
润滑剂能够通过混合润滑脂(低分子单体、高分子树脂)等和表面修饰无机氮化物来进行制作。作为润滑脂,能够使用公知的材料。
在制作润滑剂时,作为表面修饰无机氮化物中的无机氮化物,可以优选举出氮化硼。这是因为,已知氮化硼在高温区域中其本身显示出润滑性。
实施例
以下,根据实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理步骤等只要不脱离本发明的宗旨,则能够适当地进行变更。因此,本发明的范围不应通过以下所示的实施例进行限定性解释。
〔实验系统的确立〕
已周知茜素为与氧化锌键合而对氧化锌表面进行修饰的化合物(日本专利5479175号)。将茜素(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造,商品目录号015-01151)12mg溶解于甲基乙基酮300mL中,使用该溶液的可见吸收光谱(测定装置:ShimadzuCorporation制造的UV-3100PC)测定了波长427nm的吸光度。另外,向该溶液(25mL)中添加另外准备的氧化锌微粒(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造,264-00365)并轻轻地进行了搅拌。约5分钟后,使用0.45微米过滤器(Sartorius公司制造的Minisart RC15)对所得到的溶液的上清液进行了过滤器过滤。对所得到的滤液与上述同样地测定了吸光度。其结果,相对于氧化锌微粒添加前的溶液的吸光度,氧化锌微粒添加后的溶液的吸光度为27.6%。根据所得到的结果可知,通过进行如上述的吸光度的比较,能够根据吸光度的减少量来确定化合物的无机氮化物的表面修饰的有无及其程度。
(对无机氮化物的吸附试验)
将下述化合物C-3(10mg)溶解于乙腈(100mL)中并进一步稀释为1/10,由此得到了溶液。测定所得到的溶液的紫外可见吸收光谱(测定装置:SHIMADZU CORPORATION制造的UV-3100PC),并求出了在吸收极大波长下的吸光度X。
接着,向上述溶液(20mL)中添加Denka Company Limited制造的氮化硼“SGPS”(0.5g)并搅拌了几秒。搅拌后,对所得到的溶液的上清液进行了过滤器过滤。使用所得到的滤液,与上述同样地测定滤液的紫外可见吸收光谱(测定装置:SHIMADZU CORPORATION制造的UV-3100PC),求出了在吸收极大波长下的吸光度Y。将紫外可见吸收光谱的结果示于图1。
接着,计算出添加氮化硼而得到的上述滤液在吸收极大波长下的吸光度Y相对于添加氮化硼之前的溶液在吸收极大波长下的吸光度X的比例(残留率(%))。残留率(%)越小,表示对氮化硼的吸附越优异。将结果示于表1。
另外,代替上述化合物C-3而使用后述的表1所示的各化合物,按照与上述相同的步骤计算出氮化硼添加后的吸光度的残留率(%)。将各结果总结示于后述的表1。并且,将紫外可见吸收光谱的结果分别示于图2~4。
[化学式25]
[表1]
根据上述表1的结果可知,当使用表1所示的各化合物时,均确认到吸光度的减少。根据该结果确认到,表1所示的各化合物吸附于氮化硼的表面。另外,即使在使用了在后述的实施例中使用的化合物C-1~46中表1所示的化合物以外的化合物的情况下,也确认到吸光度的减少。根据该结果确认到,关于在后述的实施例中使用的化合物C-1~46中表1所示的化合物以外的化合物,也吸附于氮化硼的表面。
〔组合物的制备及评价〕
<各种成分>
以下示出实施例及比较例中所使用的各种成分。
(聚合性单体)
作为聚合性单体,使用了下述A-1~A-8所表示的化合物。
A-1:双酚F二缩水甘油醚树脂与双酚A二缩水甘油醚树脂的混合物,环氧当量:165.7g/eq,总氯:0.008重量%,粘度:2,340mPa·s,NIPPON STEEL&SUMIKIN CHEMICALCO.,LTD.制造。
[化学式26]
A-5:“TMPT”(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯,Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)。
A-6:“OXT-121”(多官能氧杂环丁烷,TOAGOSEI CO.,LTD.制造)。
[化学式27]
(添加剂)
作为添加剂,使用了下述B-1~B-3所表示的化合物。
[化学式28]
B-3:“KAYAHARD GPH-65”(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)。
(溶剂)
作为溶剂,使用了MEK(甲基乙基酮)。
(聚合引发剂)
作为聚合引发剂,使用了VAm-110(油溶性偶氮聚合引发剂,Wako Pure ChemicalIndustries,Ltd.制造)。
(无机氮化物)
作为无机氮化物,使用了下述物质。
SGPS(氮化硼,平均粒径12μm,Denka Company Limited制造)
S-30(氮化铝,平均粒径35μm,MARUWA CO.,Ltd.制造)
(表面修饰剂)
作为表面修饰剂,使用了下述C-1~C-46所表示的化合物。
[化学式29]
[化学式30]
[化学式31]
[化学式32]
[化学式33]
[化学式34]
(比较用表面修饰剂)
作为比较用表面修饰剂,使用了下述D-1~D-4所表示的化合物。
[化学式35]
<实施例1>
将下述表2所示的各种成分以聚合性单体、MEK(甲基乙基酮)、添加剂、表面修饰剂(通式(1)所表示的化合物)及聚合引发剂的顺序混合之后,添加了无机氮化物。用自转公转搅拌机(THINKY CORPORATION制造,Awatori Rentaro ARE-310)将所得到的混合物处理5分钟,由此得到了组合物1。另外,用MEK调整为组合物1的最终的固体成分成为表2中所记载的固体成分浓度(记载于“溶剂”栏内)。
接着,使用敷抹器在聚酯薄膜(NP-100A PANAC Co.,Ltd.制造,膜厚100μm)的脱模面上以使膜厚成为约600μm的方式涂布组合物1,并在空气下放置1小时,由此得到了涂膜1。
接着,用另一聚酯薄膜覆盖涂膜1的涂膜面,通过在真空热压(热板温度130℃、真空度≤1kPa、压力12MPa、处理时间5小时)进行处理而将涂膜固化,从而得到了树脂薄片。剥离位于树脂薄片的两面的聚酯薄膜,得到了表1所示的平均膜厚(在实施例1中,平均膜厚为350μm)的导热性薄片1。
(评价)
对所得到的导热性薄片1实施了下述评价。
[1]分散性评价
分散性评价使用导热性薄片1来实施。具体而言,在任意5处的位置上测定导热性薄片1的膜厚,对其测定偏差求出标准偏差,并按照下述基准进行了评价。当标准偏差小时(换言之,当膜厚的偏差小时),表示表面修饰无机氮化物良好地分散。另一方面,当标准偏差大时(换言之,当膜厚的偏差大时),表示在固化物中发生凝聚等而产生了表面凹凸,即表示表面修饰无机氮化物的分散性差。
膜厚测定使用ai-Phase Co.,Ltd.制造的“ai-Phase Mobile 1u”来实施。
(评价基准)
“A”:标准偏差小于5
“B”:标准偏差为5以上且小于10
“C”:标准偏差为10以上且小于30
“D”:标准偏差为30以上
将结果示于表2。
[2]导热性评价
导热性评价使用导热性薄片1来实施。导热率的测定利用下述方法来进行,并按照下述基准评价了导热性。
·导热率(W/mk)的测定
(1)使用ai-Phase Co.,Ltd.制造的“ai-Phase Mobile 1u”测定了导热性薄片1的厚度方向的热扩散率。
(2)使用Mettler Toledo International Inc.制造的天平“XS204”(使用“固体比重测定套件”)测定了导热性薄片1的比重。
(3)使用Seiko Instruments Inc.制造的“DSC320/6200”,在10℃/分钟的升温条件下,使用DSC7的软件求出了25℃下的导热性薄片1的比热。
(4)通过所得到的热扩散系数乘以比重及比热来计算出导热性薄片1的导热率。
(评价基准)
“AAA”:15W/m·K以上
“AA”:13W/m·K以上且小于15W/m·K
“A”:12W/m·K以上且小于13W/m·K
“B”:11W/m·K以上且小于12W/m·K
“C”:9W/m·K以上且小于11W/m·K
“D”:小于9W/m·K
将结果示于表2。
<实施例2~57、比较例1~4>
通过与实施例1相同的步骤得到了下述表2所示的实施例及比较例的各组合物。另外,用MEK调整为组合物的最终的固体成分成为表2中所记载的固体成分浓度(记载于“溶剂”栏内)。
并且,由所得到的各组合物制作导热性薄片2~57、比较用导热性薄片1~4,并实施了与实施例1相同的评价试验。将结果示于表2。
在表2中,各成分栏中所记载的(数值)是指各成分相对于组合物中的总固体成分的含量(质量%)。
并且,表2中所记载的“膜厚(μm)”是指导热性薄片的平均膜厚。
另外,表面修饰剂C-40具有包含丙烯酸基作为取代基的有机基团。表面修饰剂C-40中的丙烯酸基不包括在特定官能团组A中。
并且,在表2中,在实施例57中使用的固化促进剂A为三苯基膦。
如上述表所示,确认到若使用本发明的表面修饰无机氮化物,则导热率更优异。这种导热率的提高是因为在样品中的表面修饰无机氮化物的分散性得到提高。即,确认到表面修饰无机氮化物与有机物的亲和性得到了提高。
并且,根据实施例39与实施例50的对比确认到,当使用氮化硼作为无机氮化物时,导热性更优异。
并且,根据实施例1~57的对比确认到,当通式(I)中n为4以上(优选n为5以上)时,导热性进一步得到提高。
并且,根据实施例39~48的对比确认到,当通式(I)中R1及R2均为包含选自上述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团时(优选当R1为包含选自上述特定官能团组B中的特定官能团的有机基团,且R1及R2中的另一者表示包含选自上述特定官能团组C中的特定官能团的有机基团时),导热性进一步得到提高。
并且,根据实施例40及实施例53~56的对比确认到,当聚合性单体具有选自包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基及乙烯基的组中的基团时,导热性进一步得到提高。
Claims (15)
1.一种表面修饰无机氮化物,其包含无机氮化物和吸附于所述无机氮化物表面上的下述通式(1)所表示的化合物,
[化学式1]
通式(1)中,n表示3以上的整数;X表示芳香族烃环基或芳香族杂环基;Y表示单键、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-S-、-CS-、-NRA-、-N=N-或2价不饱和烃基;RA表示氢原子或烷基;R1及R2均表示包含选自下述特定官能团组A中的特定官能团的有机基团;
另外,通式(1)中,多个X各自可以相同也可以不同;并且,多个Y各自可以相同也可以不同;
特定官能团组A:
醛基、异氰酸酯基、异硫氰酸酯基、氰酸酯基、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基、羧酰氯基、鎓基、碳酸酯基、卤代芳基、碳二亚胺基、酸酐基、酯基、羰基、羧酸基、膦酸基、次膦酸基、磷酸基、磷酸酯基、磺酸基、卤代烷基、卤原子、腈基、硝基、酰亚胺酯基、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、乙烯基、炔基、马来酰亚胺基、硫醇基、羟基及氨基。
2.根据权利要求1所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述X为芳香族烃环基。
3.根据权利要求2所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述芳香族烃环基为苯环基。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述n为4以上的整数。
5.根据权利要求1所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述R1及所述R2中的一者为包含选自下述特定官能团组B中的特定官能团的有机基团,所述R1及所述R2中的另一者表示包含选自下述特定官能团组C中的特定官能团的有机基团,
特定官能团组B:
醛基、异氰酸酯基、异硫氰酸酯基、氰酸酯基、酰基叠氮基、琥珀酰亚胺基、磺酰氯基、羧酰氯基、鎓基、碳酸酯基、卤代芳基、碳二亚胺基、酯基、羰基、膦酸基、次膦酸基、磷酸基、磷酸酯基、磺酸基、卤代烷基、卤原子、腈基、硝基、酰亚胺酯基、烷氧基甲硅烷基、氧杂环丁基、炔基及马来酰亚胺基;
特定官能团组C:
羟基、酸酐基、羧酸基、乙烯基、硫醇基及氨基。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述无机氮化物为选自包括氮化硼及氮化铝的组中的至少1种。
7.根据权利要求6所述的表面修饰无机氮化物,其中,
所述无机氮化物为氮化硼。
8.一种组合物,其包含权利要求1至7中任一项所述的表面修饰无机氮化物和聚合性单体。
9.根据权利要求8所述的组合物,其中,
所述聚合性单体具有选自包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基及乙烯基的组中的基团。
10.根据权利要求8或9所述的组合物,其中,
所述聚合性单体或其固化物显示出液晶性。
11.根据权利要求8或9所述的组合物,其用于形成导热材料。
12.一种导热材料,其包含权利要求1至7中任一项所述的表面修饰无机氮化物。
13.根据权利要求12所述的导热材料,其为薄片状。
14.根据权利要求12或13所述的导热材料,其用于散热片。
15.一种带导热层的器件,其具有:器件和配置于所述器件上且包含权利要求12至14中任一项所述的导热材料的导热层。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-138396 | 2017-07-14 | ||
JP2017138396 | 2017-07-14 | ||
PCT/JP2018/026492 WO2019013325A1 (ja) | 2017-07-14 | 2018-07-13 | 表面修飾無機窒化物、組成物、熱伝導材料、熱伝導層付きデバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110799453A CN110799453A (zh) | 2020-02-14 |
CN110799453B true CN110799453B (zh) | 2022-12-27 |
Family
ID=65001766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880042230.0A Active CN110799453B (zh) | 2017-07-14 | 2018-07-13 | 表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11945718B2 (zh) |
EP (1) | EP3653575A4 (zh) |
JP (1) | JP6876799B2 (zh) |
KR (1) | KR102338611B1 (zh) |
CN (1) | CN110799453B (zh) |
WO (1) | WO2019013325A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114144470B (zh) * | 2019-07-17 | 2024-08-09 | 富士胶片株式会社 | 导热材料形成用组合物、导热材料及表面修饰无机物 |
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JP7582041B2 (ja) | 2021-04-20 | 2024-11-13 | Jnc株式会社 | エポキシ組成物、電子部品用組成物、電子部品用材料 |
WO2023287602A1 (en) | 2021-07-15 | 2023-01-19 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Steam cracking with supplemental electrical heating |
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-
2018
- 2018-07-13 CN CN201880042230.0A patent/CN110799453B/zh active Active
- 2018-07-13 KR KR1020197038523A patent/KR102338611B1/ko active Active
- 2018-07-13 WO PCT/JP2018/026492 patent/WO2019013325A1/ja unknown
- 2018-07-13 JP JP2019529802A patent/JP6876799B2/ja active Active
- 2018-07-13 EP EP18832381.0A patent/EP3653575A4/en active Pending
-
2020
- 2020-01-10 US US16/739,590 patent/US11945718B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
US20200148538A1 (en) | 2020-05-14 |
EP3653575A1 (en) | 2020-05-20 |
KR102338611B1 (ko) | 2021-12-13 |
CN110799453A (zh) | 2020-02-14 |
WO2019013325A1 (ja) | 2019-01-17 |
JP6876799B2 (ja) | 2021-05-26 |
KR20200014828A (ko) | 2020-02-11 |
EP3653575A4 (en) | 2020-07-15 |
US11945718B2 (en) | 2024-04-02 |
JPWO2019013325A1 (ja) | 2020-04-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |