CN110767826B - 显示面板和显示终端 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示面板和显示终端，该显示面板包括基板、位于第一显示区的第一发光结构、位于第二显示区的第二发光结构，第一发光结构包括第一支撑柱，第二发光结构包括第二支撑柱，其中，以所述基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。即第一支撑柱高度与第二支撑柱高度相当，将掩膜板放置在第一支撑柱与第二支撑柱，掩膜板不易发生倾斜，减少掩膜板的损伤。进一步地，由于掩膜板放置在高度相近的第一支撑柱与第二支撑柱上，降低了蒸镀时的混色异常发生的概率。

Description

显示面板和显示终端

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板和显示终端。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等，但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

发明内容

基于此，为了解决传统技术中存在的用于蒸镀像素的掩膜板易被损伤的技术问题，本申请提供一种显示面板和显示终端。

一种显示面板，包括：基板，设有相邻的第一显示区和第二显示区，所述第一显示区和所述第二显示区均用于显示动态或者静态画面，且所述第一显示区下方可设置感光器件；设于所述第一显示区的第一发光结构，所述第一发光结构包括第一像素限定层以及位于所述第一像素限定层上的第一支撑柱；设于所述第二显示区的第二发光结构，所述第二发光结构包括第二像素限定层以及位于所述第二像素限定层上的第二支撑柱；其中，以所述基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。

在其中一个实施例中，所述第一显示区设有第一显示面板，所述第二显示区设有第二显示面板，所述第一显示面板为PMOLED显示面板，或所述第一显示面板为AMOLED显示面板或类AMOLED显示面板，所述类AMOLED显示面板的像素电路仅包含一个开关元件；所述第二显示面板为PMOLED显示面板或AMOLED显示面板。

在其中一个实施例中，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于0.5微米。

在其中一个实施例中，所述第一支撑柱高度等于所述第一支撑柱高度。

在其中一个实施例中，所述基板还包括设置于所述第二显示区的像素电路；

所述第一支撑柱高度不大于所述第一支撑柱高度。

在其中一个实施例中，沿垂直于所述基板的方向，所述第一像素限定层与所述第一支撑柱的截面形状均为倒梯形，所述第二像素限定层与所述第二支撑柱的截面形状为均正梯形；优选地，所述第一像素限定层与所述第一支撑柱的材质为透光材料。

在其中一个实施例中，所述第一显示区为透明显示区；所述显示面板还包括设置于所述第一显示区与所述第二显示区交界处的隔离柱，所述隔离柱用于将所述第一显示区对应的第二电极层和所述第二显示区对应的第二电极层绝缘。

在其中一个实施例中，所述第一支撑柱与所述隔离柱在同一工艺步骤中形成；所述第一发光结构的发光层与所述第二发光结构的发光层在同一蒸镀步骤中形成。

一种显示终端，包括：设备本体，具有器件区；如上述任一实施例所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。优选地，所述器件区为开槽区；以及所述感光器件包括摄像头和/或光线感应器。

上述显示面板和显示终端，该显示面板包括基板、位于第一显示区的第一发光结构、位于第二显示区的第二发光结构，第一发光结构包括第一支撑柱，第二发光结构包括第二支撑柱。以所述基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。将掩膜板放置在第一支撑柱与第二支撑柱，掩膜板不易发生倾斜，减少掩膜板的损伤。进一步地，由于掩膜板放置在高度相近的第一支撑柱与第二支撑柱上，降低了蒸镀时的混色异常发生的概率。

附图说明

图1为显示面板的纵向剖面示意图；

图2a至图2c为一实施例中的显示面板的部分截面图；

图2d为一实施例中的类AMOLED显示面板的的部分截面图；

图2e为一实施例中的类AMOLED显示面板的像素电路的电路原理图；

图2f为一实施例中的AMOLED显示面板的的部分截面图；

图3为一实施例中的显示面板的部分截面图；

图4为一实施例中的显示面板的部分截面图；

图5为一实施例中的显示终端的结构示意图；

图6为一实施例中的设备本体的结构示意图。

具体实施方式

正如背景技术中，传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的刘海屏，或者采用在屏幕上开孔的方式，对于实现摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

针对上述问题，技术人员研发了一种显示屏，其通过在开槽区域设置透明显示面板的方式来实现电子设备的全面屏显示。该显示面板设有相邻的第一显示区和第二显示区；所述第一显示区和所述第二显示区均用于显示动态或者静态画面。且所述第一显示区下方可设置感光器件，从而实现真正意义上全面屏。

利用透明显示面板实现全面屏显示的显示面板包括透明显示区和非透明显示区，且透明显示区的阴极是需要相互绝缘的。经过研究，发明人发现，为了隔断阴极之间的连接，透明显示区对应的阴极位置处会增加一道隔离柱的工艺，该隔离柱为倒梯形，利用倒梯形的向内延伸的侧边隔断阴极。这样可以通过采用通用掩膜板(Common mask)即可提高透明显示区的分辨率，并降低制备阴极所用的掩膜板的制作精度。但是，透明显示区的隔离柱的厚度范围是1.5微米至3.5微米，非透明区域对应的支撑柱与该隔离柱不在同一水平面上且两者之间存在的高度差过大。因此，在使用精密掩膜板(Fine mask)进行像素蒸镀时，精密掩膜板放置在高度差较大的支撑柱及隔离柱上，导致所用的精密掩膜板长期倾斜，增大了对掩膜板的损伤。

所以，在生产包括透明显示屏的全面屏的过程中，为了降低用于蒸镀像素的掩膜板的损伤几率，本申请的实施例中提出了一种显示面板和显示终端，该显示面板包括基板，设有相邻的第一显示区和第二显示区；设于所述第一显示区的第一发光结构，所述第一发光结构包括第一像素限定层以及位于所述第一像素限定层上的第一支撑柱；设于所述第二显示区的第二发光结构，所述第二发光结构包括第二像素限定层以及位于所述第二像素限定层上的第二支撑柱；其中，以所述基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。即第一支撑柱高度与第二支撑柱高度相当，将掩膜板放置在第一支撑柱与第二支撑柱，掩膜板不易发生倾斜，减少掩膜板的损伤。进一步地，由于掩膜板放置在高度相近的第一支撑柱与第二支撑柱上，降低了蒸镀时的混色异常发生的概率。

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

首先，结合图1简单说明显示面板的基本结构，该显示面板包括衬底基板110、驱动层120、平坦化层130、第一电极140、有机发光层150、第二电极160以及像素限定层170。驱动层120包括TFT(薄膜晶体管)。有机发光层150包括第一子像素181、第二子像素182和第三子像素183。第一电极140通过设于平坦化层130上的通孔与引线导电层电连接。像素限定层170上与有机发光层150对应的位置设有开口。当第一电极140被驱动层120驱动获得正电压时，有机发光层150位于第一电极140和第二电极160之间，有机发光层150因激发产生可见光。根据电压的大小，光有不同的亮度。根据材料不同，例如第一子像素181可为红色子像素、第二子像素182可为蓝色子像素和第三子像素133的材料可为绿色子像素，发光层发射红色光、绿色光或蓝色光。

在一个实施例中，本申请提供一种显示面板，请参见图2a，该显示面板包括基板210，设有相邻的第一显示区220和第二显示区230，所述第一显示区220和所述第二显示区230均用于显示动态或者静态画面，且所述第一显示区220下方可设置感光器件。第一显示区设220置有第一发光结构240，第一发光结构240包括第一像素限定层241以及位于第一像素限定层241上的第一支撑柱242。第二显示区230设置有第二发光结构250，第二发光结构250包括第二像素限定层251以及位于第二像素限定层251上的第二支撑柱252。其中，以基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，第一支撑柱242的高度与第二支撑柱252的高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。

具体地，基板具有相对的两个表面，将基板朝向地面的表面定义为基板的外表面，将用于形成第一发光结构和第二发光结构的表面定义为基板的内表面。本实施例中，以基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，第一支撑柱242的高度指的是第一支撑柱242的顶端与基板的外表面之间的距离，第二支撑柱252的高度指的是第二支撑柱252的顶端与基板的外表面之间的距离。

示例性地，请参见图2b，第一支撑柱242的高度大于第二支撑柱252的高度，且两者的高度差不大于1.5微米。

示例性地，请参见图2c，第一支撑柱242的高度小于第二支撑柱252的高度，且两者的高度差不大于1.5微米。

其中，第一显示区220的下方可设置感光器件。第一显示区220和第二显示区230均用于显示静态或者动态画面。由于第一显示区220为透明显示区域，因此当光线经过该显示区域时，能够确保位于该第一显示区220下方的感光器件能够正常工作。可以理解，第一显示区220在感光器件不工作时，可以正常进行动态或者静态画面显示，而在感光器件工作时，可以处于不显示状态，从而确保感光器件能够透过第一显示区220的发光结构正常进行光线采集。在其他的实施例中，第一显示区220和第二显示区230的透光率也可以相同，从而使得整个显示面板具有较好的透光均一性，确保显示面板具有较好的显示效果。

进一步地，第一发光结构240的各结构膜层材料的透光率大于90％，第一发光结构240的透光率大于70％。第一发光结构240可以为透明或者半透半反式的发光结构。第一发光结构240的透明可以通过采用透光率较好的各层材料来实现。例如，各结构膜层均采用透光率大于90％的材料，从而使得整个显示面板的透光率可以在70％以上。进一步的，各结构膜层均采用透光率大于95％的材料，进一步提高显示面板的透光率，甚至使得整个显示面板的透光率在80％以上。具体地，可以将信号走线设置为ITO、IZO、Ag+ITO或者Ag+IZO等，绝缘层材料优选SiO₂，SiN_x以及Al₂O₃等，像素定义层则采用高透明材料。可以理解，第一发光结构240的透明还可以采用其他技术手段实现。透明或者半透半反式的第一发光结构240处于工作状态时能够正常显示画面，而当该第一发光结构240处于其他功能需求状态时，外部光线可以透过该第一发光结构240照射到置于第一显示区的感光器件等。

本实施例中，为了避免在蒸镀像素时所用的掩膜板长期倾斜，第一支撑柱与第二支撑柱之间的高度差不大于1.5微米，不仅减少掩膜板的损伤并延长了掩膜板的使用寿命，而且降低了生产过程中的工艺难度。另外，当掩膜板倾斜度较大时，在蒸镀像素时容易发生混色现象。本实施例中，由于掩膜板放置在高度相近的第一支撑柱与第二支撑柱上，降低了蒸镀时的混色异常发生的概率。

在一个实施例中，所述第一显示区设有第一显示面板，所述第二显示区设有第二显示面板，所述第一显示面板为PMOLED显示面板，或所述第一显示面板为AMOLED显示面板或类AMOLED显示面板，所述类AMOLED显示面板的像素电路仅包含一个开关元件；所述第二显示面板为PMOLED显示面板或AMOLED显示面板。

其中，当第一显示面板为PMOLED显示面板，第二显示面板为AMOLED显示面板时，从而形成由PMOLED显示面板和AMOLED显示面板构成的全面屏。当第一显示面板为类AMOLED显示面板，第二发光结构250为AMOLED显示面板时，从而形成由类AMOLED显示面板和AMOLED显示面板构成的全面屏。

示例性的，请参见图2d,当第一显示面板为类AMOLED显示面板时，该类AMOLED显示面板包括设置于基板上的像素电路202(也即TFT阵列)。像素电路202上设置有第一电极层。第一电极层包括多个第一电极203。第一电极203与像素电路202一一对应。此处的第一电极203为阳极。类AMOLED显示面板还包括像素定义层204，设置于第一电极203上。像素定义层204上具有多个开口，开口内设置有有机发光层205，以形成多个子像素，子像素与第一电极203一一对应。有机发光层205的上方设置有第二电极206，第二电极206为阴极，该阴极为面电极，也就是由整面的电极材料形成的整面电极。像素电路202中设置有扫描线、数据线和TFT开关元件。扫描线和数据线均与TFT开关元件连接。扫描线控制TFT开关元件的开启和关闭，数据线在像素开启时，为第一电极203提供驱动电流，以控制子像素发光。

请参见图2e，与传统的AMOLED显示面板的像素电路不同，像素电路202仅包括开关器件，而不包括存储电容等元件，从而形成无电容结构。在本实施例中，像素电路202包括一个开关器件。开关器件与第一电极203一一对应设置，即一个子像素对应一个开关器件。开关器件包括第一端2a、第二端2b和控制端2c，详见后续具体介绍。扫描线与开关器件的控制端2c连接，数据线连接开关器件的第一端2a，第一电极203连接开关器件的第二端2b。上述像素电路202中，通过数据线连接开关元件的第一端2a，扫描线连接开关元件的控制端2c，能够将像素电路202中的开关元件减少至一个，大大降低扫描线的负载电流以及数据线的负载电流。

上述类AMOLED显示面板中扫描线控制像素电路202的开启和关闭，仅需提供像素电路202中的开关元件所需的开关电压，不需要输入发光结构(OLED)的电流，大大降低扫描线的负载电流，使得扫描线可以采用ITO等透明材料制作。并且，数据线在像素电路202开启时，为阳极提供驱动电流，控制子像素发光，数据线在每一时刻只需供应一个子像素的驱动电流，数据线的负载也很小。因此，数据线也可以采用ITO等透明材料，从而提高了显示屏的透光率。多个子像素共用面电极(阴极)，每一时刻一行子像素的电流由整面阴极提供，对阴极的导电性要求大幅度降低，可以采用高透明电极，提高了透明度，提高了屏幕整体的一致性，并且不需要负性光刻胶分开阴极。

示例性的，请参见图2f，AMOLED显示面板包括形成在基板210上的第一电极140、形成在第一电极140上的第二像素限定层251、形成在第二像素限定层251的第二支撑柱252、及形成在第二像素限定层251、第二支撑柱252及有机发光层150上的第二电极160。第二像素限定层251用于隔离各个发光单元。基板210包括薄膜晶体管，薄膜晶体管通常包括缓冲层211，形成在缓冲层211上的半导体层212，半导体层包括源区212a、漏区212b和位于源区212a与漏区212b之间的沟道区212c。薄膜晶体管还包括位于半导体层212上的栅极绝缘层213以及位于栅极绝缘层213上的栅极214。栅极214上包括层间绝缘层215，源极216和漏极217位于层间绝缘层215上，并通过接触孔电连接至源区212a和漏区212b。源极216和漏极217上覆盖有平坦化层130。可以理解是，层间绝缘层215与平坦化层130之间还设置有钝化层，钝化层的设置是本领域所公知，在此不再赘述。

在一个实施例中，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于0.5微米。示例性地，第一支撑柱高度大于第二支撑柱高度，且两者的高度差不大于0.5微米。示例性地，第一支撑柱高度小于第二支撑柱高度，且两者的高度差不大于0.5微米。进一步地，一支撑柱高度等于第二支撑柱高度。

本实施例中，为了避免在蒸镀像素时所用的掩膜板长期倾斜，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于0.5微米，从而减少掩膜板的损伤并延长了掩膜板的使用寿命。

在一个实施例中，请参见图3，第一发光结构240还包括层叠设置在基板210上第一显示区220的第一电极层310、有机发光层320、第二电极层330。第一发光结构240的有机发光层320包括多个第一发光单元321、以及设置在相邻第一发光单元321之间的第一像素限定层241。请继续参见图3，第二发光结构250包括层叠设置在基板210上第二显示区230的第一电极层340、有机发光层350、第二电极层360。第二发光结构250的有机发光层350包括多个第二发光单元351、以及设置在相邻第二发光单元351之间的第二像素限定层251。

其中，第一发光单元321或者第二发光单元351还包括包括注入第一载流子的第一层组、形成在第一层组上的发光层及形成在发光层上注入第二载流子的第二层组。其中，第一层组可以包括第一载流子注入层，还可以包括第一载流子传输层，也可以包括第二载流子阻挡层。可以理解的是，当第一载流子是空穴，则第二载流子是电子；当第一载流子是电子，则第二载流子是空穴。发光层指的是在驱动显示面板时电子与空穴复合形成激子从而产生光发射。第二层组可以包括第二载流子注入层，还可以包括第二载流子传输层，也可以包括第一载流子阻挡层。这是本领域的技术人员公知的，这里不再赘述。

请继续参见图3，在第一显示区220，第一电极层140形成在第一显示区220的基板210上。第二电极层330覆盖第一支撑柱层242和第一发光单元321。显示面板的第一显示区可以为透明或者半透半反式的显示面板。显示面板的透明可以通过采用透光率较好的各层材料来实现。例如，各层均采用透光率大于90％的材料，从而使得整个显示面板的透光率可以在70％以上。进一步的，各结构膜层均采用透光率大于95％的材料，进一步提高显示面板的透光率，甚至使得整个显示面板的透光率在80％以上。具体地，可以将导电走线如阴极和阳极等设置为ITO、IZO、Ag+ITO或者Ag+IZO等，绝缘层材料优选SiO2、SiNx等。可以理解，显示面板的第一显示区的透明还可以采用其他技术手段实现，上述显示面板的结构均可以适用。透明或者半透半反式的第一显示区处于工作状态时能够正常显示画面，而当显示面板的第一显示区处于其他功能需求状态时，外部光线可以透过该显示面板照射到置于该显示面板之下的感光器件等。

请继续参见图3，在第二显示区230，第一电极层340形成在第二显示区230的基板210上。根据显示面板的出光类型，比如顶发光类型或底发光类型，第一电极层340可以用做透明电极或反射电极。当第一电极层340用作透明电极时，第一电极层340可以利用可具有相对大的功函数的透明导电材料形成，材料例如氧化铟锡(ITO)、氧化锌锡(ZTO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnOx)、氧化锡(SnOx)、氧化镓铟锌(GIZO)、掺有铝的氧化锌(AZO)等。这些可以单独使用或者以其的组合形式使用。当第一电极层340用作反射电极时，则第一电极层340可以利用金属，例如银(Ag)、铝(Al)、铂(Pt)、金(Au)、铬(Cr)、钨(W)、钼(Mo)、钛(Ti)、钯(Pd)等形成，或者利用这些金属的合金形成。

请继续参见图3，第二电极层360覆盖第二支撑柱层252、第二像素限定层251和第二发光单元351。第二电极层360可以根据显示面板的类型用做透明电极或反射电极。当显示面板是顶发光类型时，第二电极层360是透明电极。当显示面板是底发光类型时，第二电极层360是反射电极。第二电极层360的材料与第一电极层340的材料是类似的，在此不再赘述。

在一个实施例中，当第二显示区采用AMOLED时，基板还包括设置于第二显示区的像素电路。为了避免蒸镀时的混色风险，第一支撑柱高度不大于第一支撑柱高度。

在一个实施例中，沿垂直于基板的方向，第一像素限定层与第一支撑柱的截面形状均为倒梯形，第二像素限定层与第二支撑柱的截面形状均为正梯形。

可以通过倒梯形的侧边向内延伸，在形成第一显示区220的第二电极层330时，倒梯形的第一像素限定层241与第一支撑柱242可以隔断第二电极层330以形成各个第一发光单元321对应的第二电极。在第二显示区230中，第二显示区230中各个第二发光单元351对应的第二电极采用面电极即连续设置。通过正梯形的侧边平缓向外延伸，在形成第二显示区230的第二电极层360时，第二电极层360可以覆盖第二像素限定层251和第二支撑柱252的侧边，从而第二显示区230内各个第二发光单元351对应的第二电极是不会断裂的。

本实施例中，为了节省成本，第一显示区的第二电极层与第二显示区的第二电极层在同一工艺步骤中形成。第一显示区中各个第一发光单元对应的第二电极通过倒梯形的第一像素限定层与第一支撑柱而断开，第二显示区中各个第而发光单元对应的第二电极通过正梯形的第二像素限定层与第二支撑柱而连续。

在一个实施例中，在第一显示区内，第一支撑柱及第一像素限定层通过曝光方式图形化，为了提高工艺精度，第一支撑柱及第一像素限定层采用负性光感有机材料制成，且第一像素限定层与第一支撑柱的材质为透光材料。

在一个实施例中，请参见图4，第一显示区为透明显示区。第一显示区与第二显示区交界处的隔离柱410，用于将第一显示区220内的第二电极层330和第二显示区230内的第二电极层360断开。

示例性地，隔离柱410可以采用倒梯形，通过倒梯形的侧边向内延伸，倒梯形的隔离柱410可以隔断第一显示区220内的第二电极层330与第二显示区230内的第二电极层360，从而可以避免第一显示区与第二显示区分别对应的第二电极层短接，使得显示面板可以正常工作。

在一个实施例中，由于第一显示区采用倒梯形的第一像素限定层241和第一支撑柱242来隔断第二电极层330以形成各个第一发光单元321对应的第二电极，所以隔离柱410与第一支撑柱242在同一工艺步骤中形成，以降低生产成本。同样的为了节省成本，多个第一发光单元与多个第二发光单元在同一工艺步骤中形成。

本实施例中，通过构图工艺形成像素限定层的图形，首先在第一显示区形成第一像素限定层和隔离柱，其次形成第二显示区的第二像素限定层，接着，采用一次蒸镀工艺同时形成第一显示区的第一发光单元和第二显示区的第二发光单元。其中，第一显示区的第一像素限定层可以采用高透明材料。第二显示区的第二像素限定层可以为硅的氧化物(SiOx)、硅的氮化物(SiNx)、铪的氧化物、硅的氮氧化物(SiOxNy)、铝的氧化物(AlOx)等或由其中两种或三种组成的多层膜组成。发光单元的材料可以是无掺杂的荧光发光的有机材料制成，或采用由荧光掺杂剂与基质材料组成的掺杂荧光材料的有机材料制成，或采用由磷光掺杂剂与基质材料组成的掺杂磷光材料的有机材料制成。需要说明的是，为了节省工艺程序，第一显示区的第一像素限定层和第二显示区的第二像素限定层也可以在同一道工序中形成。

在一个实施例中，本申请还提供一种显示终端。该显示终端包括设备本体和前述任一实施例中的显示面板，设备本体具有器件区，显示面板覆盖在所述设备本体上。其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件。

图5为一实施例中的显示终端的结构示意图，该显示终端包括设备本体510和显示面板520。显示面板520设置在设备本体510上，且与该设备本体510相互连接。其中，显示面板520可以采用前述任一实施例中的显示面板，用以显示静态或者动态画面。

在一个实施例中，所述器件区为开槽区，以及所述感光器件包括摄像头和/或光线感应器。

图6为一实施例中的设备本体510的结构示意图。在本实施例中，设备本体510上可设有开槽区511和非开槽区512。在开槽区511中可设置有诸如摄像头以及光传感器等感光器件530。此时，第一显示区的显示面板对应于开槽区511贴合在一起，以使得上述的诸如摄像头及光传感器等感光器件530能够透过该第一显示区对外部光线进行采集等操作。由于第一显示区中的显示面板为透明的，显示终端上感光器件530可以拍摄图像。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

基板，设有相邻的第一显示区和第二显示区，所述第一显示区和所述第二显示区均用于显示动态或者静态画面，且所述第一显示区下方可设置感光器件；

设于所述第一显示区的第一发光结构，所述第一发光结构包括第一像素限定层以及位于所述第一像素限定层上的第一支撑柱；

设于所述第二显示区的第二发光结构，所述第二发光结构包括第二像素限定层以及位于所述第二像素限定层上的第二支撑柱；

其中，以所述基板的外表面所在的平面为高度的计量零点，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于1.5微米。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区设有第一显示面板，所述第二显示区设有第二显示面板，所述第一显示面板为PMOLED显示面板，或所述第一显示面板为AMOLED显示面板或类AMOLED显示面板，所述类AMOLED显示面板的像素电路仅包含一个开关元件；

所述第二显示面板为PMOLED显示面板或AMOLED显示面板。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑柱高度与所述第二支撑柱高度之间的差值的绝对值不大于0.5微米。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑柱高度等于所述第一支撑柱高度。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述基板还包括设置于所述第二显示区的像素电路；

所述第一支撑柱高度不大于所述第一支撑柱高度。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述基板的方向，所述第一像素限定层与所述第一支撑柱的截面形状均为倒梯形，所述第二像素限定层与所述第二支撑柱的截面形状为均正梯形。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素限定层与所述第一支撑柱的材质为透光材料。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区为透明显示区；

所述显示面板还包括设置于所述第一显示区与所述第二显示区交界处的隔离柱，所述隔离柱用于将所述第一显示区对应的第二电极层和所述第二显示区对应的第二电极层绝缘。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一支撑柱与所述隔离柱在同一工艺步骤中形成；

所述第一发光结构的发光层与所述第二发光结构的发光层在同一蒸镀步骤中形成。

10.一种显示终端，其特征在于，包括：

设备本体，具有器件区；

如权利要求1至9中任意一项所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；

其中，所述器件区位于所述第一显示区下方，且所述器件区中设置有透过所述第一显示区进行光线采集的感光器件；

所述器件区为开槽区；以及所述感光器件包括摄像头和/或光线感应器。

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