CN110088566A - 用于测量量规的至少一个几何特征的方法和系统 - Google Patents

Abstract

在用于测量量规(20)的方法中，本发明提供了一种标准件(30)。该标准件在相互平行的标准件参考平面(31)与标准检测线(35)之间具有经校准的标准距离(33)。当标准件以其标准件参考平面放置在量规参考平面(21)上时，使用测量装置(10)的跟踪点(12)来跟踪标准件。由此，能够可靠地测量标准检测线(35)与装置参考平面(11)之间的距离(43)，以及因而可靠地测量量规参考平面(21)与装置参考平面(11)之间的距离。本发明允许在经济实惠的、不复杂的测量装置中可靠地测量量规，以在这些量规不能将它们的量规参考平面放置在装置参考平面上的情况下，可靠地测量装置中的量规。

Description

用于测量量规的至少一个几何特征的方法和系统

本发明涉及一种用于测量处于量规保持状态下的量规的至少一个几何特征的方法，其中，量规保持在装置中，该装置用于通过利用该装置的跟踪结构的跟踪点抵靠并沿着规格轮廓来跟踪所述规格轮廓，以测量量规的量规轮廓的至少一部分，其中，所述跟踪该量规轮廓在跟踪方向上发生，该跟踪方向至少在平行于量规的量规中心线的轴向方向上具有分量，其中：

-量规具有量规参考平面，该量规参考平面是量规的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向，

-量规的所述至少一个几何特征出现在量规平面中，该量规平面垂直于量规中心线，如沿量规中心线所见，所述量规平面相对于所述量规参考平面具有预定轴向距离；

以及其中，如在所述量规保持状态下所示：

-该装置具有装置参考平面，该装置参考平面是装置的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向；

-该装置配置成：用于在所述跟踪量规轮廓期间，根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面沿着所述轴向方向的相对轴向位置，以及所述跟踪点相对所述量规中心线的径向位置。

本发明还涉及一种配置成用于执行这种方法的系统。

在实践中，存在许多上述类型的许多不同量规，其中，与所有不同的量规相比，各种量规制造商已将上述量规参考平面和上述量规平面限定为沿着上述轴向方向位于许多不同的轴向位置处。

对于一些量规，量规参考平面以有利的方式限定。在这些有利的情况下，量规可以以这样的方式安装在装置中，使得在上述量规保持状态下，量规参考平面和装置参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠，而在跟踪量规轮廓期间，装置的跟踪结构的跟踪点可以以令人满意的方式到达所有要求的位置，包括量规平面中必须测量的所涉及的几何特征的位置。在这些情况下，跟踪期间的装置知道跟踪点相对于装置参考平面的轴向位置，并且因而知道跟踪点相对于量规参考平面的轴向位置(量规参考平面与装置参考平面位于相同的轴向位置处)。因此，该装置在跟踪期间准确地知道跟踪点何时位于量规平面的轴向位置处(应注意，量规平面相对于量规参考平面具有上述预定轴向距离)。重要的是，装置准确地知道跟踪点何时位于量规平面的轴向位置处，因为在该确切的量规平面处，必须精确地测量上述几何特征(例如，量规的局部直径)。

然而，对于许多其他量规，量规参考平面由不同量规制造商以对于某些测量装置不利的方式进行限定。

在这些不利情况中的一些情况下，根本不可能将量规安装在装置中，使得在上述量规保持状态下，量规参考平面和装置参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠。

在这些不利的情况中的其它情况下，量规原则上可以以这样的方式安装在装置中，使得在上述量规保持状态下，量规参考平面和装置参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠。然而，如果这样安装，在这些其它不利的情况下，在跟踪量规轮廓期间，几个已知装置的跟踪结构的跟踪点不能到达所有要求的位置，例如它可能根本不能到达量规平面中的、必须测量有关的几何特征的位置处。

因此，在所有这些不利的情况下，量规必须以某种其他安装方式安装在装置中，其中，量规参考平面和装置参考平面并不是位于沿量规中心线的相同轴向位置处。因而，在所有这些不利的情况下，尽管在跟踪期间，装置知道跟踪点相对于装置参考平面的轴向位置，但是该装置不知道跟踪点相对于量规参考平面的轴向位置。因而，由于量规平面相对于该量规参考平面具有预定轴向距离，因此在跟踪期间装置不知道跟踪点何时位于量规平面的轴向位置处。

在量规以所述某种其他安装方式安装在装置中的上述大多数不利的情况下，经济实惠的、不复杂的测量装置(例如已知的2D跟踪装置类型)中的一些无法可靠地测量量规参考平面相对于装置参考平面的轴向位置。原因在于，实际上，如在轴向方向上可见，量规参考平面位于量规的陡峭端面处，或量规的周向槽处等。这意味着量规参考平面的周向边缘位于量规的存在圆角、倒角等的位置处。这使得已知的经济实惠的、不复杂测量装置(诸如已知的2D跟踪装置类型)的通常跟踪结构无法通过在量规参考平面的困难周向边缘处进行跟踪来可靠地确定量规参考平面的轴向位置。

鉴于上述所有内容，将清楚的是，通常需要昂贵且复杂的装置，以便能够可靠地测量实践中存在的广泛的许多不同的量规。

本发明的目的是提供一种解决方案，根据该解决方案，可通过诸如已知的2D跟踪设备类型的经济实惠的、不复杂的测量装置可靠地测量实践中存在的广泛的许多不同的量规。

为此目的，本发明提供了一种根据所附独立权利要求1所述的方法，以及一种根据所附独立权利要求5所述的系统。本发明的优选实施方式由所附从属权利要求2至4提供。

因而，本发明提供了一种用于测量处于量规保持状态下的量规的至少一个几何特征的方法，其中，量规保持在装置中，该装置用于通过使用该装置的跟踪结构的跟踪点抵靠并沿着量规轮廓来跟踪所述量规轮廓，以测量量规的量规轮廓的至少一部分，所述跟踪量规轮廓发生在跟踪方向上，该跟踪方向至少在平行于量规的量规中心线的轴向方向上具有分量，其中：

-量规具有量规参考平面，该量规参考平面是量规的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向，

-量规的所述至少一个几何特征出现在量规平面中，该量规平面垂直于量规中心线，如沿量规中心线所见，所述量规平面相对于所述量规参考平面具有预定轴向距离，

以及其中，如在所述量规保持状态下所示：

-该装置具有装置参考平面，该装置参考平面是该装置的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向；

-该装置配置成：用于在所述跟踪量规轮廓期间，根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面沿着所述轴向方向的相对轴向位置，以及所述跟踪点相对于所述量规中心线的径向位置；

其特征在于，该方法包括以下步骤：

·提供至少一个标准件，该至少一个标准件包括：

-标准件-量规组装装置，用于在标准件和量规的相互组装的标准件-量规状态下，将标准件可释放地组装到量规；

-标准件参考平面，该标准件参考平面是标准件的二维直的外表面部分，其中，在所述标准件–量规状态下，标准件参考平面和量规参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠；

-标准件跟踪平面，该标准件跟踪平面是标准件的凸状或凹状外表面部分，并且如在所述量规保持状态和所述标准件-量规状态两者的组合组装状态下所见，形成用于装置的跟踪结构的跟踪点的跟踪表面，其中，标准件跟踪平面具有标准检测线，该标准检测线是由标准件跟踪平面上的拱顶位置形成的线段，即，以拱顶意义形成的线段，换言之，以在所述组合组装状态下，使用跟踪点跟踪标准件跟踪平面期间要经历的所述凸形或凹形的顶点意义形成的线段，以及其中，标准检测线平行于标准件参考平面；以及

-经校准的标准距离，如在垂直于所述标准件参考平面的方向上所示，经校准的标准距离位于所述标准检测线与所述标准件参考平面之间；

·使装置、量规和标准件处于所述组合组装状态下；

·在所述组合组装状态下：使用装置的跟踪结构的跟踪点来跟踪标准件的标准件跟踪平面，从而在所述跟踪标准件跟踪平面期间，根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面沿着所述轴向方向的相对轴向位置，以及所述跟踪点相对于所述量规中心线的径向位置，从而确定沿着所述轴向方向所示的、所述标准检测线与所述装置参考面之间的轴向距离。

因而，由于使用所述标准件，其中，该标准件具有标准件跟踪平面的可可靠测量的标准检测线，并且该标准件在标准检测线与标准件参考平面之间具有经校准的标准距离，本发明允许在装置、量规和标准件的所述组合组装状态下，可靠地确定量规参考平面与装置参考平面之间的轴向距离。由于本发明，现在可在所有上述讨论的当各种量规安装在各种设备中时的不利情况下，不因量规的量规参考平面的难以跟踪的周向边缘影响，能够可靠地确定量规和装置的参考平面之间的轴向距离。这意味着，由于量规平面相对于量规参考平面具有预定轴向距离，因而装置现在可在跟踪期间可靠地知道跟踪点何时位于量规平面的轴向位置处。因此，本发明提供了一种有效的解决方案，根据该解决方案，可通过诸如已知的2D跟踪设备类型的经济实惠的、不复杂的测量装置可靠地测量实践中存在的广泛的许多不同的量规。

原则上，本发明可与许多不同的测量装置组合应用，所述测量装置包括例如高度复杂的3D测量装置。

在根据本发明的方法的优选实施方式中，该装置是二维跟踪装置，其中，该装置配置成使得：在使用跟踪点跟踪量规轮廓期间，跟踪点保持在二维平面中，该二维平面包含所述量规中心线，其中，跟踪点的运动由装置在平行于量规中心线的所述轴向方向上进行致动，同时，跟踪点在相对于量规中心线的径向方向上跟随量规轮廓。

本发明与2D跟踪装置的这种特定组合在很大程度上扩展了2D跟踪装置的适用性，这对于工业来说是实质性的益处。

原则上，标准件的标准件-量规组装装置可包括用于将标准件可释放地组装到量规上的许多不同的组装装置，包括例如各种夹紧装置。

在根据本发明的方法的另一优选实施方式中，标准件的标准件-量规组装装置包括用于将标准件可释放地组装到量规的磁体。

原则上，可应用标准件跟踪平面的许多不同实施方式，该标准件跟踪平面是该标准件的一维凸状或一维凹状外表面部分。

在根据本发明的方法的又一优选实施方式中，标准件包括圆柱形销，该圆柱形销具有平行于标准件参考平面的销中心线，其中，圆柱形销固定地附接至标准件或与标准件一体制造，以使得：

-圆柱形销的外表面部分形成标准件的所述凸状外表面部分；以及

-如在垂直于所述标准件参考平面的方向上所见，所述标准件参考平面与所述标准检测线之间的所述经校准的标准距离等于所述标准件参考平面与销中心线之间的距离。

此外，本发明在一种系统中实施，该系统配置成用于执行根据本发明及其上述优选实施方式所述的方法，其中，该系统包括：

·如在根据本发明及其上述优选实施方式的方法中所限定的装置；以及

·如在根据本发明及其上述优选实施方式的方法中所限定的至少一个标准件。

通过仅参考下文描述的非限制性示例方式的实施方式并参考附图中的示意图，本发明的上述方面和其他方面将变得显而易见并得以阐明。

图1示出了与本发明结合使用的量规的示例，其中，量规是锥形塞规，以及其中，该图示出了通过量规的横截面的视图，所述横截面包含量规的量规中心线，以及其中，锥形塞规在量规的所示的上轴向端部具有一个心轴形式的突起。

图2再次以相同的视图示出了图1的量规，然而其中，此次量规放置在跟踪装置中以与本发明结合使用，以及其中，上述量规保持状态是有效的，以及其中，所述装置是一种经济实惠的、不复杂的2D跟踪装置。

图3示出了与本发明结合使用的标准件的示例，其中，图3的左侧示出了标准件的第一侧视图，以及其中，图3的右侧示出了标准件的第二侧视图，第一侧视图和第二侧视图是在相互正交的观察方向上拍摄的，以及其中，第二侧视图的观察方向在与标准件的标准检测线平行的方向上，以及其中，图3的第二侧视图另外示出了图2的装置的跟踪结构的部分。

图4再次以相同的视图示出了图2的情况，然而，这次具有类似于图3的标准件的两个标准件，以及其中，对于两个标准件中的每个，上述标准件–量规状态是有效的。

图5示出了类似于图4的情况和视图的情况，并且具有与图4中类似的装置和两个类似的标准件，然而，这次具有另一锥形塞规的示例而不是图4的量规，其中，图5的量规分别在量规的两个相对的轴向端部处具有两个心轴形式的两个突起，以及其中，图5的量规具有与图4的量规的量规参考平面相比位于基本上不同位置处的量规参考平面。

图6以立体图示出了图5的情况，更大程度地示出其中作为2D跟踪装置的装置。

图7示出了类似于图5的情况和视图的情况，并且具有与图5中类似的装置和两个类似的标准件，然而，这次具有另一锥形塞规的示例而不是图5的量规。其中，图7的量规具有周向凹槽，以及其中，图7的量规具有与图5的量规的量规参考平面相比位于基本上不同位置处的量规参考平面。

图8示出了类似于图4的情况和视图的情况，并且具有与图4中类似的装置和两个类似的标准件，然而，这次具有另一量规的示例，而不是图4的锥形塞规，其中，图8的量规是锥形环规。

图9示出了类似于图8的情况和视图的情况，并且具有与图8中类似的装置和两个类似的标准件，然而，这次具有另一锥形环规的示例，而不是图8的锥形环规，其中，图9的量规是螺纹规。

现在，首先参考图1至图4。图1至图4中使用的参考标记，以以下方式意指本发明的上述部分和方面，以及相关的部分和方面。

1 量规的几何特征

7 轴向方向

10 装置

11 装置参考平面

12 跟踪点

14、14A 跟踪方向

15 跟踪探针

16 跟踪臂

20 量规

21 量规参考平面

22 量规平面

23 量规平面与量规参考平面之间的预定轴向距离

24、24A 量规轮廓

25 量规端部表面

26 量规心轴

27 量规中心线

30、30A 标准件

31 标准件参考平面

32 标准件-量规组装装置

33 经校准的标准距离

34 标准件跟踪平面

35 标准检测线

36 圆柱形销

37 销中心线

43 销中心线37与装置参考平面11之间的轴向距离

基于包括上述附图的简要描述的以上介绍性描述，以及基于图1至图4中使用的上述参考标记，所示图1至图4的示例是最容易解释的部分。给出了以下额外的解释。

图1示出了锥形塞规20，该锥形塞规20在所示的量规的上轴向端部处具有心轴26形式的突起。该量规的另一轴向端部由量规端部表面25形成，量规端部表面25是二维直的平面。在所示示例中，量规参考平面21位于轴向位置处，该轴向位置对应于从量规20的锥形部分到心轴26的过渡。量规20必须测量的几何特征1是量规20在量规平面22处的外径，该量规平面22相对于量规参考平面21处于预定轴向距离23处。

在图2的情况下，量规20以其量规端部表面25倚靠在2D跟踪装置10的装置参考平面11上。图2另外示出了跟踪点12、跟踪探针15和跟踪臂16。这些部分12、15、16是装置10的跟踪结构的一部分。在所示情况下，跟踪点12在跟踪方向14上抵靠并沿着量规20的量规轮廓24A而跟踪。

对于图1、图2的量规20，不幸的是，量规参考平面21由量规制造商以不利的方式限定，以与测量装置10一起使用。原因是不可能使量规20放置成其量规参考平面21位于装置参考平面上11上。为了与测量装置10一起使用，如果量规制造商已将量规参考平面21限定成与量规端部表面25重合，则会更好。但是，不幸的是，情况并非如此。

现在的问题是，2D跟踪装置10无法可靠地测量量规参考平面21相对于装置参考平面11的轴向位置，因为如从轴向方向7可见，量规参考平面21位于从量规20的锥形部分到量规20的心轴26的突然过渡处。实际上，这种突然过渡意味着量规参考平面21的周向边缘位于量规20的、存在圆角、倒角等的位置处。量规参考平面21的这种困难的周向边缘使得2D跟踪装置的跟踪点12无法可靠地确定量规参考平面21的轴向位置。因此，尽管装置10在在跟踪方向14上跟踪期间，知道了跟踪点12相对于装置参考平面11的轴向位置，但是装置10不知道跟踪点12相对于量规参考平面21的轴向位置。因而，由于量规平面22相对于该量规参考平面22具有预定轴向距离23，所以装置10在跟踪期间不知道跟踪点12何时处于量规平面的轴向位置处。

在图3的标准件30的帮助下，可有效地解决上述问题。标准件30具有上述标准件参考平面31、磁体32形式的标准件-量规组装装置、标准件跟踪平面34、标准检测线35以及标准件参考平面31与标准检测线35之间的经校准的标准距离33。在所示示例中，标准件30更具体地包括具有销中心线37的圆柱形销36，该销中心线37平行于标准件参考平面31。该圆柱形销36固定地附接至标准件30或与标准件30一体制造，使得圆柱形销36的外表面部分34形成标准件30的上述凸状外表面部分(即标准件跟踪平面34)，以及使得标准件参考平面31与标准检测线35之间的经校准的标准距离33等于标准件参考平面31与销中心线37之间的距离。

图3还示出了跟踪点12可如何(如图4中所示的标准件-量规状态所示)在指示的跟踪方向14A上抵靠并沿着标准件跟踪平面34进行跟踪。在该跟踪期间，该装置能够建立弯曲的跟踪路径的拱顶的轴向位置，即，弯曲的跟踪路径的顶点。换言之，该装置能够建立标准检测线35相对于装置参考平面11的轴向位置。

图4的标准件30类似于图3的标准件30。在图4中，标准件30以其标准件参考平面31放置在量规20的量规参考平面21上。应注意，标准件参考平面31已精确地研磨平整。此外，除了存在圆角、倒角等的量规参考平面21的周向边缘之外，量规20的量规参考平面21已精确地研磨平整。

从图4中可容易地理解，通过使用装置10的跟踪点12跟踪标准件30的标准件跟踪平面34，能够确定如沿轴向方向7所见的、销中心线37与装置参考平面11之间的轴向距离43。因而，由于使用标准件30，其中该标准件30具有在销中心线37与标准件参考平面31之间的经校准的标准距离33，所以本发明允许可靠地确定量规参考平面21与装置参考平面11之间的轴向距离。这意味着，由于量规平面22具有相对于量规参考平面21的预定轴向距离23，所以装置10现在可靠地知道，在沿着量规轮廓24的跟踪期间，跟踪点12何时位于量规平面22的轴向位置处。

应注意，可遵循类似的程序，以便在沿着量规20的相对侧上的相对量规轮廓24A进行跟踪期间，找出装置的跟踪结构的跟踪点何时位于量规平面22的轴向位置处。在量规20的这一相对侧上，原则上这可通过使用相同的标准件30来完成。然而，在实践中，可优选通过类似于标准件30的单独标准件30A的类似使用来实现这一点，单独的标准件30A具有它的销中心线与其标准件参考平面之间的、它自身相应的经校准的标准距离。应注意，在量规轮廓24A的侧部，通常使用装置的跟踪结构的另一跟踪点，而不是在相对的量规轮廓24的一侧上的跟踪点。

接下来，参考图5至图9，该图5至图9用于说明可应用根据本发明的标准件的许多不同方式中的一些方式。在图5至图9这些图中，通过与图1至图4中所使用的相同的参考标记，示出了与图1至图4的相应部分和方面类似的本发明的一些部分和方面。

图5、图6示出了锥形塞规120，该锥形塞规120在量规120的两个相对的轴向端部处具有两个心轴126和128。量规120分别保持在2D跟踪装置10的上定心元件117与下定心元件118之间。在所示示例中，量规120在从塞规120的锥形部分到下心轴128的过渡处具有量规参考平面121。在图5中，参考标记122表示量规120的量规平面，其中，量规平面122相对于量规参考平面121位于预定轴向距离处。可以看出，在图5、图6的情况下，标准件130和标准件130A可类似于图4的示例的标准件30和标准件30A地应用。

图6用于提供2D跟踪装置10的更完整的总体印象。在图6中，参考标记111和参考标记112分别表示装置10的跟踪结构的跟踪点的竖直跟踪方向和水平跟踪方向。

图7示出了锥形塞规220，该锥形塞规220具有周向凹槽229，以及其中，量规220在凹槽229的上边界壁处具有量规参考平面221。在图7中，参考标记222表示量规220的量规平面，其中，量规平面222相对于量规参考平面221位于预定轴向距离处。可以看出，在图7的情况下，标准件230和标准件230A可类似于图4的示例的标准件30和标准件30A进行应用。

图8示出了锥形环规320，其中，量规320在量规320的所示上侧具有量规参考平面321。在图8中，参考标记322表示量规320的量规平面，其中，量规平面322相对于量规参考平面321位于预定轴向距离处。量规320的必须测量的几何特征是量规320在量规平面322处的内径。可以看出，在图8的情况下，标准件330和标准件330A可类似于图4的示例的标准件30和标准件30A进行应用。应注意，量规320原则上可与图8的情况相比以颠倒的方式安装在装置10中。在这种情况下，在上述量规保持状态下的量规参考平面321和装置参考平面11将以相互平行的方式彼此接触地抵接。然而，如果量规320因此将颠倒安装，则探针15的跟踪点将不能到达量规平面322中必须测量量规320的内径的位置。

图9示出了锥形环规420，其中，量规420在量规420的所示上侧具有量规参考平面421。可以看出，锥形环规420是螺纹规。在图9中，参考标记422表示量规420的量规平面，其中，量规平面422相对于量规参考平面421位于预定轴向距离处。可以看出，在图9的情况下，标准件430和标准件430A可类似于图8的示例的标准件330和标准件330A进行应用。

虽然已经在之前的描述和附图中详细描述和说明了本发明，但是这样的描述和说明应被认为是示例性的和/或说明性的以及非限制性的；本发明不限于所公开的实施方式。

通过研究附图、公开内容和所附权利要求，本领域技术人员在实践所要求保护的发明时，可理解和实现所公开实施方式的其他变型。在权利要求中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，以及不定冠词“一(a)”或“一(an)”不排除多个。单个处理器或其他单元可实现权利要求中记载的若干项的功能。出于清楚和简明描述的目的，本文中公开了作为相同或单独实施方式的部分的特征，然而，应理解，本发明的范围可包括具有所公开的特征中的全部或一些的组合的实施方式。在相互不同的从属权利要求中陈述某些措施的仅有事实并不表示这些措施的组合不能用于获益。权利要求中的任何参考标记不应被解释为限制范围。

Claims (5)

1.一种用于测量处于量规保持状态下的量规(20)的至少一个几何特征(1)的方法，其中，所述量规保持在装置(10)中，所述装置(10)用于通过使用所述装置的跟踪结构(12、15、16)的跟踪点(12)抵靠并沿着量规轮廓(24、24A)来跟踪所述量规轮廓，以测量所述量规的量规轮廓的至少部分，所述跟踪量规轮廓在跟踪方向(14)上发生，所述跟踪方向(14)至少在与所述量规的量规中心线(27)平行的轴向方向(7)上具有分量，其中：

-所述量规具有量规参考平面(21)，所述量规参考平面(21)是所述量规的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向，

-所述量规的所述至少一个几何特征出现在量规平面(22)中，所述量规平面(22)垂直于所述量规中心线，如沿所述量规中心线所示，所述量规平面相对于所述量规参考平面具有预定轴向距离(23)；

以及其中，如在所述量规保持状态下所示：

-所述装置具有装置参考平面(11)，所述装置参考平面(11)是所述装置的二维直的外表面部分，并且垂直于所述轴向方向；

-所述装置配置成：用于在所述跟踪量规轮廓期间，根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面沿着所述轴向方向的相对轴向位置，以及所述跟踪点相对于所述量规中心线的径向位置；

其特征在于，所述方法包括以下步骤：

·提供至少一个标准件(30、30A)，所述至少一个标准件(30、30A)包括：

-标准件-量规组装装置(32)，用于在所述标准件和所述量规的相互组装的标准件-量规状态下，将所述标准件可释放地组装到所述量规；

-标准件参考平面(31)，所述标准件参考平面(31)是所述标准件的二维直的外表面部分，其中，在所述标准–量规状态下，所述标准件参考平面和所述量规参考平面以相互平行的方式彼此接触地抵靠；

-标准件跟踪平面(34)，所述标准件跟踪平面(34)是所述标准件的凸状或凹状外表面部分，并且如在所述量规保持状态和所述标准–量规状态两者的组合组装状态下所示，形成用于所述装置的跟踪结构的跟踪点的跟踪表面，其中，所述标准件跟踪平面具有标准检测线(35)，所述标准检测线(35)是由所述标准件跟踪平面上的拱顶位置形成的线段，即，以拱顶意义形成的线段，换言之，以在所述组合组装状态下，使用所述跟踪点跟踪所述标准件跟踪平面期间要经历的所述凸形或凹形的顶点意义形成的线段，以及其中，所述标准检测线平行于所述标准件参考平面；以及

-经校准的标准距离(33)，如在垂直于所述标准件参考平面的方向上所示，所述经校准的标准距离(33)位于所述标准检测线与所述标准件参考平面之间；

·使所述装置(10)、所述量规(20)和所述标准件(30)处于所述组合组装状态；

·在所述组合组装状态下：使用所述装置(10)的所述跟踪结构的所述跟踪点(12)来跟踪所述标准件(30)的所述标准件跟踪平面(32)，从而在所述跟踪标准件跟踪平面期间，根据时间确定所述跟踪点相对于所述装置参考平面(11)沿所述轴向方向(7)的相对轴向位置，以及所述跟踪点(12)相对于所述量规中心线(27)的径向位置，从而确定沿所述轴向方向所示的、所述标准检测线(34)与所述装置参考平面(11)之间的轴向距离(43)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述装置(10)是二维跟踪装置，其中，所述装置配置成使得：在使用所述跟踪点(12)跟踪所述量规轮廓期间，所述跟踪点保持在包括所述量规中心线(27)的二维平面中，其中，所述跟踪点的运动由所述装置在平行于所述量规中心线(27)的所述轴向方向(7)上致动，同时，所述跟踪点在相对于所述量规中心线的径向方向上跟随所述量规轮廓。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述标准件(30)的所述标准件-量规组装装置(32)包括磁体(32)，所述磁体(32)用于将所述标准件可释放地组装至所述量规(20)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述标准件(30)包括圆柱形销(36)，所述圆柱形销具有平行于所述标准件参考平面(31)的销中心线(37)，其中，所述圆柱形销(36)固定附接至所述标准件(30)或与所述标准件(30)一体制造，以使得：

-所述圆柱形销(36)的外表面部分(34)形成所述标准件(30)的所述凸状外表面部分；以及

-如垂直于所述标准件参考平面的方向上所示，所述标准件参考平面(31)与所述标准检测线(35)之间的所述经校准的标准距离(33)等于所述标准件参考平面(31)与所述销中心线(37)之间的距离。

5.一种系统，所述系统配置成用于执行根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述系统包括：

·如权利要求1至4中任一项所限定的装置(10)；以及

·如权利要求1至4中任一项所限定的至少一个标准件(30、30A)。