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CN110277423B - 一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置 - Google Patents

一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置 Download PDF

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CN110277423B CN201910574620.9A CN201910574620A CN110277423B CN 110277423 B CN110277423 B CN 110277423B CN 201910574620 A CN201910574620 A CN 201910574620A CN 110277423 B CN110277423 B CN 110277423B
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Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置。显示面板的制作方法包括：在硬性基底层上形成位于透明区内且间隔排布的透明区垫高层，并形成图形化的柔性基底层，形成发光器件层和第一薄膜封装层(TFE1层)后，依次移除位于透明区中的TFE1层和柔性基底层，从而在暴露出透明区垫高层的一侧形成第一光学膜层，随后移除硬性基底层和透明区垫高层，并形成与第一光学膜层在透明区向贴合的第二光学膜层。本发明实施例解决了现有透明显示面板中普遍存在的透明区内光线的穿透率较差的问题，以及显示面板的良率和工艺受段差影响较大的问题。

Description

一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置
技术领域
本申请涉及但不限于显示技术和半导体工艺技术领域，尤指一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置。
背景技术
随着显示技术和柔性工艺的发展，透明显示和局部透明显示逐渐成为应用较为广泛的一种显示要求。
目前的透明显示面板中还存在一些问题如下：第一，由于仅有黄色聚酰亚胺(Polyimide，简称为：PI)胶可以承受较高温度，而透明PI胶往往只能承受250摄氏度(℃)左右温度，从而导致透明PI胶现阶段无法在柔性低温多晶硅技术(Low Temperature Poly-silicon，简称为：LTPS)工艺中进行应用，因而黄色PI胶对于透明显示而言是一个极大的障碍，对于光线穿透率的影响非常大；第二，在制作透明显示面板的工艺过程中，由于较厚的柔性基底为镂空结构，在后继背板(Back Plate，简称为：BP)的工艺中由于段差过大带来极大的困难，进而对良率及工艺均有较大影响；第三，由于显示面板透明区的设置中，一些膜层需要移除，然后再与另外一些膜层进行匹配，移除之后的膜层本身往往与其他膜层的匹配性较差，特别是折射率的匹配性会受到较大影响，从而进一步影响了光线的穿透率。
综上分析，现有透明显示面板中，由于使用黄色PI胶和移除膜层后折射率匹配性较差，而导致透明区内光线的穿透率较差；另外，由于发光区背板的段差过大，而对显示面板的产品良率和生产工艺具有较大的影响。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置，以解决现有透明显示面板中普遍存在的透明区内光线的穿透率较差的问题，以及显示面板的良率和工艺受段差影响较大的问题。
本发明实施例提供一种显示面板的制作方法，包括：
在硬性基底层上形成间隔排布的透明区垫高层，并在所述硬性基底层和所述透明区垫高层上形成柔性基底层，所述透明区垫高层位于所述显示面板的透明区；
在所述柔性基底层上依次形成发光器件层和第一薄膜封装层，所述发光器件层形成于所述显示面板的发光区；
依次移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层和所述柔性基底层，移除后暴露出所述透明区垫高层；
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层；
依次移除所述硬性基底层和所述透明区垫高层，并在所述柔性基底层远离所述第一光学膜层的一侧形成第二光学膜层，形成的所述第二光学膜层与所述第一光学膜层在所述透明区相贴合。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述依次移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层和所述柔性基底层，包括：
移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层；
以移除后的所述第一薄膜封装层的图形作为掩膜，移除位于所述透明区中的柔性基底层。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层，包括：
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层上形成第二薄膜封装层；
在所述第二薄膜封装层上形成光学膜层，所述光学膜层与所述第二薄膜封装层的折射率相匹配。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述第二薄膜封装层为喷墨打印IJP层或光学透明粘合剂OCA胶层。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层，包括：
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层上涂布光学胶并固化；
在所述固化后的光学胶上贴附保护膜，所述保护膜与所述光学胶的折射率相匹配。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述在所述柔性基底层上形成发光器件层，包括：
在所述柔性基底层上依次形成位于所述发光区的发光区背板层和发光层。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述柔性基底层中包括多个间隔设置的凹槽，所述凹槽的深度与所述透明区垫高层的高度相同，且所述凹槽的深度为所述柔性基底层的高度的60％到99％。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述第一薄膜封装层为单层或叠层的原子层沉积ALD层。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层的折射率相匹配。
可选地，如上所述的显示面板的制作方法中，所述透明区垫高层的形状包括以下一种或多种：圆形、矩形、菱形和多边形。
本发明实施例提供还一种显示面板，采用如上述任一项显示面板的制作方法制作出所述显示面板，所述显示面板包括：发光区和间隔排布于所述发光区之间的透明区；
所述发光区包括发光器件层和设置于所述发光器件层背光侧的柔性基底层，所述发光器件层远离所述柔性基底层的一侧设置有第一光学膜层，所述柔性基底层远离发光器件层的一侧设置有第二光学膜层；其中，所述第一光学膜层和所述第二光学膜层在所述透明区相贴合。
可选地，如上所述的显示面板中，所述发光器件层包括设置于所述柔性基底层远离所述硬性基底层一侧的发光区背板层，以及设置于所述发光区背板层远离所述柔性基底层一侧的发光层。
可选地，如上所述的显示面板中，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层的折射率相匹配。
可选地，如上所述的显示面板中，所述第一光学膜层包括折射率相匹配的第二薄膜封装层和光学膜层。
本发明实施例提供还一种显示装置，包括：如上述任一项所述显示面板。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法，以及显示面板和显示装置，其中，显示面板的制作方法包括：在硬性基底层上形成位于透明区内且间隔排布的透明区垫高层，并形成图形化的柔性基底层，形成发光器件层和TFE1层后，依次移除位于透明区中的TFE1层和柔性基底层，移除后暴露出透明区垫高层，从而在暴露出透明区垫高层的一侧形成第一光学膜层，随后移除硬性基底层和透明区垫高层，并形成与第一光学膜层在透明区向贴合的第二光学膜层。本发明实施例提供的显示面板的制作方，通过硬性基底层上形成的隔排布的透明区垫高层，可以形成图形化的、且在透明区减薄的柔性基底层，有利于在后续工艺中移除透明区中的柔性基底层，并且有利于在后续工艺中减少因移除柔性基底层而造成的段差影响，在提高显示面板透明区中光线透光率的同时，还提高了显示面板的生产良率。另外，折射率相匹配的第一光学膜层和第二光学膜层，使得显示面板中透明区的光损可以达到最小化，进一步地提高了透明区中光线的穿透率。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。
图1为现有技术中一种透明显示面板的结构示意图；
图2为形成图1所示透明显示面板的一种工艺过程的示意图；
图3为采用图2所示工艺过程形成的透明显示面板所产生的膜残留的示意图；
图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图；
图5为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中一种工艺过程的示意图；
图6为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中另一种工艺过程的示意图；
图7为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中一种透明区垫高层的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中另一种透明区垫高层的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图；
图10为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图；
图11为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中又一种工艺过程的示意图；
图12为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图；
图13为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
现有的透明显示面板，例如电致发光显示面板(Electro luminescent Display，简称为：LED)、有机电致发光显示(Organic Light-Emitting Diode，简称为：OLED)面板等，凭借其低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化等优异性能，逐渐成为显示领域的主流产品，可以广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品中。另外，柔性显示面板逐步以其可以满足各种特殊结构而成为发展的主流显示产品，随着柔性工艺的发展，透明显示和局部透明显示逐渐成为应用较为广泛的一种显示要求。伴随着可穿戴以及增强现实(Augmented Reality，简称为：AR)设备等的进一步拓展及创新，柔性透明显示面板已经成为现阶段最为重要的显示应用方式之一。
上述背景技术中已经说明现有透明显示面板的透明区内光线的穿透率较差的问题，并且发光区背板的段差过大，从而对产品良率和生产工艺具有较大的影响的问题。以下结合透明显示面板的结构进行详细说明，如图1所示，为现有技术中一种透明显示面板的结构示意图，图1中示意出透明显示面板100的发光区100a和透明区100b，该透明显示面板100的发光区100a和透明区100b中均包括如下膜层：高温PI膜层111、缓冲层(Buffer)112、第一栅极绝缘层(Gate Insulation Layer，简称为：GI层)(以下表示为：GI1层)122、第二栅极绝缘层(以下表示为：GI2层)124和层间介质层(Interlayer Dielectric Layer，简称为：ILD层)126；发光区100a中设置有开关晶体管和发光层，形成开关晶体管的膜层包括：有源区(Active Area，简称为：AA)121、GI1层122、第一栅极层(简称为：Gate1层)123、GI2层124、第二栅极层(简称为：Gate2层)125、ILD层126和源漏电极层(Source-Drain ElectrodeLayer，简称为：SD层)127；在ILD层126和SD层127上还设置有以下膜层：平坦层(Planarization Layer，简称为：PLN层)131、像素界定层(Pixel Definition Layer，简称为：PDL)132和支撑层(Photo Spacer，简称为：PS)133；在PLN层131中开孔并在孔内填充用于连接晶体管的阳极层(Anode)141，在PDL132上开孔且开孔区域内暴露出之前工艺形成阳极层141，并在孔内填充发光层142，该阳极层141连通晶体管的SD层127，该阳极层141上设置有发光层(Electro-Luminescence，简称为：EL层)142和阴极层(Cathode)143；另外，缓冲层112内且在AA121的下方还可以设置有遮光层113，显示面板100的最外侧(即阴极层143远离发光层142的一侧)还设置有封装层150。
从图1所示透明显示面板100的结构可以看出。一方面，透明区100b中具有高温PI膜层111、缓冲层112、GI1层122、GI2层124和ILD层126，高温PI膜层111为黄色PI胶，对透光区100b中光线穿透率的影响非常大，且上述各膜层的折射率不匹配，光线在层间界面出发生反射和折射，进一步影响了光线的穿透率，另外，光线的折返回产生散光现象，对透明显示面板100可能会形成重影，极大的影响了显示效果。另一方面，如图2所示，为形成图1所示透明显示面板的一种工艺过程的示意图，图2中未示意出PLN层131以下膜层的具体结构，仅示意性的表示出PLN层131的下方工艺层为ILD层126和SD层127，以及其它膜层，阳极层141上方的膜层160为曝光工艺中的光刻胶层160，图2中以黑色虚线标注出的区域为深孔曝光区域，该深孔曝光区域的深度L1为2.5微米(um)到3um，其它区域的曝光深度L2为1.5um，由于PLN层131的段差较大，在形成PDL132时会产生膜残留，导致透光率不均一。如图3所示，为采用图2所示工艺过程形成的透明显示面板所产生的膜残留的示意图，由于较大的段差对工艺带来了极大困难，在形成后续膜层时产生的膜残留现象如图3所示。
可以看出，图1所示现有结构的透明显示面板100，且发光区100a的背板可能会存在膜残留的现象，从而影响透明显示面板100的发光效果，透明区100b内，由于黄色PI胶和各膜层间折射率不匹配的问题，会严重影响透明区100b的透光率。因此，亟需提供一种优良的工艺方式来改善现有透明显示面板100的上述各问题。
本发明提供以下几个具体的实施例可以相互结合，对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。
图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。本实施例提供的显示面板的制作方法，可以包括如下步骤：
S210，在硬性基底层上形成间隔排布的透明区垫高层，该透明区垫高层位于显示面板的透明区；
S220，在硬性基底层和透明区垫高层上形成柔性基底层。
本发明实施例的显示面板的制作方法中，主要对柔性透明显示面板制作工艺中透明区的形成方式进行改善处理，本发明以下各实施例中的显示面板均指柔性透明显示面板。通常地，现有柔性透明显示面板的制作过程中，可以在硬性基底层上制作一层柔性基底层，该硬性基底层在制作过程中可以保证显示面板结构的稳定性，在制作完成之后要对该硬性基底层进行移除处理，上述硬性基底层例如为玻璃基板或其它材质的硬性基板，柔性基底层通常为高温PI胶材质，由于现有制作工艺无法对柔性透明显示面板透明区中的高温PI膜层进行移除处理，如图1所示透明显示面板100的结构，因此，透明显示面板100的透明区100b的透明效果大打折扣。
如图5所示，为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中一种工艺过程的示意图。本发明实施例提供的制作方法中，要求对显示面板300的透明区300b进行改善，以提高透明区300b的光线穿透率，在制作工艺中与现有技术不同的是，可以先在硬性基底层311上形成间隔排布的透明区垫高层313，该透明区垫高层313设置于显示面板300的透明区300b中，每个透明区垫高层313之间形成一定的间隔，并排列成规则的图形。随后，在形成透明区垫高层313的基础上，形成柔性基底层312，该柔性基底层312的制作方式例如可以是涂布PI胶所形成的PI膜层，由于在形成柔性基底层312之前，已经在硬性基底层311上形成了间隔排布的透明区垫高层313，该柔性基底层312中包括多个间隔设置的凹槽，这些凹槽内包裹透明区垫高层313，因此，这些凹槽的深度与透明区垫高层313的高度相同，且这些凹槽的深度为柔性基底层312的高度的60％到99％，优选方案中，可以通过工艺参数将凹槽的深度设置为柔性基底层312的高度的90％到98％。在形成柔性基底层312的工艺中，显示面板300的发光区300a(即未设置透明区垫高层313的区域)中柔性基底层312为正常厚度，例如为5um到20um，透明区300b(即设置有透明区垫高层313的区域)中柔性基底层312的厚度较小，例如为3000埃
Figure GDA0003155687720000081
到
Figure GDA0003155687720000082
S230，在柔性基底层上依次形成发光器件层和第一薄膜封装层，该发光器件层形成于显示面板的发光区。
本发明实施例提供的制作方法，在已形成上述透明区垫高层313和柔性基底层312的基础上，可以形成显示面板的发光器件层(图5中以发光器件层包括321和322为例予以示出)和第一薄膜封装(Thin Film Encapsulation，简称为：TFE)层(以下表示为：TFE1层)331，其中，发光器件层(如图5中的321和322)形成于显示面板300的发光区300a中，即形成于下方未设置透明区垫高层313的柔性基底层312上，如图5所示，示意出了发光器件层(包括321和322)的形成位置，该发光器件层为显示面板300中具有发光能力的结构和膜层，其设置位置与透明区300b中的透明区垫高层313正好成互补的位置关系，TFE1层331则用于保护显示面板300中的器件结构，为开放式的形成方式，即所有区域都形成有该TFE1层331。
在实际应用中，本发明实施例中形成发光器件层的方式，可以包括：在柔性基底层312位于显示面板300发光区300a的位置上依次形成发光区背板层321和发光层322，其中，发光区背板层321即为用于控制发光层322开关的晶体管的组合结构，发光区背板层321中晶体管的结构可以参考图1中的膜层AA121到SD层127，也可以为其它工艺结构的晶体管，本发明实施例不做限制。另外，发光层322可以是通过蒸镀工艺形成的，TFE1层331可以为单层或叠层封装层，例如为单层或叠层的ALD层，可以记为：TFE1-ALD层。
S240，依次移除位于透明区中的第一薄膜封装层和柔性基底层，移除后暴露出透明区垫高层；
S250，在第一薄膜封装层和透明区垫高层远离硬性基底层的一侧形成第一光学膜层；
S260，依次移除硬性基底层和透明区垫高层；
S270，在柔性基底层远离第一光学膜层的一侧形成第二光学膜层，形成的第二光学膜层与第一光学膜层在透明区相贴合。
本发明实施例提供的制作方法，在形成发光区的发光器件层和封装层(即TFE1层331)之后，为了提高显示面板300中透明区300b的光线穿透率，可以对该显示面板300进行膜层移除工艺，移除膜层的原则是：移除透明区300b中影响透光效果的膜层。
如图6所示，为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中另一种工艺过程的示意图，本发明实施例中要进行两次膜层移除的工艺，第一次移除的膜层为位于透明区300b中的TFE1层331和柔性基底层312，也就是TFE1层331和柔性基底层312位于透明区垫高层313正上方的部分膜层，移除上述膜层直至暴露出透明区垫高层313为止。第一次膜层移除后，远离硬性基底层311的一侧，最外面的膜层为发光区300a中的TFE1层331和透明区300b中的透明区垫高层313，此时，在TFE1层331和透明区垫高层313远离硬性基底层311的一侧形成第一光学膜层341，即完成了显示面板300发光侧的膜层设置。
上述已经说明，采用本发明实施例提供的制作方法制作的显示面板300为柔性透明显示面板，第二次膜层移除是针对硬性基底层311，在完成显示面板300中各器件的制作后移除该硬性基底层311，使得显示面板300具有柔性性能，移除该硬性基底层311后，由于上述透明区垫高层313的设置是为了形成图形化和透明区300b中减薄的柔性基底层312，即该透明区垫高层313是制作过程中的牺牲层，在后续工艺中也是要被移除。在移除上述硬性基底层311和透明区垫高层313之后，显示面板300的背光侧，仅在发光区300a中设置有柔性基底层312，为了保护显示面板300的结构并实现良好的透光效果，可以在在柔性基底层312远离第一光学膜层341的一侧形成第二光学膜层342，由于此时透明区300b中的膜层完全被移除，因此形成的第二光学膜层342与第一光学膜层341在透明区300b相贴合。
需要说明的是，本发明实施例中选择光学膜层的原则是：第二光学膜层342与第一光学膜层341的折射率相匹配，例如，第二光学膜层342与第一光学膜层341的折射率相等是最优情况，也可以是第二光学膜层342的折射率尽可能的接近第一光学膜层341的折射率，即要求光线穿过两个光学膜层的界面时，反射和折射的非常少，以不影响显示效果为原则。另外，第一光学膜层341远离第二光学膜层342的一侧还可以贴附一层射率相匹配的保护膜343。随后，完成显示面板300后续的其它工艺。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法与现有透明显示面板100相比，在制作工艺上的区别和有效特征如下所述：
第一，通过移除透明区300b中的所有膜层，移除的膜层中包括现有透明显示面板100中未能移除的柔性基底层312(相当于图1中透明区100b中的高温PI膜层)，提高了透明区300b的穿透率；
第二，在硬性基底层311上设置间隔排布的透明区垫高层313，并在透明区垫高层313的结构基础上形成柔性基底层312的方式，可以形成图形化的柔性基底层312，并使得局部区域(透明区300b)中柔性基底层312的厚度非常薄，有利于在后续工艺中移除透明区300b中的柔性基底层312，并且有利于在后续工艺中减少因移除柔性基底层312而造成的段差影响；
第三，移除透明区300b中的膜层(包括依次移除的TFE1层331、柔性基底层312和透明区垫高层313)和硬性基底层311后，通过设置上下连续的、且折射率匹配的光学膜层(包括第一光学膜层341和第二光学膜层342)，使得显示面板300中透明区300b的光损可以达到最小化，进一步提高了透明区300b中光线的穿透率。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法，在硬性基底层311上形成位于透明区300b内且间隔排布的透明区垫高层313，并形成图形化的柔性基底层312，形成发光器件层320和TFE1层331后，依次移除位于透明区300b中的TFE1层331和柔性基底层312，移除后暴露出透明区垫高层313，从而在暴露出透明区垫高层313的一侧形成第一光学膜层341，随后移除硬性基底层311和透明区垫高层313，并形成与第一光学膜层341在透明区300b向贴合的第二光学膜层342。本发明实施例提供的显示面板的制作方，通过硬性基底层311上形成的隔排布的透明区垫高层313，可以形成图形化的、且在透明区300b减薄的柔性基底层312，有利于在后续工艺中移除透明区300b中的柔性基底层312，并且有利于在后续工艺中减少因移除柔性基底层312而造成的段差影响，在提高显示面板300透明区300b中光线透光率的同时，还提高了显示面板300的生产良率。另外，折射率相匹配的第一光学膜层341和第二光学膜层342，使得显示面板300中透明区300b的光损可以达到最小化，进一步地提高了透明区300b中光线的穿透率。
上述已经形成于硬性基底层311上的透明区垫高层313为间隔排布的，且排列成规则图形。
在本发明实施例的一种可能的实现方式中，若显示面板300中的红色、绿色和蓝色(Red、Green、Blue，简称为：RGB)子像素为阵列排布的、且为各子像素的图形相同，则透明区垫高层313可以与子像素的形状相同，且间隔排布。如图7所示，为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中一种透明区垫高层的结构示意图，图7中示意出的RGB子像素(包括322R、322G和322B)即为上述发光层322的发光颜色，图7中的RGB子像素均为矩形，且为阵列排布的形式，可以在像素(一组RGB子像素为一个像素)之间间隔的设置透明区垫高层313(如图7所示)，也可以在RGB子像素之间间隔的设置透明区垫高层313。
在本发明实施例的另一种可能的实现方式中，显示面板300中的RGB子像素的大小有所不同，排列方式也并非图7所示的阵列排布，而是基于RGB子像素的发光亮度设置不同颜色子像素的形状、大小和排布方式，将在RGB子像素之间间隔的设置透明区垫高层313，该透明区垫高层313的大小和排布方式可以参照各子像素的大小和排布形式，例如，透明区垫高层313的形状可以包括以下一种或多种：圆形、矩形、菱形、多边形以及各种相关图形的变形和组合。如图8所示，为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中另一种透明区垫高层的结构示意图，图8中的R子像素322R和B子像素322B为六边形，且面积较大，由于G子像素322G的发光亮度较高，因此，G子像素322G的面积较小，且形状为五边形，可以看出两个G子像素322G拼接相当于一个R子像素322R或B子像素322B，图8以透明区垫高层313的形状和大小与RGB子像素相同为例予以示出，即有些透明区300b中的透明区垫高层313的大小和形状与R子像素322R或B子像素322B相同，有些透明区300b中的透明区垫高层313的大小和形状与G子像素322G相同。
可选地，图9为本发明实施例提供的另一种显示面板的制作方法的流程图。在图4所示实施例的基础上，本发明实施例提供的制作方法中，移除位于透明区300b中的TFE1层331和柔性基底层312的实现方式，即S240的实现方式，可以包括：
S241，移除位于透明区中的第一薄膜封装层；
S242，以移除后的第一薄膜封装层的图形作为掩膜，移除位于透明区中的柔性基底层。
在本发实施例中，可以先采用图形化工艺移除TFE1层331位于透明区300b中的区域，该图形化工艺过程中，可以在TFE1层331上形成光刻胶，并采用预先设置的图形化掩膜板进行掩膜、曝光、显影和刻蚀工艺，移除后透明区300b中暴露出柔性基底层312；上述说明TFE1层331通常为单层或叠层ALD，即为TFE1-ALD层，由于ALD层为致密的膜层，可以作为硬性掩膜板(Hard Mask)，即可以采用上述TFE1-ALD层作为掩膜图形，继续移除柔性基底层312位于透明区300b中的区域。
本发明实施例中进行的第一膜层移除工艺，即对透明区300b进行图形化工艺，在该过程中，采用图形化工艺后形成封装层(即TFE1-ALD层)图形，将柔性基底层312的相应区域(即柔性基底层312位于透明区300b中的区域)全部移除，直至暴露出透明区垫高层313，上述移除膜层工艺方式，移除两层膜层仅采用了一张光刻板(Mask)，减少了工艺过程中光刻板的使用数量，并且减少了光刻工艺的相关步骤，有利于节约工艺成本，并且提高了生产效率，降低了产品的生产成本。
本发明实施例提供的制作方法中，可以采用不同的工艺方式形成第一光学膜层341，如下说明两种形成第一光学膜层341的工艺方式。
在本发明实施例的一种实现方式中，如图10所示，为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。在上述各实施例的基础上，本发明实施例提供的制作方法以在图4所示流程的基础上为例予以示出，形成第一光学膜层341的实现方式，即S250的实现方式，可以包括：
S251，在第一薄膜封装层和透明区垫高层上形成第二薄膜封装层；
S252，在第二薄膜封装层上形成光学膜层，该光学膜层与第二薄膜封装层的折射率相匹配。
如图11所示，为本发明实施例提供的显示面板的制作方法中又一种工艺过程的示意图。在本发明实施例中，移除透明区300b中的TFE1层331和柔性基底层312后，显示面板300的发光区300a中的TFE1层331以及透明区300b中的透明区垫高层313暴露于发光侧的表面，此时可以形成第二薄膜封装层(即TFE2层)341a，该TFE2层341a的形成方式例如为涂布喷墨打印层(Ink Jet Printing，简称为：IJP)层或光学透明粘合剂(Optically ClearAdhesive，简称为：OCA)层，记为：TFE2-IJP或TFE2-OCA；随后，在TFE2-IJP或TFE2-OCA上贴附光学膜层341b。
需要说明的是，上述工艺方式中，TFE2层341a材料的折射率要与后续工艺中贴附的光学膜层341b的折射率相匹配，例如TFE2层341a的折射率等于或接近于光学膜层341b的折射率，使得光线在两种膜层的交界处尽可能少的发生反射和折射，以提高光线的穿透率。另外，还可以在光学膜层341b上贴附一层折射率相匹配的保护膜343。
在本发明实施例的一种实现方式中，如图12所示，为本发明实施例提供的又一种显示面板的制作方法的流程图。在上述各实施例的基础上，本发明实施例提供的制作方法以在图4所示流程的基础上为例予以示出，形成第一光学膜层341的实现方式，即S250的实现方式，可以包括：
S253，在第一薄膜封装层和透明区垫高层上涂布光学胶并固化；
S254，在固化后的光学胶上贴附保护膜，该保护膜与光学胶的折射率相匹配。
如上述图6所示的工艺过程。在本发明实施例中，移除透明区300b中的TFE1层331和柔性基底层312后，显示面板300的发光区300a中的TFE1层331以及透明区300b中的透明区垫高层313暴露于发光侧的表面，此时可以形成直接在TFE1层331上形成第一光学膜层341，形成该第一光学膜层341的方式可以为：涂布光学胶并固化，固化后的光学胶层即为第一光学膜层341，随后，可以在第一光学膜层341上贴附折射率匹配的保护膜343，保护膜343和第一光学膜层341的折射率通常是预先设置的，以保证光线在两种膜层的交界处尽可能少的发生反射和折射，以提高光线的穿透率。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法，进行光学膜层设置的工艺过程中，可以使用预先制作好的光学膜层进行贴附，也可以使用光学胶进行涂覆和固化，之后在贴附保护性盖膜和底膜。因此，要求保护膜343、光学膜层(或光学胶)(即第一光学膜层341)和保护底膜(即第二光学膜层342)之间形成连续的折射率，可以减少透明区300b的光损失，进一步提高光线的穿透率，进而提高显示面板300的整体穿透率。
基于本发明上述实施例提供的显示面板的制作方法，本发明实施例还提供一种显示面板，该显示面板由本发明上述任一实施例提供的显示面板的制作方法制作而成。
如图13所示，为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。本发明实施例提供的显示面板300为柔性透明显示面板，即该显示面板300的整体结构可以包括：发光区300a和间隔排布于发光区300a之间的透明区300b。
本发明实施例的显示面板300中，发光区300a包括发光器件层320和设置于发光器件层320背光侧的柔性基底层312，该发光器件层320远离柔性基底层312的一侧设置有第一光学膜层341，该柔性基底层312远离发光器件层320的一侧设置有第二光学膜层342；其中，该第一光学膜层341和该第二光学膜层342在透明区300b相贴合。另外，发光器件层320与第一光学膜层341之间还设置有用于封装发光器件的TFE1层331。
本发明实施例提供的显示面板，为采用本发明上述图4到图12所示任一实施例中的制作方法制作而成，且上述制作方法主要对柔性透明显示面板制作工艺中透明区的形成方式进行改善处理。一方面，本发明实施例的显示面板300的透明区330b中移除了形成光学膜层前的所有膜层，透明区300b中移除的膜层包括TFE1层、柔性基底层312、透明区垫高层313和硬性基底层311，即移除的膜层中包括现有透明显示面板100中未能移除的柔性基底层312(相当于图1中透明区100b中的高温PI膜层)，使得完成制作的显示面板300的透明区300b中仅具有光学膜层，即在透明区300b相贴合的第一光学膜层341和该第二光学膜层342，提高了透明区300b的穿透率。另一方面，本发明实施例提供的显示面板300的透明区300b的光线穿透率较高，且由于制作过程中采用透明区垫高层313作为牺牲层，形成图形化的、且透明区300a中减薄的柔性基底层312，不仅有利于在后续工艺中移除透明区300b中的柔性基底层312，还有利于在后续工艺中减少因移除柔性基底层312而造成的段差影响。
需要说明的是，本发明实施例中光学膜层的设置原则是：第二光学膜层342与第一光学膜层341的折射率相匹配，例如，第二光学膜层342与第一光学膜层341的折射率相等是最优情况，也可以是第二光学膜层342的折射率尽可能的接近第一光学膜层341的折射率，即要求光线穿过两个光学膜层的界面时，反射和折射的非常少，以不影响显示效果为原则。另外，第一光学膜层341远离第二光学膜层342的一侧还可以设置一层折射率相匹配的保护膜343。本发明实施例提供的显示面板300，通过设置上下连续的、且折射率匹配的光学膜层(包括第一光学膜层341和第二光学膜层342)，使得显示面板300中透明区300b的光损可以达到最小化，进一步提高了透明区300b中光线的穿透率。
本发明实施例中的显示面板300，采用本发明上述图4到图12所示任一实施例中的制作方法制作而成，该显示面板300包括发光区300a和间隔排布于发光区300a之间的透明区300b，该发光区300a中包括发光器件层320和设置于发光器件层320背光侧的柔性基底层312，该发光器件层320远离柔性基底层312的一侧设置有第一光学膜层341，该柔性基底层312远离发光器件层320的一侧设置有第二光学膜层342，该第一光学膜层341和该第二光学膜层342在透明区300b相贴合。上述结构的显示面板300，由于其制作工艺中通过硬性基底层311上设置的隔排布的透明区垫高层313，可以形成图形化的、且在透明区300b减薄的柔性基底层312，有利于在后续工艺中移除透明区300b中的柔性基底层312，并且有利于在后续工艺中减少因移除柔性基底层312而造成的段差影响，在提高显示面板300透明区300b中光线透光率的同时，还提高了显示面板300的生产良率。另外，折射率相匹配的第一光学膜层341和第二光学膜层342，使得显示面板300中透明区300b的光损可以达到最小化，进一步地提高了透明区300b中光线的穿透率。
可选地，图14为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。在图13所示显示面板300的结构基础上，本发明实施例提供的显示面板300中，发光器件层320可以包括设置于柔性基底层312远离硬性基底层311一侧的发光区背板层321，以及设置于发光区背板层321远离柔性基底层312一侧的发光层322。
在本发明实施例中，发光区背板层321即为用于控制发光层322开关的晶体管的组合结构，发光区背板层321中晶体管的结构可以参考图1中的膜层AA121到SD层127，也可以为其它工艺结构的晶体管，本发明实施例不做限制。另外，发光层322可以是通过蒸镀工艺形成的，该发光层322用于形成显示面板300的RGB子像素。
本发明上述显示面板的制作方法的实施例中已经说明，可以采用不同非得方式形成第一光学膜层341。其中一种方式为涂布光学胶并固化，以形成第一光学膜层341，如图13所示的第一光学膜层341，为单层结构。另一种方式为先形成第二薄膜封装层(即TFE2层341a)，再形成光学膜层341b，即第一光学膜层341包括TFE2层341a和光学膜层341b，如图14所示，且要求TFE2层341a和光学膜层341b的折射率相匹配，例如TFE2层341a的折射率等于或接近于光学膜层341b的折射率，使得光线在两种膜层的交界处尽可能少的发生反射和折射，以提高光线的穿透率。另外，光学膜层341b远离所述柔性基底层312的一侧还可以设置有折射率相匹配的保护膜343。
基于本发明上述实施例提供的显示面板，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置中包括本发上述任一实施例中的显示面板，且该显示面板由本发明上述任一实施例提供的显示面板的制作方法制作而成。本发明实施例提供的显示装置的制作工艺与本发明上述各实施例中显示面板的制作工艺相同，且具有相同的技术效果，故在此不再赘述。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (13)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在硬性基底层上形成间隔排布的透明区垫高层，并在所述硬性基底层和所述透明区垫高层上形成柔性基底层，所述透明区垫高层位于所述显示面板的透明区；
在所述柔性基底层上依次形成发光器件层和第一薄膜封装层，所述发光器件层形成于所述显示面板的发光区；
依次移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层和所述柔性基底层，移除后暴露出所述透明区垫高层；
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层；
依次移除所述硬性基底层和所述透明区垫高层，并在所述柔性基底层远离所述第一光学膜层的一侧形成第二光学膜层，形成的所述第二光学膜层与所述第一光学膜层在所述透明区相贴合，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层的折射率相匹配。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述依次移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层和所述柔性基底层，包括：
移除位于所述透明区中的所述第一薄膜封装层；
以移除后的所述第一薄膜封装层的图形作为掩膜，移除位于所述透明区中的柔性基底层。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层，包括：
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层上形成第二薄膜封装层；
在所述第二薄膜封装层上形成光学膜层，所述光学膜层与所述第二薄膜封装层的折射率相匹配。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二薄膜封装层为喷墨打印IJP层或光学透明粘合剂OCA胶层。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层远离所述硬性基底层的一侧形成第一光学膜层，包括：
在所述第一薄膜封装层和所述透明区垫高层上涂布光学胶并固化；
在所述固化后的光学胶上贴附保护膜，所述保护膜与所述光学胶的折射率相匹配。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述柔性基底层上形成发光器件层，包括：
在所述柔性基底层上依次形成位于所述发光区的发光区背板层和发光层。
7.根据权利要求1～5中任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述柔性基底层中包括多个间隔设置的凹槽，所述凹槽的深度与所述透明区垫高层的高度相同，且所述凹槽的深度为所述柔性基底层的高度的60％到99％。
8.根据权利要求1～5中任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一薄膜封装层为单层或叠层的原子层沉积ALD层。
9.根据权利要求1～5中任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述透明区垫高层的形状包括以下一种或多种：圆形、矩形、菱形和多边形。
10.一种显示面板，其特征在于，采用如权利要求1～9中任一项显示面板的制作方法制作出所述显示面板，所述显示面板包括：发光区和间隔排布于所述发光区之间的透明区；
所述发光区包括发光器件层和设置于所述发光器件层背光侧的柔性基底层，所述发光器件层远离所述柔性基底层的一侧设置有第一光学膜层，所述柔性基底层远离发光器件层的一侧设置有第二光学膜层；其中，所述第一光学膜层和所述第二光学膜层在所述透明区相贴合，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层的折射率相匹配。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件层包括设置于所述柔性基底层远离所述硬性基底层一侧的发光区背板层，以及设置于所述发光区背板层远离所述柔性基底层一侧的发光层。
12.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述第一光学膜层包括折射率相匹配的第二薄膜封装层和光学膜层。
13.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求10～12中任一项所述显示面板。
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