CN108802883A - 一种低反射红外截止滤光片的制备技术 - Google Patents
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Abstract
本发明公开的属于低反射红外截止滤光片技术领域，具体为一种低反射红外截止滤光片的制备技术，该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片，本方案调整红外截止滤光片的镀膜工艺，优化膜系配比，达到同时降低0°和30°条件下的反射率，制备方案简单，制备成品效果较佳。
Description
技术领域
本发明涉及低反射红外截止滤光片技术领域，具体为一种低反射红外截止滤光片的制备技术。
背景技术
可见光波段的反射率是衡量手机摄像头模组用红外截止滤光片光学质量的一项重要指标，目前行业内红外截止滤光片在可见光波段的最大反射率一般在Rmax≤0.8％(0°)和Tmax≤1.0％(30°)。
随着目前在手机摄像头像素的要求越来越高，最为关键的光学部件之一的红外截止滤光片的反射率已经不能满足高端产品的需求，为此，我们提出了一种低反射红外截止滤光片的制备技术。
发明内容
本发明的目的在于提供一种低反射红外截止滤光片的制备技术，以解决上述背景技术中提出的随着目前在手机摄像头像素的要求越来越高，最为关键的光学部件之一的红外截止滤光片的反射率已经不能满足高端产品的需求的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种低反射红外截止滤光片的制备技术，该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：
S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；
S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；
S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片。
优选的，所述步骤S1中的基材为白玻璃或者蓝玻璃。
优选的，所述步骤S1中的氟化镁薄膜的厚度为20-80nm。
优选的，所述步骤S2中的镀膜在真空的状态下镀膜。
优选的，所述步骤S2中的高折射率材料和低折射率材料分别采用二氧化硅和五氧化三钛。
优选的，所述步骤S2中高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分别为20-200nm、80-250nm。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本方案调整红外截止滤光片的镀膜工艺，优化膜系配比，达到同时降低0°和30°条件下的反射率，制备方案简单，制备成品效果较佳。
附图说明
图1为本发明制备工艺流程图；
图2为本发明实施例的实验数据图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种技术方案：一种低反射红外截止滤光片的制备技术，该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：
S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；
S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；
S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片。
其中，所述步骤S1中的基材为白玻璃或者蓝玻璃，所述步骤S1中的氟化镁薄膜的厚度为20-80nm，所述步骤S2中的镀膜在真空的状态下镀膜，所述步骤S2中的高折射率材料和低折射率材料分别采用二氧化硅和五氧化三钛，所述步骤S2中高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分别为20-200nm、80-250nm。
实施例
该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：
S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在蓝玻璃基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，氟化镁薄膜的厚度为50nm±5nm，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；
S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料二氧化硅和低折射率材料五氧化三钛先后通过电子束蒸镀的方式在真空的状态下交替镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上，交替镀膜的方式达到紫外-近红外波段的选择性透过和反射的目的，高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分别为110nm±5nm、160nm±5nm，高折射率材料在氟化镁薄膜形成高折射率材料薄膜，低折射率材料在高折射率材料薄膜的表面形成低折射率材料薄膜，光线在不同膜层传播过程中不断相位加强和抵消，保证透过率和反射率；
S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片。
可见光波段范围为430-720nm，通过以上的制备工艺制备的滤光片在此范围内进行光反射率实验的结果数据如图2所示：
例如可见光波段为410nm时：光线与滤光镜的角度为0°，反射率为0.40；光线与滤光镜的角度为30°，反射率为0.16。
例如例如可见光波段为581nm时：光线与滤光镜的角度为0°，反射率为0.25；光线与滤光镜的角度为30°，反射率为0.45。
例如可见光波段为716nm时：光线与滤光镜的角度为0°，反射率为0.36；光线与滤光镜的角度为30°，反射率为0.42。
通过图2中的折线图数据能够得出，0°反射光谱可以控制在Rmax≤0.4％，而30°反射光谱可以控制在Rmax≤0.5％。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：该低反射红外截止滤光片的制备技术的具体制备步骤如下：
S1：基材表面镀氟化镁薄膜：在基材表面通过电子束蒸镀的方式镀氟化镁薄膜，将镀膜后的基材静置待氟化镁薄膜成型；
S2：高低折射率材料交替镀膜：将高折射率材料和低折射率材料先后通过电子束蒸镀的方式镀在步骤S1中镀氟化镁薄膜后的基材上；
S3：镜片表面处理：磨光步骤S2中镀膜后表面光滑度不够的镜片。
2.根据权利要求1所述的一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：所述步骤S1中的基材为白玻璃或者蓝玻璃。
3.根据权利要求1所述的一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：所述步骤S1中的氟化镁薄膜的厚度为20-80nm。
4.根据权利要求1所述的一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：所述步骤S2中的镀膜在真空的状态下镀膜。
5.根据权利要求1所述的一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：所述步骤S2中的高折射率材料和低折射率材料分别采用二氧化硅和五氧化三钛。
6.根据权利要求1所述的一种低反射红外截止滤光片的制备技术，其特征在于：所述步骤S2中高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分别为20-200nm、80-250nm。
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