CN109884831A - 反射式显示器件、显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种反射式显示器件、显示面板及其制造方法，所述显示面板，包括：阵列基板，进一步还包括：在所述阵列基板上形成的凹/凸图形，以及覆盖于所述图形上的反射层；其中，所述图形包括边数大于4的中心对称图形。应用本发明可以使各个方向的反射率均一，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

Description

反射式显示器件、显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是指一种反射式显示器件、显示面板及其制造方法。

背景技术

反射式显示技术，如反射式液晶显示器(LCD)、电子墨水(E-ink)、ECD(电致变色显示)、及Mirasol等显示技术，由于其户外可读性好，低功耗等优势，在可穿戴显示领域越来越受到关注。

反射型显示器通过利用反射板反射外部入射光(周边光)，利用经过镜面反射的光线照亮屏幕，从而不需要背光。因此，减少了用于背光的电力消耗，与使用透射型显示装置的移动设备相比，反射式显示装置的移动设备驱动可达更长时间。此外，因为背光不是必需的，因此相应地减小了显示装置的重量和尺寸。而且，经过反射后的光过滤掉了大量的高能量穿透性强的光谱，因为能量高穿透性强的光基本上不反射，所以经过反射后的光对眼睛都是无害的，起到护眼的效果。

在反射式显示装置中，为了利用外部光进行显示，需要在显示装置中包括具有散射功能的散射膜层。为了降低成本，目前在阵列基板上增加设置凹凸图形(Bump)工艺，同时上层添加反射层来取代传统的散射膜。

然而，在实际应用中，本发明的发明人发现，现有的反射式显示装置存在各个方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提出一种反射式显示器件、显示面板及其制造方法，使各个方向的反射率均一，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

基于上述目的本发明提供一种显示面板，包括：阵列基板，进一步还包括：

在所述阵列基板上形成的凹/凸图形，以及覆盖于所述图形上的反射层；

其中，所述图形包括边数大于4的中心对称图形。

较佳地，所述中心对称图形具体为六边形或圆形。

较佳地，所述图形还包括：

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形；或者

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的内倒角形。

较佳地，所述图形还包括：

在对应所述阵列基板中的像素的四个边沿内侧位置处的长条形。

其中，在对应所述阵列基板中的一个像素位置处密布有大小尺寸至少有两种的多个中心对称图形。

较佳地，在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处未设置图形。

本发明还提供一种反射式显示器件，包括：如上所述的显示面板。

本发明还提供一种显示面板的制造方法，包括：

在阵列基板上形成凹/凸图形，其中，所述图形包括边数大于4的中心对称图形；

形成覆盖于所述图形上的反射层。

本发明的技术方案中，将阵列基板上的凹/凸图形设计为边数大于4的中心对称图形，例如，使用六边形或圆形的图形设计，相比于现有技术中传统的方形、菱形的图形，能保证显示面板各个方向反射率的均一性较优，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

进一步，本发明的技术方案中，还在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形或内倒角形，这样就能保证在有限的空间中多增加上下左右四个方向的反射率。

进一步，本发明的技术方案中，同时为了减小附生的耦合电容(Cpd)对产品的影响，以及保证通电后所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处的绝缘、可靠性能；故在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处未放置Bump图形，能有效的减轻闪烁。

附图说明

图1a～1c为现有技术的反射式显示装置的Bump工艺中采用的几种Bump图形的示意图；

图2a～2c为现有技术的反射式显示装置的Bump工艺中采用的几种Bump图形显微镜下的实拍图；

图3为对现有技术的反射式显示装置的显示面板进行反射率测试的四个方向的位置说明图；

图4为对现有技术的反射式显示装置的显示面板在四个方向进行反射率测试的结果示意图；

图5a为针对现有技术的反射式显示装置的显示面板在对角线方向进行反射率测试的示意图；

图5b为针对现有技术的反射式显示装置的显示面板在对角线方向进行反射率测试的结果示意图；

图6、7为本发明实施例提供的一种反射式显示器件的显示面板中阵列基板上的Bump图形示意图；

图8为本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

需要说明的是，本发明实施例中所有使用“第一”和“第二”的表述均是为了区分两个相同名称非相同的实体或者非相同的参量，可见“第一”“第二”仅为了表述的方便，不应理解为对本发明实施例的限定，后续实施例对此不再一一说明。

本发明的发明人对现有的反射式显示装置进行多次实验，并分析实验结果：目前反射式显示装置的Bump工艺中存在如图1a～1c所示的几种图形的Bump设计，其在显微镜下的实拍图分别如图2a～2c所示。从图中可以看出这三种设计下的图形均存在一定的方向性，故对其显示面板四个方向的实际的反射率进行了测试，测试的四个方向的位置说明如图3所示，测试结果如图4所示。

从以上测试结果的数据中可以明显看出由于图形不同，产品在四个方向的反射率亦存在较大差异，其中图1a设计图形中的反射率较大值在L(左侧)和R(右侧)方向；而图2a的设计图形中的反射率较大值则在DP(下侧)和DO(上侧)方向；图3a设计图形由于其偏向于方形，所以四个方向的反射率相对均一，但由于其图形大小差异较多，故其保证反射的同时会导致其闪烁值偏大。

为进一步验证图形与反射率的关系，针对图1a的设计图形，在对角线方向进行了反射率测试如图5a所示，测试结果如图5b所示。

图5b中，DP侧“旋转后”指的是光从DP侧入射，现有的反射式显示装置的显示面板顺时针旋转30°左右；类似，DP侧“旋转前”则指的是光从DP侧入射，现有的反射式显示装置的显示面板逆时针旋转30°左右。

从图5b的测试结果数据可以看出，显示面板旋转后，L、R、DP、DO四个方向的反射率均一性差。

基于上述的测试和数据分析，本发明的发明人发现显示面板的反射率与其Bump工艺中设计的图形存在直接关系。

因此，本发明的技术方案中，将Bump工艺中于阵列基板上形成的凹/凸图形设计为边数大于4的中心对称图形，例如，使用六边形或圆形的图形设计，相比于现有技术中传统的方形、菱形的图形，能保证显示面板各个方向反射率的均一性较优，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

进一步，本发明的技术方案中，还在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形或内倒角形，这样就能保证在有限的空间中多增加上下左右四个方向的反射率。

此外，本发明的发明人还考虑到，所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处往往布设有较多走线、过孔等，在通电后便会产生电流；为了保证这些区域的绝缘、可靠性能，以及避免产生对像素区Pixel附生的耦合电容(Cpd)，这些区域可以不放置Bump图形，使得这些区域具有最大的树脂厚度，从而能有效的减轻闪烁。

下面结合附图详细说明本发明技术方案。

本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板，包括：阵列基板、在所述阵列基板上形成的Bump图形，以及覆盖于所述图形上的反射层。

其中，在阵列基板上形成的Bump图形具体可以是凹图形，也可以是凸图形。

如图6所示，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在阵列基板上形成的凹或凸的图形包括边数大于4的中心对称图形，例如，可以是六边形或圆形。这种边数大于4的中心对称图形，能保证显示面板各个方向的反射率均一性较优，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

进一步，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在阵列基板上形成的Bump图形中还可包括：放置于对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形，其中，四个直角形的尺寸可以一致也可以不一致；或者，如图7所示，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在阵列基板上形成的Bump图形中还可包括：放置于对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的内倒角形，其中四个内倒角形的尺寸可以一致也可以不一致。这样就可以保证在有限的空间中多增加上下左右四个方向的反射率。

如图6、7所示，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在阵列基板上形成的Bump图形中还可包括：放置于在对应所述阵列基板中的像素的四个边沿内侧位置处的长条形，长条形的长度可以与直角形的一条边的长度一样。

较佳地，为了尽可能使对应所述阵列基板中的一个像素位置处的Bump图形的数量最大化，增加其反射率，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在对应所述阵列基板中的一个像素位置处密布有大小尺寸至少两种的多个边数大于4的中心对称图形。其中，一种为标准尺寸的中心对称图形，比如，可以是直径为11um的中心对称图形，其高度可以是0.94um；若该图形为凸图形，则其外壁与阵列基板的平面的夹角可以是9.7°；其它较小尺寸的中心对称图形，比如，可以是直径为4um的中心对称图形，其高度则为0.34um，其外壁与阵列基板的平面的夹角也可以是9.7°；较小尺寸的中心对称图形可用以填充标准尺寸的中心对称图形之间的区域，从而增加反射率。

进一步，考虑减小附生的耦合电容(Cpd)对产品的影响，以及保证通电后所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处的绝缘、可靠性能，因此，本发明实施例提供的一种反射式显示器件中的显示面板中，在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处未放置Bump图形，能有效的减轻闪烁。

本发明实施例提供的一种上述显示面板的制造方法，流程如图8所示，包括如下步骤：

步骤S801：在阵列基板上形成凹/凸图形。

具体地，可以在阵列基板上涂覆一层树脂，进而通过Photo(光刻)工艺对树脂进行刻蚀，形成凹或凸的Bump图形；所形成的图形中包括边数大于4的中心对称图形。所述边数大于4的中心对称图形具体可以是六边形，或者也可以是圆形。如何通过Photo工艺在阵列基板上形成Bump图形为本领域技术人员所熟知，此处不再赘述。

此外，在通过Photo工艺形成边数大于4的中心对称图形时，还可在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形，如图6所示；或者，在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的内倒角形如图7所示。

此外，在通过Photo工艺形成边数大于4的中心对称图形时，还可在对应所述阵列基板中的像素的四个边沿内侧位置处的长条形，如图6、7所示。

较佳地，对于所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处可以不放置Bump图形，也就是说，在通过Photo工艺形成边数大于4的中心对称图形时，在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处并不进行刻蚀，使得对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处的树脂具有最大厚度，从而在数据Data线和薄膜晶体管TFT通电后，保证这些区域的绝缘、可靠性能，也可避免产生对像素区Pixel附生的耦合电容，从而能有效的减轻闪烁。

步骤S802：形成覆盖于所述图形上的反射层。

本步骤中可采用现有的方法形成覆盖于凹凸的Bump图形上的反射层，此处不再赘述。

本发明的技术方案中，将阵列基板上的凹/凸图形设计为边数大于4的中心对称图形，例如，使用六边形或圆形的图形设计，相比于现有技术中传统的方形、菱形的图形，能保证显示面板各个方向反射率的均一性较优，避免因各方向的反射率不均一而导致的显示闪烁问题。

进一步，本发明的技术方案中，还在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形或内倒角形，这样就能保证在有限的空间中多增加上下左右四个方向的反射率。

进一步，本发明的技术方案中，同时为了减小附生的耦合电容(Cpd)对产品的影响，以及保证通电后所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处的绝缘、可靠性能；故在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处未放置Bump图形，能有效的减轻闪烁。

本技术领域技术人员可以理解，本发明中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本发明中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本发明中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本发明的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，步骤可以以任意顺序实现，并存在如上所述的本发明的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。因此，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括：阵列基板，其特征在于，还包括：

在所述阵列基板上形成的凹/凸图形，以及覆盖于所述图形上的反射层；

其中，所述图形包括边数大于4的中心对称图形。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述中心对称图形具体为六边形或圆形。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述图形还包括：

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形；或者

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的内倒角形。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述图形还包括：

在对应所述阵列基板中的像素的四个边沿内侧位置处的长条形。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在对应所述阵列基板中的一个像素位置处密布有大小尺寸至少有两种的多个中心对称图形。

6.根据权利要求1-6任一所述的显示面板，其特征在于，在对应所述阵列基板中的数据Data线和薄膜晶体管TFT位置处未设置图形。

7.一种反射式显示器件，包括：如权利要求1-6任一所述的显示面板。

8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

在阵列基板上形成凹/凸图形，其中，所述图形包括边数大于4的中心对称图形；

形成覆盖于所述图形上的反射层。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述中心对称图形具体为六边形或圆形。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述图形还包括：

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的直角形；或者

在对应所述阵列基板中的像素的四个边角内侧位置处的内倒角形。