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CN108987431A - 像素结构及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种像素结构及其制作方法。该像素结构包括：基板；层叠于所述基板之上的像素界定层；所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank，以及由所述第一像素bank和所述第二像素bank围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；所述第一像素bank两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，所述第二像素bank两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；所述第一像素bank的表面设有第一亲液像素界定层。该像素结构能够在实现高分辨率印刷的同时，避免各功能层之间的漏电流的出现，优化显示效果。

Description

像素结构及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及像素结构及其制作方法。
背景技术
有机电致发光二极管(OLED)和量子点发光二极管(QLED)是目前显示器件研究的两个主要方向。有机电致发光二极管(OLED)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、轻薄等优点，量子点发光二极管(QLED)具有光色纯度高、发光量子效率高、发光颜色易调、使用寿命长等优点。而采用溶液加工制作OLED以及QLED显示器，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。
在印刷工艺中，通过像素排列结构的优化，将相邻像素相同颜色子像素集中在一起，然后通过像素bank结构的优化，能够扩大墨水的沉积区域，从而实现高分辨率显示器的制备。但是，采用这种结构时，同一墨水沉积区域内的子像素的各功能层均为一个整体，容易引起横向漏电流，进而影响整个显示面板的显示对比度以及显示效果。
发明内容
基于此，有必要提供一种像素结构。该像素结构能够在实现高分辨率印刷的同时，避免各功能层之间的漏电流的出现，优化显示效果。
一种像素结构，包括：
基板；
层叠于所述基板之上的像素界定层；所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank，以及由所述第一像素bank和所述第二像素bank围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；
所述第一像素bank两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，所述第二像素bank两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；
所述第一像素bank的表面设有第一亲液像素界定层。
在其中一个实施例中，所述第二像素bank与所述子像素的功能层接触的表面设有第二亲液像素界定层。由此能够保证功能层墨水在电极层上的铺展，防止墨水干燥时发生回缩引起短路现象。
在其中一个实施例中，所述第二像素bank由疏液材料组成。将所述第二像素bank设置为由疏液材料组成，可以避免墨水在印刷时溢出到相邻的其他墨水沉积区，引起混色。
在其中一个实施例中，所述第二像素bank的厚度为800-1500nm；所述子像素的功能层的厚度为100-500nm。合理设置所述第二像素bank和所述功能层的厚度(即所述第二亲液像素界定层在所述第二像素bank上覆盖的高度)，能够在使功能层墨水良好铺展的同时，保证打印过程中墨水沉积区的墨水不会溢出到相邻的其他墨水沉积区。
在其中一个实施例中，所述第一亲液像素界定层和/或所述第二亲液像素界定层的厚度为50-200nm。
在其中一个实施例中，所述第一像素bank的厚度为800-1500nm。
在其中一个实施例中，所述第一像素bank由疏液材料组成。
在本发明的像素结构中，所述基板可以是玻璃基板或柔性基板，其上可以具有TFT驱动阵列，用于驱动发光元器件。电极设置于所述基板之上，可为导电膜层。根据需要，当显示面板为底发射型面板时，该导电膜层为透明导电膜层，如ITO、IZO等导电金属氧化物或石墨烯、导电聚合物等高导有机导电材料；当显示面板为顶发射型面板时，该导电膜层为反射型导电膜层，如Al、Ag或它们的合金等高导电金属薄膜。
本发明还提供所述的像素结构的制作方法，包括如下步骤：
获取所述基板；
于所述基板上沉积形成所述像素界定层；所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank，以及由所述第一像素bank和所述第二像素bank围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；所述第一像素bank两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，所述第二像素bank两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；
于所述第一像素bank的表面形成所述第一亲液像素界定层。
在其中一个实施例中，还包括如下步骤：于所述第二像素bank与所述子像素的功能层接触的表面形成所述第二亲液像素界定层。
本发明还提供一种显示面板，包括所述像素结构或所述制作方法制作的像素结构。
本发明还提供一种显示装置，包括所述的显示面板。
与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
本发明的像素结构，将所述第一像素bank的表面设有第一亲液像素界定层，能够在不降低该处像素界定bank的高度的同时，利用亲液性质实现相同像素颜色的像素腔中墨水的铺展，扩大墨水的沉积区域，保证像素结构的高分辨率，同时所述第一像素bank具有与所述第二像素bank一样的高度，防止因墨水沉积区像素限定层高度较小使得有机功能层在此区域产生横向漏电流，优化显示效果。
进一步地，设置所述第二像素bank与所述子像素的功能层接触的表面设有第二亲液像素界定层，能够保证功能层墨水在电极层上的铺展，防止墨水干燥时发生回缩引起短路现象。
附图说明
图1为本发明一实施例中的像素结构示意图；
图2为图1所示像素结构的俯视图；
图3为图1所示像素结构的制作工艺流程图；
图4为图1所示像素结构的制作方法中步骤S1的结构示意图；
图5为图1所示像素结构的制作方法中步骤S3的结构示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的像素结构及其制作方法作进一步详细的说明。
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
实施例
本实施例一种像素结构，如图1和2所示，包括：
基板100；
层叠于基板100之上的像素界定层200；像素界定层200包括第一像素bank300和第二像素bank400，以及由第一像素bank300和第二像素bank400围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；第一像素bank300两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，第二像素bank400两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；
第一像素bank300的表面设有第一亲液像素界定层202。可理解，在其它实施例中，第一像素bank300也可以整个均采用亲液材料制作，使其表面具有亲液性即可。
上述像素结构，于第一像素bank300的表面设置第一亲液像素界定层202，能够在不降低该处像素界定层的高度的同时，利用亲液性质实现相同像素颜色的像素腔中墨水的铺展，扩大墨水的沉积区域，保证像素结构的高分辨率，同时第一像素bank300具有与第二像素bank400一样的高度，防止因墨水沉积区像素限定层高度较小使得有机功能层在此区域产生横向漏电流，优化显示效果。
进一步地，第二像素bank400与所述子像素的功能层接触的表面设有第二亲液像素界定层203。由此能够保证功能层墨水在电极层上的铺展，防止墨水干燥时发生回缩引起短路现象。
在本实施例中，第二像素bank400由疏液材料组成，结合第二亲液像素界定层203，形成部分亲水的结构，可以避免墨水在印刷时溢出到相邻的其他墨水沉积区，引起混色。具体地，第二像素bank400的厚度为800-1500nm；所述子像素的功能层的厚度(即第二亲液像素界定层203在第二像素bank400上覆盖的垂直高度)为100-500nm。能够在使功能层墨水良好铺展的同时，保证打印过程中墨水沉积区的墨水不会溢出到相邻的其他墨水沉积区。
第一亲液像素界定层202和第二亲液像素界定层203的厚度可设置为50-200nm，由此能够获得较佳的功能层墨水铺展效果。
另外，为了便于在制作形成第二像素bank400的同时进行第一像素bank300的制作，简化器件的制作工艺，在本实施例中，将第一像素bank300也设置为由疏液材料组成。
上述像素结构的制作工艺流程图如图3所示，包括如下步骤：
S1、提供基板100，基板上具有驱动电路及图形化像素电极，如图4所示；
S2、整面沉积一层疏液材料层；
S3、通过黄光工艺图形化疏液材料层，形成第一像素bank300和第二像素bank400；如图5所示；
S4、整面沉积一层亲液材料层；
S5、通过黄光工艺图形化亲液材料层，分别在第一像素bank300的表面形成第一亲液像素界定层202，同时在第二像素bank400与所述子像素的功能层接触的表面形成第二亲液像素界定层203，露出其他疏液性的第二像素bank400，即得所述像素结构，如图1所示。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种像素结构，其特征在于，包括：
基板；
层叠于所述基板之上的像素界定层；所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank，以及由所述第一像素bank和所述第二像素bank围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；
所述第一像素bank两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，所述第二像素bank两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；
所述第一像素bank的表面设有第一亲液像素界定层。
2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第二像素bank与所述子像素的功能层接触的表面设有第二亲液像素界定层。
3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述第二像素bank由疏液材料组成。
4.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，所述第二像素bank的厚度为800-1500nm；所述子像素的功能层的厚度为100-500nm。
5.根据权利要求1-5任一项所述的像素结构，其特征在于，所述第一亲液像素界定层和/或所述第二亲液像素界定层的厚度为50-200nm。
6.根据权利要求1-5任一项所述的像素结构，其特征在于，所述第一像素bank的厚度为800-1500nm。
7.权利要求1-6任一项所述的像素结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
获取所述基板；
于所述基板上沉积形成所述像素界定层；所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank，以及由所述第一像素bank和所述第二像素bank围成的与各子像素一一对应的多个像素腔；所述第一像素bank两侧的像素腔用于设置颜色相同的子像素，所述第二像素bank两侧的像素腔用于设置颜色不同的子像素；
于所述第一像素bank的表面形成所述第一亲液像素界定层。
8.根据权利要求7所述的像素结构的制作方法，其特征在于，还包括如下步骤：于所述第二像素bank与所述子像素的功能层接触的表面形成所述第二亲液像素界定层。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的像素结构或权利要求7-8任一所述制作方法制作的像素结构。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
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