CN110395739A - 一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产方法，包括以下步骤：(1)将高温熔化后液态硅加入坩埚内，用电加热方式维持硅液的温度1450‑1550℃；(2)在雾化介质的氛围下，利用超声波气体雾化器在频率为80‑160kHz，气体雾化压力为8.3‑8.7Mpa的条件下，将液态硅雾化到纯水中，与纯水反应以生成非晶态球形二氧化硅料颗粒，并用纯水进行冷却；(3)对冷却釜内生成的二氧化硅料浆物料补水；冷却后的料浆压滤，经洗涤干燥后即得球形二氧化硅粉体。本发明还提供了利用上述方法制备球形硅微粉的装置。本发明利用高压氩气或高压氦气或高压水蒸气为雾化介质，并利用超声雾化使得雾化后的高温硅微滴与水充分快速反应，极大地提高产物的得率，所制备的球形硅微粉纯度高。
Description
技术领域
本发明涉及一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产方法及装置，属于非金属矿深加工技术领域。
背景技术
近年来，随着微电子技术的迅猛发展，人们对微电子元件的质量要求越来越高，使得硅微粉质量要求也越来越高。全球集成电路(IC)封装材料的97％采用环氧塑封料(EMC)，而在EMC的组成中，除主料酚醛环氧树脂外，硅微粉是用量最多的填料。硅微粉填料占环氧模塑料重量比达70％-90％。所以为了高质量的塑封料除了要求硅微粉超细、高纯度、低放射性元素外，还特别要求其颗粒球形化。这是因为：(1)球的表面流动性好，与树脂搅拌成膜均匀，使得树脂的添加量小，硅微粉的填充量达到最高，因此球形化意味着硅微粉填充率的增加，而硅微粉的填充率越高，其膨胀系数就越小，导热系数也越低，也就越接近单晶硅的热膨胀系数，由此产生的电子元器件的使用性能也越好；(2)与角形硅微粉制成的塑封料相比，球形塑封料盈利集中最小、强度最高，当角形粉的塑封料应力集中为1时，球形粉的应力仅为0.6，由此制成的微电子器件成品率高，便于运输、安装，并且在使用过程中不易产生机械损伤；(3)相比于角形硅微粉，球形粉摩擦系数小，对模具的磨损小，使得模具的使用寿命可提高一倍。(阮建军《球形硅微粉的研究进展》和李俊、蒋述兴《球形硅微粉》)
目前，我国所需要的高质量球形硅微粉部分还依赖进口，如何制备高纯、超细的球形硅微粉仍是国内粉体研究热点。现阶段球形硅微粉的制备方法主要包括物理法和化学法。
1、物理法
1.1、火焰成球法：火焰成球法首先对石英进行粉碎、筛分、提纯等前处理，然后将石英微粉送入燃气-氧气产生的高温场中，进行高温熔融、冷却成球，最终形成高纯度球形硅微粉。
具体可采用乙炔气、氢气、天然气等工业燃料气体作为熔融粉体的洁净无污染火焰为热源，此种方法涉及热力学、流体力学、颗粒流体力学等方面的理论。与等离子体高温火焰相比，不涉及电磁学理论及离子在电磁场中流动和运动的问题，生产易控制，易实现工业化大规模生产，是一种具有发展前途的生产工艺。
该方法的缺点在于：工业燃气--乙炔气和天然气在燃烧的过程中也会给产品质量带来一定的污染。氢气在使用过程中危险系数大。目前还未见该方法在工业上大规模、成熟的应用报道。
1.2、高温熔融喷射法：高温熔融喷射法是将高纯度石英在2100-2500℃下熔融为液体，经过喷雾、冷却，得到球形硅微粉。产品表面光滑，球形化率和非晶形率均可达到100％。据调研，美国的球形硅微粉主要采用此法生产的，由于涉及到高性能计算机技术，他们对外严密封锁。高温熔融喷射法易保证球化率和无定形率，但不易解决纯度和雾化粒径调整等问题。目前国内尚未见这方面研究和生产的报道。
1.3、自蔓延低温燃烧法：自蔓延低温燃烧法的工艺流程包括硅酸钠的制备、硅酸溶胶的制备、混合燃烧液的制备、燃烧反应、退火除碳、洗涤处理等步骤。
该技术方法具有的优点如下：
(1)可以以熔融硅微粉为原料，也可以推广至以天然粉石英为原料；(2)工艺简单，无特殊设备要求，操作方便，易于控制，生产成本低；(3)生产过程中使用的材料仅包含极易溶于水的钠离子和硝酸根离子，不会引入其他杂质离子，有利于高纯硅微粉的制备。
缺点在于：目前该方法只是停留在实验室阶段，还不能很好的大规模生产。
1.4、等离子体法：等离子体法的基本原理是利用等离子矩的高温区将二氧化硅(SiO2)粉体熔化，由于液体表面张力的作用形成球形液滴，在快速冷却过程中形成球形化颗粒。此法能量高、传热快、冷却块，所制备的产品形貌可控、纯度高、无团聚。
该方法的缺点：目前该方法只是停留在实验室阶段，还不能很好的大规模生产。
1.5、高温煅烧球形化：高温煅烧球形化一般用于制备高纯超细球形硅微粉，主要是将矿粉经过煅烧、球磨、磁选和风选等工艺的处理制备高纯超细球形微硅粉。
该方法的优点：高纯超细球形硅微粉不仅球化率高、白度好、含硅量高、含铁铝少，pH值呈中性偏酸性、流动分散性好，膨胀和导热系数小，导电率低，耐腐蚀，生产成本低。
该方法的缺点：该技术目前还处于实验阶段。
2、化学法
2.1、气相法：气相法SiO2(俗称气相法白炭黑)是由硅的卤化物在高温下水解制得的一种精细、特殊的无定形粉体材料。硅烷卤化物在氢氧燃烧火焰生成的水中发生高温水解反应，温度一般高达1200-1600℃，然后骤冷，再经过聚集、旋风分离、空气喷射脱酸、沸腾床筛选、真空压缩包装等后处理获得成品气相法生成的SiO2产品纯度高，平均原生粒径为7-40nm，比表面积为50-380m2/g，SiO2质量分数不小于99.8％。该方法的缺点在于有机物中难以分散且污染环境。
2.2、水热合成法：水热合成法是液相制备纳米粒子的一种常用方法，一般在100-350℃温度和高压环境下，使无机和有机化合物与水化合，通过对加速渗析反应和物理过程的控制，得到改进的无机物，再经过滤、洗涤、干燥，得到高纯、超细的微粒子。水热法的优点是可直接生成氧化物，避免了一般液相合成法需经过锻烧转化成氧化物这一步骤，从而降低了硬团聚的形成几率。
该法的缺点也很明显：受限于反应釜的大小，目前水热法制备SiO2还处在实验室阶段。
2.3、溶胶-凝胶法：溶胶-凝胶法是金属有机或无机化合物经过溶液、溶胶、凝胶而固化，再经热处理而形成的氧化物或其他化合物固体的方法。此法的优点是化学均匀性好、颗粒细、纯度高、设备简单，粉体活性高。缺点在于：原材料较贵，颗粒问烧结性差，干燥时收缩性大，易出现团聚问题。
2.4、沉淀法：沉淀法以水玻璃和酸化剂为原料，适时加入表面活性剂，控制反应温度，在沉淀溶液pH值为8时加稳定剂，所得沉淀经洗涤、干燥，煅烧后形成硅微粉。沉淀法生成的SiO2粒径均匀且成本低，工艺易控制，有利于工业化生产，但存在一定的团聚现象。
2.5、微乳液法：微乳液法是利用两种互不相溶的溶剂在表面活性剂的作用下形成均匀的乳液，使成核、生产、聚结、团聚等过程局限在一个微小的球形液滴内，从乳液中析出固相，形成球形颗粒，避免了颗粒间进一步团聚。利用微乳液法制备SiO2大多以正硅酸乙酯为硅源，通过正硅酸乙酯分子扩散，透过反胶束界面膜向水核内渗透，继而发生水解缩合反应，制得SiO2。此法制备的产品粒度分布窄、粒径可控、分散性好。该法的缺点：目前该方法只是停留在实验室阶段，还不能很好的大规模生产。
3、喷雾法：喷雾法是将溶液通过各种物理手段进行雾化获得超微粒子的一种化学与物理相结合的方法。它的基本过程是溶液的制备、喷雾、干燥、收集和热处理。此方法特点是颗粒分布比较均匀，但颗粒尺寸为亚微米到10μm，是一种合成粒径可控纳米粒子氧化物的新方法。该法的缺点：能耗高，干燥后的微粉团聚严重，使用很不方便。
通过对上述制备硅微粉各种方法的对比，我们可以大致得出：物理法制备的球形硅微粉所需的原材料较为廉价，但对原材料石英质量和生产设备等要求较高。其中火焰成球法目前是一种可实现规模化生产且有发展前景的工艺技术，但是其存在纯度和雾化粒径调整的问题。
化学法可制备出高纯且粒径均匀的球形SiO2，但由于需用大量的表面活性剂，因此存在生产成本高、有机杂质不易除净、容易团聚及难以工业化等缺点。本着经济的原则，如果能通过化学改性的方法.解决化学法的诸多问题，将对我国球形硅微粉的生产工业化及电子封装产业的快速发展有着深远的意义。
目前我国的大规模和超大规模基础电路用的塑封材料的高纯和超纯球形硅微粉均从美国、日本等国家进口，虽然国内也有生产高纯硅微粉的企业，但其产品的质量要求还是难以达到美国和日本等国家的产品质量要求，其受制于人的局面还没有得到根本性的改变，会时刻受到美国和日本等国家的贸易封锁危险。为此，研发出完全拥有自已知识产权的高技术含量的高纯和超纯球形硅微粉的先进制造工艺及装备，并进行国产化、工业化生产，是大力促进和发展高科技电子产业的有力保障。
查询中国专利文献，没有发现直接利用高纯液态硅超声波雾化法制备高纯超细硅微粉的产业化应用及工业化装置使用情况的报道。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供一种利用高纯液态硅超声波雾化法制备高纯超细球形硅微粉，本方法工艺技术先进、装置设计科学合理，通用性强，可根据需要选择不同纯度的液态硅以生产出不同纯度的球形硅微粉。
本发明利用氩气或氦气或高压水蒸气为雾化介质，借助超声波雾化器雾化高温液态硅，使其形成细小的球形硅微粒；利用高温液态硅与水反应生成非晶态二氧化硅的原理制备出非晶态的二氧化硅。具体如下：以高压氩气或氦气或高压水蒸气为雾化介质(气源)，将高纯液态硅利用超声波雾化器雾化到水冷却反应装置中，在雾化过程中粒径细小、温度高的高温液态硅微粒与水蒸气发生化学反应生成非晶态的球形二氧化硅，未发生完全反应的高温液态硅微粒与水接触后迅速发生化学反应生成非晶态的二氧化硅与氢气；其化学方程式是：Si+2H2O＝SiO2+2H2；然后把生成的二氧化硅料浆用压滤机压成饼状后，再进行高温干燥即可得到高纯超细非晶态的球形二氧化硅。
本发明提供的技术方案如下：
一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产方法，包括以下步骤：
(1)将高温熔化后液态硅加入坩埚内，用电加热方式维持硅液的温度1450-1550℃；
(2)在雾化介质的氛围下，利用超声波气体雾化器在频率为80-160kHz，气体雾化压力为8.3-8.7Mpa的条件下，将液态硅雾化到反应釜中与纯水反应生成非晶态球形二氧化硅料物料并用该纯水进行冷却物料；
(3)对反应釜内生成的二氧化硅料浆物料补水；冷却后的料浆压滤，经洗涤干燥后即得球形二氧化硅粉体。
具体的，所述步骤(1)中液态硅为高纯液态硅，纯度为4N以上。
具体的，所述步骤(2)中雾化介质为氩气、氦气、高压水蒸气。
具体的，所述步骤(3)中补水后二氧化硅料浆物料的浓度为10-30％。
具体的，所述步骤(3)中压滤设备为压滤机。
具体的，述步骤(3)中洗涤的溶剂为无水乙醇洗涤。
具体的，所述步骤(3)中干燥设备为高温真空干燥器或高温真空微波干燥。
本发明的另一目的在于提供利用上述方法制备球形硅微粉的生产装置，该装置包括控速下料器(1)、电加热保温装置(2)、超声波雾化器(3)、水冷却反应装置(4)、中转槽(5)、板框压滤机(7)、打浆机(8)、喷雾干燥机(10)、筛分装置(11)和风机(12)；
所述电加热保温装置(2)包括电加热坩埚(21)和电加热管(22)，两者从上到下依次连接；
所述电加热保温装置(2)、超声波雾化器(3)、水冷却反应装置(4)、中转槽(5)从上到下依次连接；中转槽(5)通过隔膜泵(6)连接到板框压滤机(7)，板框压滤机(7)再连接到打浆机(8)；打浆机(8)通过送料泵(9)连接到喷雾干燥机(10)上端雾化喷嘴进料口，喷雾干燥机(10)下端顺次连接筛分装置(11)和风机(12)；
水冷却反应装置(4)由纯水反应釜(41)和纯水罐(43)并联组成，两个纯水罐通过连通管(42)连接；纯水反应釜(41)为夹套反应釜，设置有冷却水进出口，其上端连接到超声波雾化器(3)，下端通过三通管道与纯水罐(43)下端出口并联后汇入总管后连接到中转槽(5)；纯水罐侧面设置有电磁控制液位计(46)，上端设置有纯水进口(44)和引风机或真空泵出口(45)，引风机或真空泵(45)还管道连接到纯水反应罐(41)；
喷雾干燥机(10)包括喷雾干燥室(101)、电加热器(102)、鼓风机(103)和空气过滤器(104)，喷雾干燥室(101)上端依次连接到电加热器(102)、鼓风机(103)和空气过滤器(104)；喷雾干燥室(101)顶部进口处设置有雾化喷嘴；
控速料斗(1)设置于电加热装置(2)上方。
具体的，所述超声波雾化器(3)包括腔室，腔室内设置有调频振荡器(32)和喷嘴，腔室侧面设置有高压气体进口(33)及冷却水进出水口；高压气体进气口(33)连接到调频振荡器(32)。
具体的，所述筛分装置由一二级旋风除尘器、布袋除尘器(113)和风机(12)依次连接组成。
本发明的有益效果：
(1)利用高纯或超纯液态硅采用超声雾化，其雾化的颗粒物完全为球形且粒径小；
(2)利用高压氩气或高压氦气或高压水蒸气为雾化介质，雾化后的高温硅微滴与水反应反应速度快且反应充分；
(3)工艺上比较简单，易于工业化生产，冷却后即可得到高纯或超纯球形二氧化硅微粉；
(4)微反应完全的高温硅微粒在进入冷却介质水中与水发生反应生成非晶态的二氧化硅和氢气；另一方面，水亦作为冷却剂；
(5)反应经过两步完成，能够极大的提高产物的得率；
(6)提供了一种高效、简单的超声波雾化生产硅微粉的新思路，具有较大的工业化使用价值和应用前景。
附图说明
图1为本发明生产装置的结构图；
图2为电加热装置和超声波雾化器的部分结构图；
附图标记：1-控速下料器，2-电加热保温装置，21-电加热坩埚，22-电加热管，3-超声波雾化器，31-冷却水出口，32-调频振荡器，33-高压气体进口，34-冷却水进口，4-水冷却反应装置，41-纯水反应釜，42-连通管，43-纯水罐，44-纯水进口，45-引风机或真空泵，46-电磁控制液位计，5中转槽，6-隔膜泵，7-板框压滤机，8打浆机，9-送料泵，10-喷雾干燥机，101-喷雾干燥室，102-电加热器，103-鼓风机，104-空气过滤器，11-筛分装置，111-一级旋风除尘器，112-二级旋风除尘器，113-布袋除尘器，12-风机。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进一步说明，本发明的内容完全不限于此。
图1、图2示出了本发明生产装置的结构图。本装置包括控速下料器1、电加热装置2、超声波雾化器3、水冷却反应装置4、板框压滤机7、打浆机8、喷雾干燥机10、筛分装置11和风机12；
所述电加热装置2包括电加热坩埚21和电加热管22，两者从上到下依次连接；
所述电加热装置2、超声波雾化器3、水冷却反应装置4、中转槽5从上到下依次连接；中转槽5通过隔膜泵6连接到板框压滤机7，板框压滤机7再连接到打浆机8；打浆机8通过送料泵9连接到喷雾干燥机10上端雾化喷嘴进口，喷雾干燥机10下端顺次连接筛分装置11和风机12；
水冷却反应装置4由纯水反应釜41和纯水罐43并联组成，两者通过连通管42连接；纯水反应罐41为夹套反应釜，设置有冷却水进出口，其上端连接到超声波雾化器3，下端通过三通管道与纯水罐43下端出口并联后汇入总管后连接到中转槽5；纯水罐43侧面设置有电磁控制液位计46，上端设置有纯水进口44和引风机或真空泵出口45，引风机或真空泵45还管道连接到纯水反应罐41；
喷雾干燥机10包括喷雾干燥室101、电加热器102、鼓风机103和空气过滤器104，喷雾干燥室101上端依次连接到电加热器102、鼓风机103和空气过滤器104；喷雾干燥室101顶部进口处设置有雾化喷嘴；
控速下料器1设置于电加热装置2上方。
超声波雾化器3包括腔室，腔室内设置有调频振荡器和喷嘴，腔室侧面设置有氧气进口33及冷却水进出水口；氧气进气口33连接到调频振荡器32。
筛分装置由一二级旋风除尘器、布袋除尘器113和引风机12依次连接组成。
本发明及其装置的工作原理：
把熔融的高纯硅液加入到带有电加热保温坩埚中，用电加热使其保温在1450-1550℃之间；然后从高压气体进口33通入压力为8.3-8.4Mpa的高压氦气或氩气或高压水蒸气。开启超声波雾化器，把超声波雾化器的调节谐振腔的脉冲频率控制在80-160KHz之间；开启控速下料器，使硅液在内径3-8mm的电加热管内慢慢流下，在此条件下把硅液通过超声波雾化器雾化到装有电子级纯水的纯水反应釜中，开启夹套冷却水给反应釜冷却。当雾化气体为氩气或氦气时，雾化过程中高温的高纯硅液微滴落入纯水中就立即与纯水发生反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，氢气立即被引风机或真空泵抽出反应釜，其化学反应式分别为：Si+2H2O＝SiO2+H2↑；当雾化气体为高压水蒸气时，雾化过程中高温的高纯硅液微滴与水蒸气接触时就立即与水蒸汽发生反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，氢气立即被引风机抽出；未反应完全的高温硅微滴落入纯水中与纯水发生化学反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，氢气立即被引风机或真空泵抽出。反应过程中生成的二氧化硅颗粒则慢慢的沉入到纯水反应罐底部，打开纯水反应罐底部出料阀门，使料浆流入中转槽内，然后用隔膜泵把中转槽内的二氧化硅料浆送入板框压滤机中压成滤饼后，再打浆用喷雾干燥或把滤饼用无水乙醇洗涤后用真空干燥即可得到高纯超细球形硅微粉产品。当反应釜开始放料时，液面会下降，通过纯水罐外侧的电磁控制液位计控制纯水自动流入到纯水反应罐内，一直到彼此的液面相平为止。
实施例1
以99.99％硅高温熔化的高温硅液为例制备硅微粉
1把纯度为99.99％高温的液态硅倒入预热电加热装置2中，使温度维持在1450-1550℃之间；
2打开高压气体进气口33的阀门通入8.3-8.4Mpa高压氩气；开启超声波雾化器和控速下料器1使硅液在内径3-5mm的管内慢慢流下，把超声波雾化器的调节谐振腔的脉冲频率控制在80-100KHz，在此条件下把硅液通过超声波雾化器雾化到纯水反应釜4中，给反应釜夹套通入冷却水冷却，开启引风机45，在雾化过程中高温的高纯硅液微滴落入纯水中立即与纯水发生反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，其化学反应式分别为：Si+2H2O＝SiO2+2H2↑；在此过程中水一是作为反应物参与反应过程，另一个是起到冷却和溶剂的作用；反应过程中产生的氢气迅速被引风机或真空泵45从纯水反应罐41和纯水罐43内抽出。
3开启水池底部的出料阀门，使生成的二氧化硅料浆流入到中转槽5内存放，同时给纯水池43内补加纯水，维持罐内的纯水不少于罐内容积的3/5。用隔膜泵6把中转槽内的二氧化硅料浆送入压滤机压成滤饼，然后打浆用喷雾机进行干燥，干燥后的粉体即是非晶质球形二氧化硅产品。球形度为100％；平均粒径25um；SiO2纯度≥99.99％。
实施例2
以99.995％硅高温熔化的高温硅液为例制备硅微粉
1把纯度为99.999％高温的液态硅倒入预热电加热装置2中，使温度维持在1450-1550℃之间；
2打开高压气体进气口33的阀门通入8.3-8.4Mpa高压氦气；开启超声波雾化器和控速料器1使硅液在内径3-5mm左右的管内慢慢流下，超声波雾化器的调节谐振腔的脉冲频率控制在100-120KHz，在此条件下把硅液通过超声波雾化器雾化到纯水反应釜4中，给反应釜夹套通入冷却水冷却，开启引风机或真空泵45，在雾化过程中高温的高纯硅液微滴落入纯水中立即与纯水发生反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，其化学反应式分别为：Si+2H2O＝SiO2+2H2↑；在此过程中水一是作为反应物参与反应过程，另一个是起到冷却和溶剂的作用；反应过程中产生的氢气迅速被引风机或真空泵45从纯水反应罐41和纯水罐43内抽出。
3开启水池底部的出料阀门，使生成的二氧化硅料浆流入到中转槽5内存放，同时给纯水池内补加纯水，维持罐内的纯水不少于罐内容积的3/5。用用隔膜泵6把中转槽内的二氧化硅料浆送入压滤机压成滤饼，然后把滤饼用纯水进行打浆，用喷雾干燥机进干燥，干燥后的粉体即是非晶质球形二氧化硅产品。球形度为100％；平均粒径22um；SiO2纯度≥99.995％。
实施例3
以99.999％硅高温熔化的高温硅液为例制备硅微粉
1把纯度为99.999％高温的液态硅倒入预热电加热装置2中，使温度维持在1450-1550℃之间；
2打开高压气体进气口33的阀门通入8.5-8.6Mpa高压水蒸气；开启超声波雾化器和控速料器1使硅液在内径3-5mm左右的管内慢慢流下，超声波雾化器的调节谐振腔的脉冲频率控制在120-140KHz，在此条件下把硅液通过超声波雾化器雾化到纯水反应釜4中，给反应釜4夹套通入冷却水冷却，开启引风机或真空泵45，在雾化过程中高温的高纯硅液微滴立即与高压水蒸气发生反应生成非晶质的球形二氧化硅；未反应或未反应完全的高温硅液滴落入纯水中与水反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，其化学反应式分别为：Si+2H2O＝SiO2+H2↑；在此过程中水一是作为反应物参与反应过程，另一个是起到冷却和溶剂的作用。反应过程中产生的氢气迅速被引风机或真空泵45从纯水反应罐41和纯水罐43内抽出。
3开启水池底部的出料阀门，使生成的二氧化硅的料浆流入到中转槽5内存放，同时给纯水池内补加纯水，保持罐内的纯水了不低于容积的3/5。用隔膜泵6把中转槽内的二氧化硅料浆送入压滤机压成滤饼，纯水在返回使用。滤饼再用纯水进行打浆，用喷雾干燥机进行干燥，干燥后的粉体即是球形二氧化硅产品。球形度为100％平均；粒径20um；SiO2纯度≥99.999％。
实施例4
以99.9999％高温高纯硅液为例制备球形硅微粉
1把纯度为99.9999％高温的液态硅倒入预热电加热装置2中，使温度维持在1450-1550℃之间；
2打开高压气体进气口33的阀门通入8.6-8.7Mpa高压水蒸气；开启超声波雾化器和控速料器1使硅液在内径5-8mm的管内慢慢流下，调节谐振腔的脉冲频率为140-160KHz，在此条件下通过雾化器雾化到纯水反应釜4中，给反应釜4夹套通入冷却水冷却，开启引风机或真空泵45，高温的高纯硅液微滴立即与水蒸汽发生氧化反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气，未反应或未反应完全的高温硅微滴再与纯水反应生成非晶质的球形二氧化硅和氢气；其化学反应式：Si+2H2O＝SiO2+H2↑；在此过程中水一是作为反应物参与反应过程，另一个是起到冷却和溶剂的作用。反应过程中产生的氢气迅速被引风机或真空泵45从纯水反应罐41和纯水罐43内抽出。
3开启水池底部的出料阀门，使生成的二氧化硅料浆流入到中转槽5内存放，同时给纯水池内补加纯水，维持罐内的纯水不少于罐内容积的3/5。用隔膜泵6把中转槽内的二氧化硅料浆送入压滤机压成滤饼，然后用无水乙醇洗涤三次后送入高温真空干燥器内干燥，干燥后的粉体即是非晶质球形二氧化硅产品。球形度为100％；平均粒径15um；SiO2纯度≥99.9999％。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明保护的范围并不局限于此---用此装置也可以通过调节减小超声波雾化的频率，从而得到粒径较粗的非晶态球形二氧化硅砂粉。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内所做的任何修改，等同替换和改进等，均应包含在发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将高温熔化后液态硅加入坩埚内，用电加热方式维持硅液的温度1450-1550℃；
(2)在雾化介质的氛围下，利用超声波气体雾化器在频率为80-160kHz，气体雾化压力为8.3-8.7Mpa的条件下，将液态硅雾化到反应釜中与纯水反应生成非晶态球形二氧化硅料物料并用纯水进行冷却；
(3)对反应釜内生成的二氧化硅料浆物料补水；冷却后的料浆压滤，经洗涤干燥后即得球形二氧化硅粉体。
2.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(1)中液态硅为高纯液态硅，纯度为4N以上。
3.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(2)中雾化介质为氩气、氦气、高压水蒸气。
4.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(3)中补水后二氧化硅料浆物料的浓度为10-30％。
5.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(3)中压滤设备为压滤机。
6.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(3)中洗涤的溶剂为无水乙醇洗涤。
7.根据权利要求1所述方法，其特征在于：所述步骤(3)中干燥设备为喷雾干燥机或高温真空干燥器或高温真空微波干燥器。
8.一种利用权利要求1所述方法的制备球形硅微粉的生产装置，其特征在于：
包括控速下料器(1)、电加热保温装置(2)、超声波雾化器(3)、水冷却反应装置(4)、中转槽(5)、隔膜泵(6)板框压滤机(7)、打浆机(8)、喷雾干燥机(10)、筛分装置(11)和风机(12)；
所述电加热保温装置(2)包括电加热坩埚(21)和电加热管(22)，两者从上到下依次连接；
所述电加热保温装置(2)、超声波雾化器(3)、水冷却反应装置(4)、中转槽(5)从上到下依次连接；中转槽(5)通过隔膜泵(6)连接到板框压滤机(7)，板框压滤机(7)再连接到打浆机(8)；打浆机(8)通过送料泵(9)连接到喷雾干燥机(10)上端雾化喷嘴进料口，喷雾干燥机(10)下端顺次连接筛分装置(11)和风机(12)；
水冷却反应装置(4)由纯水反应釜(41)和纯水罐(43)并联组成，两个纯水罐通过连通管(42)连接；纯水反应釜(41)为夹套反应釜，设置有冷却水进出口，其上端连接到超声波雾化器(3)，下端通过三通管道与纯水罐(43)下端出口并联后汇入总管后连接到中转槽(5)；纯水罐(43)侧面设置有电磁控制液位计(46)，上端设置有纯水进口(44)和引风机或真空泵出口(45)，引风机或真空泵(45)还管道连接到纯水反应罐(41)上端；
喷雾干燥机(10)包括喷雾干燥室(101)、电加热器(102)、鼓风机(103)和空气过滤器(104)，喷雾干燥室(101)上端依次连接到电加热器(102)、鼓风机(103)和空气过滤器(104)；喷雾干燥室(101)顶部进口处设置有雾化喷嘴；
控速下料器(1)设置于电加热装置(2)上方。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：
所述超声波雾化器(3)包括腔室，腔室内设置有调频振荡器(32)和喷嘴，腔室侧面设置有氧气进口(33)及冷却水进出水口；氧气进气口(33)连接到调频振荡器(32)。
10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述筛分装置由一二级旋风除尘器、布袋除尘器(113)和风机(12)依次连接组成。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111252779A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-06-09 | 汤姆逊新材料科技(嘉兴)有限公司 | 一种球形纳米二氧化硅的制备方法 |
| CN111686990A (zh) * | 2020-06-06 | 2020-09-22 | 深圳市捷安纳米复合材料有限公司 | 一种将纳米材料从液态转换成雾态的工艺及超声波设备 |
| CN114956912A (zh) * | 2020-11-27 | 2022-08-30 | 胡波 | 一次细吹颗粒肥工艺 |
| CN115156239A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-10-11 | 山东邦凯新材料有限公司 | 连续式危废硅胶回收处理制备高纯二氧化硅的装置及加工工艺 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2709082A1 (fr) * | 1993-08-20 | 1995-02-24 | Pechiney Electrometallurgie | Granulation d'alliages contenant du silicium dans l'eau et sous atmosphère inerte. |
| JP2006282505A (ja) * | 2006-06-16 | 2006-10-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | シリカ微粉末の製造方法及び装置 |
| CN103043665A (zh) * | 2013-01-24 | 2013-04-17 | 厦门大学 | 一种硅粉的制备方法 |
| CN107128935A (zh) * | 2017-05-23 | 2017-09-05 | 苏州纳迪微电子有限公司 | 一种高纯度球形二氧化硅微粉的制备方法 |
| CN108128781A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-08 | 宁波广新纳米材料有限公司 | 一种纳米二氧化硅粉的生产方法 |
| CN109665533A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-23 | 黄冈师范学院 | 一种电加热生产高纯超细球形硅微粉的装置和方法 |
| CN211078490U (zh) * | 2019-07-24 | 2020-07-24 | 黄冈师范学院 | 一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产装置 |
-
2019
- 2019-07-24 CN CN201910671307.7A patent/CN110395739B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2709082A1 (fr) * | 1993-08-20 | 1995-02-24 | Pechiney Electrometallurgie | Granulation d'alliages contenant du silicium dans l'eau et sous atmosphère inerte. |
| JP2006282505A (ja) * | 2006-06-16 | 2006-10-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | シリカ微粉末の製造方法及び装置 |
| CN103043665A (zh) * | 2013-01-24 | 2013-04-17 | 厦门大学 | 一种硅粉的制备方法 |
| CN107128935A (zh) * | 2017-05-23 | 2017-09-05 | 苏州纳迪微电子有限公司 | 一种高纯度球形二氧化硅微粉的制备方法 |
| CN108128781A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-08 | 宁波广新纳米材料有限公司 | 一种纳米二氧化硅粉的生产方法 |
| CN109665533A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-23 | 黄冈师范学院 | 一种电加热生产高纯超细球形硅微粉的装置和方法 |
| CN211078490U (zh) * | 2019-07-24 | 2020-07-24 | 黄冈师范学院 | 一种超声波雾化制备球形硅微粉的生产装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 潘红娜等: "《晶体硅太阳能电池制备技术》", 北京邮电大学出版社, pages: 7 - 8 * |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111252779A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-06-09 | 汤姆逊新材料科技(嘉兴)有限公司 | 一种球形纳米二氧化硅的制备方法 |
| CN111252779B (zh) * | 2020-04-08 | 2021-10-15 | 汤姆逊新材料科技(嘉兴)有限公司 | 一种球形纳米二氧化硅的制备方法 |
| CN111686990A (zh) * | 2020-06-06 | 2020-09-22 | 深圳市捷安纳米复合材料有限公司 | 一种将纳米材料从液态转换成雾态的工艺及超声波设备 |
| CN111686990B (zh) * | 2020-06-06 | 2022-04-22 | 深圳市捷安纳米复合材料有限公司 | 一种将纳米材料从液态转换成雾态的工艺及超声波设备 |
| CN114956912A (zh) * | 2020-11-27 | 2022-08-30 | 胡波 | 一次细吹颗粒肥工艺 |
| CN115156239A (zh) * | 2022-07-15 | 2022-10-11 | 山东邦凯新材料有限公司 | 连续式危废硅胶回收处理制备高纯二氧化硅的装置及加工工艺 |
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