CN108227403B - 曝光旋转治具 - Google Patents

Abstract

一种曝光旋转治具，包含支撑架和容纳组件。支撑架具有相对的二定位板。容纳组件可转动地设置于该二定位板内侧。容纳组件包含二内框板、棘轮机构、二旋转轴、复数个固定轴以及复数个卡条。二内框板分别位于二定位板的内侧。棘轮机构位于该二内框板其中之一与该二定位板其中之一之间。旋转轴穿过二内框板与二定位板，且二旋转轴其中之一贯穿棘轮机构。每一固定轴的两端分别固定于二内框板的角落。每一卡条可拆卸地跨接于二内框板。棘轮机构可以让容纳组件于支撑架上旋转多个定位角度，因此在曝光过程中可在不取下基板的前提下进行基板的多个部分曝光。曝光旋转治具可以提高产出效率，并减少治具的成本。

Description

曝光旋转治具

技术领域

本揭露是有关于一种曝光旋转治具。

背景技术

当生产的基板欲进行UV曝光时，需要对基板的多个部分进行曝光，然而现有的治具机构仅能用来定位基板，当光源启动时，仅能以单一方向对基板的一部分曝光，若要对整个基板进行曝光，则需将基板从治具机构取出，待变更基板角度后(例如旋转基板)再次装回治具机构，以更换基板曝光的位置，需拆卸并装置基板多次才能完成基板对于曝光制程的需求。此外，每次更换曝光方向时，需要更换不同的治具机构，导致基板反复装卸容易撞伤，降低作业的效率，且提高了人力的负担，不符合生产的效益。

发明内容

有鉴于此，本揭露的一些实施例揭露一种经过改良之卡条可拆卸的曝光旋转治具，可以使待曝光基板在不需要反复拆卸的情况下，透过棘轮机构旋转使得基板经过多次旋转而完成基板曝光，相对于一般卡塞作业效率更高，稳定性更佳。

根据本揭露一实施方式，一种曝光旋转治具包含支撑架和容纳组件。支撑架具有相对的二定位板。容纳组件可转动地设置于二定位板内侧，且容纳组件包含二内框板、棘轮机构、二旋转轴、复数个固定轴以及复数个卡条。二内框板分别位于二定位板的内侧。棘轮机构位于二内框板其中之一与二定位板其中之一之间。旋转轴穿过二内框板与二定位板，且二旋转轴其中之一贯穿棘轮机构。每一固定轴的两端分别固定于二内框板的角落。每一卡条可拆卸地跨接于二内框板。

在一实施方式中，内框板的角落具有复数个定位孔，且固定轴插入定位孔中。

在一实施方式中，内框板的边缘具有复数个凹部，且卡条定位于凹部中。

在一实施方式中，内框板更包含复数个拨块与复数个磁铁。拨块分别枢接于凹部的开口处。磁铁位于内框板中，使得拨块分别由磁铁吸附而定位。

在一实施方式中，每个卡条具有复数个卡槽，用以定位至少一待曝光基板。

在一实施方式中，棘轮机构包含了棘轮元件和伸缩块。棘轮元件由二旋转轴其中之一贯穿，伸缩块位于二定位板其中之一的内侧，且可伸缩地抵接棘轮元件。

在一实施方式中，棘轮元件上具有本体与围绕本体的复数个凸齿。每个凸齿之二侧缘与本体的连接处具有二接点，且二接点与本体之圆心的连线夹45度。

在一实施方式中，支撑架的底部具有镂空区。曝光旋转治具更包含底座。底座位在具有镂空区的支撑架下方。底座具有底板与邻接底板的侧壁，底板与侧壁定义出一空间，且此空间连通支撑架的镂空区。

在一实施方式中，当容纳组件倾斜地位于二定位版内侧时，容纳组件至少部分位于底座的空间中。

在本揭露上述实施方式中，曝光旋转治具在容纳组件的内框板与支撑架的定位板之间设置了一个棘轮机构。此棘轮机构可以让容纳组件于支撑架上旋转多个定位角度，因此在曝光过程中可在不取下基板的前提下进行基板的多个部分曝光。此外，棘轮机构还可避免反转造成待曝光的基板重复曝光，具有防呆的效果。另外，容纳组件的卡条可避免旋转时待曝光基板掉落，并可在曝光时取下卡条以增加曝光区域。曝光旋转治具可以提高产出效率，并减少治具的成本。曝光旋转治具的稳定性佳，可解决基板反复装卸容易撞伤及浪费人力等传统治具的问题。

附图说明

图1为根据本揭露一实施方式之曝光旋转治具的立体图。

图2为图1之曝光旋转治具的爆炸图。

图3为图1之曝光旋转治具的局部放大图。

图4为图2之棘轮元件的正视图。

图5为图1之曝光旋转治具的容纳组件于水平状态的正视图。

图6为图1之曝光旋转治具的容纳组件于垂直状态的正视图。

图7为图1之曝光旋转治具的容纳组件于倾斜状态且放入基板时的立体图。

图8为图1之曝光旋转治具的容纳组件于水平状态且放入多个基板时的立体图。

图9为图1之曝光旋转治具的容纳组件于垂直状态且放入多个基板时的立体图。

附图标记：

100：曝光旋转治具

110：支撑架

112a、112b：定位板

114：镂空区

120：容纳组件

122a、122b：内框板

124：定位孔

126：凹部

132：拨块

133：磁铁

140：棘轮机构

142：棘轮元件

143：本体

144：凸齿

144a、144b：凸齿

145：长侧缘

146：短侧缘

147a、147b、147c：接点

150a、150b：旋转轴

160：固定轴

170：卡条

172：卡槽

180：底座

182：底板

184：侧壁

186：空间

190：基板

θ₁、θ₂：夹角

具体实施方式

以下将以图式揭露本揭露之复数个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本揭露。也就是说，在本揭露部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式绘示之。

图1为根据本揭露一实施方式之曝光旋转治具100的立体图。图2为图1之曝光旋转治具100的爆炸图。同时参阅图1与图2，曝光旋转治具100包含了支撑架110和容纳组件120。支撑架110具有相对的二个定位板112a和112b。容纳组件120可以转动地设置在定位板112a和112b的内侧。容纳组件120包含了二个内框板122a和122b、棘轮机构140、二个旋转轴150a和150b、复数个固定轴160和复数个卡条170。内框板122a位于定位板112a的内侧，而内框板122b位于定位板112b的内侧。棘轮机构140位于内框板122a与定位板112a之间。固定轴160的两端分别固定于内框板122a和122b的角落。卡条170可拆卸地跨接于内框板122a和122b。

在本实施方式中，内框板122a和122b的角落具有复数个定位孔124，使得固定轴160的两端可插入定位孔124中而跨接于内框板122a和122b。

此外，内框板122a和122b的边缘具有复数个凹部126。在本实施方式中，内框板122a和122b的每一边至少具有二凹部126，而卡条170定位于凹部126中。容纳组件120的每一内框板122a和122b包含了复数个拨块132和复数个磁铁133。图3为图1之曝光旋转治具100的局部放大图。如图所示，在内框板122a的边缘，拨块132分别枢接于凹部126的开口处，而磁铁133位于内框板122a中。

图3右方的拨块132为开启状态，当拨开拨块132时，凹部126上方形成开口，可以取出或放置相对应的卡条170。图3左方的拨块132为关闭状态，当闭合拨块132时，凹部126呈现封闭状态，进而定位卡条170。另一内框板122b的边缘结构与图3之内框板122a的边缘结构相似，不重复赘述。

同时参阅图1与图3，当卡条170放入内框板122a和122b的凹部126时，透过内框板122a和122b内的磁铁133与金属之间的吸附力，使得拨块132由磁铁133吸附而定位，防止拨块132转动。举例来说，当拨块132为开启状态时，磁铁133吸附拨块132，使得凹部126处于开启状态以便于放入或取出卡条170。当拨块132为关闭状态时，另一磁铁133吸附拨块132，使得凹部126处于关闭状态以便于固定卡条170。

在本实施方式中，容纳组件120的卡条170具有复数个卡槽172，用以定位至少一如图7之待曝光的基板190。

图4为图2之棘轮元件142的正视图。图5为图1之曝光旋转治具100的容纳组件120于水平状态的正视图。为了让图5的棘轮机构140可清楚描绘，将图5遮蔽棘轮机构140的定位板112a以虚线表示。同时参阅图4与图5，容纳组件120的棘轮机构140包含了伸缩块141和棘轮元件142。棘轮元件142被旋转轴150a贯穿，伸缩块141位于定位板112a的内侧，并且可伸缩地抵接棘轮元件142。

棘轮机构140的棘轮元件142具有本体143与围绕本体143的复数个凸齿144。每个凸齿144具有二侧缘，分别为长侧缘145与短侧缘146。举例来说，凸齿144a之短侧缘146与本体143的连接处具有接点147a，凸齿144a之长侧缘145与本体143的连接处具有接点147b，且接点147a和接点147b与本体143的圆心连线具有夹角θ₁。相邻于凸齿144a的凸齿144b其长侧缘145与本体143的连接处具有接点147c，接点147a和接点147c与本体143的圆心连线具有夹角θ₂。

在本实施方式中，棘轮元件142上的接点147a和接点147b与本体143的圆心连线夹角θ₁可以为45度，使得棘轮元件142上凸齿144的数量可以为8，进而使得容纳组件120于定位板112a和112b之间具有8个定位点。透过这8个定位点，除了可控制放入待曝光基板190(见图7)时容纳组件120倾斜角度，亦可控制容纳组件120的旋转定位点，使得待曝光的基板190在旋转多次(例如四次)后完成曝光。

此外，棘轮元件142上的每个凸齿144的长侧缘145和短侧缘146自本体143延伸而出，长侧缘145为弧形，且弧形之长侧缘145的长度大于短侧缘146。此设计在棘轮元件142旋转时可以防止内框板122a和122b反向转动，藉此防止待曝光基板190的部分区域重复曝光，具有防呆的作用。

在本实施方式中，伸缩块141之下方可连接弹簧而抵接于棘轮元件142。当棘轮元件142往单一方向旋转时，棘轮元件142迫使伸缩块141下降使弹簧为压缩的状态，当伸缩块141向上卡入棘轮元件142的两凸齿144之间时，弹簧为拉伸的状态，使得棘轮元件142被定位而不会旋转。

图6为图1之曝光旋转治具100的容纳组件120于垂直状态的正视图。同时参阅第图5与图6，棘轮元件142与旋转轴150a具有相同的轴心。当容纳组件120旋转时，例如由图5旋转为图6的状态，或由图6旋转为图5的状态，是以旋转轴150a和150b(见图1)和棘轮元件142为圆心进行旋转。举例来说，若棘轮元件142为图4的设计(即夹角θ₁为45度)，当图5的容纳组件120利用棘轮机构140顺时针旋转时，可让伸缩块141跨过两凸齿144后停止旋转，便可得到图6容纳组件120的状态。

图7为图1之曝光旋转治具100的容纳组件120于倾斜状态且放入基板190时的立体图。如图所示，曝光旋转治具100的支撑架110底部具有镂空区114。曝光旋转治具100还包含底座180，底座180位于支撑架110的下方。底座180具有底板182与邻接底板182的侧壁184。底板182与侧壁184定义出空间186，且此空间186连通支撑架110的镂空区114。

当曝光旋转治具100的容纳组件120倾斜地位于定位板112a和112b内侧时，容纳组件120至少部分位于由底座180的底板和侧壁184定义出的空间186中，此时容纳组件120为倾斜状态。为了方便将待曝光的基板190放入容纳组件120内，可先将容纳组件120利用棘轮机构140旋转至倾斜状态，如图7所示。此时将其中一侧的卡条170取下，放入一个或数个待曝光的基板190，并且让基板190卡入卡条170的卡槽172内，以确保基板190在曝光过程中不会晃动。在倾斜状态中，为了方便将待曝光的基板190放入容纳组件120内，位于图7上侧与左侧的卡条170为取下的状态，但并不用以限制本揭露。

图8为图1之曝光旋转治具100的容纳组件120于水平状态且放入多个基板190时的立体图。将图7的容纳组件120从倾斜状态变为图8的水平状态时，仅需透过旋转容纳组件120，使棘轮机构140来定位容纳组件120的位置即可。举例来说，若棘轮元件142为图4的设计(即夹角θ₁为45度) ，容纳组件120利用棘轮机构140顺时针旋转时，可让伸缩块141跨过单一凸齿144后停止旋转，便可将容纳组件120从倾斜状态变为水平状态。从倾斜状态变为水平状态的过程中，可安装内框板122a和122b四边缘的卡条170以防止基板190掉出。当容纳组件120为水平状态且基板190欲进行曝光时，可将上方的卡条170取下，以利曝光，如图8所示。

图9为图1之曝光旋转治具100的容纳组件120于垂直状态且放入多个基板190时的立体图。将图8的容纳组件120从水平状态变为图9的垂直状态时，仅需透过旋转容纳组件120，使棘轮机构140来定位容纳组件120的位置即可。举例来说，若棘轮元件142为图4的设计(即夹角θ₁为45度、夹角θ₂为90度)，容纳组件120利用棘轮机构140顺时针旋转时，可让伸缩块141跨过两凸齿144后停止旋转，便可将容纳组件120从水平状态变为垂直状态。从水平状态变为垂直状态的过程中，可安装内框板122a和122b四边缘的卡条170以防止基板190掉出。当容纳组件120为垂直状态且基板190欲进行曝光时，可将上方的卡条170取下，以利曝光，如图9所示。

在一实施方式中，欲将待曝光的基板190完全曝光，需将容纳组件120透过棘轮机构140旋转多次(例如四次)，以达到完全曝光的效果，但并不用以限制本揭露。

在本实施方式中，固定轴160的材质可以为304不锈钢(SUS304) 。卡条170的材质可以包含304不锈钢、铁氟龙和纤。内框板122a和122b的材质可以为6061阳极氧化铝合金，支撑架110的材质可以为涂布有烤漆的冷轧钢卷(Steel plate coldrolled coil；SPCC)。然而，固定轴160、卡条170、支撑架110、内框板122a和122b的材质并不以上述材料为限。

虽然本揭露已以实施方式揭露如上，然其并非用以限定本揭露，任何熟习此技艺者，在不脱离本揭露之精神和范围内，当可作各种之更动与润饰，因此本揭露之保护范围当视后附之申请专利范围所界定者为准。

Claims (10)

1.一种曝光旋转治具，其特征在于，包含：

一支撑架，具有相对的二定位板；以及

一容纳组件，可转动地设置于该二定位板内侧，该容纳组件包含：

二内框板，分别位于该二定位板的内侧；

一棘轮机构，位于该二内框板其中之一与该二定位板其中之一之间；

二旋转轴，穿过该二内框板与该二定位板，且该二旋转轴其中之一贯穿该棘轮机构；

复数个固定轴，每一该些固定轴的两端分别固定于该二内框板的角落；以及

复数个卡条，可拆卸地跨接于该二内框板。

2.如权利要求1所述之曝光旋转治具，其中该些内框板的角落具有复数个定位孔，且该些固定轴插入该些定位孔中。

3.如权利要求1所述之曝光旋转治具，其中该些内框板的边缘具有复数个凹部，该些卡条定位于该些凹部中。

4.如权利要求3所述之曝光旋转治具，其中该些内框板更包含：

复数个拨块，分别枢接于该些凹部的开口处；以及

复数个磁铁，位于该些内框板中，使得该些拨块分别由该些磁铁吸附而定位。

5.如权利要求1所述之曝光旋转治具，其中该些卡条具有复数个卡槽，用以定位至少一待曝光基板。

6.如权利要求1所述之曝光旋转治具，其中该棘轮机构包含：

一棘轮元件，由该二旋转轴其中之一贯穿；以及

一伸缩块，位于该二定位板其中之一的内侧，且可伸缩地抵接该棘轮元件。

7.如权利要求6所述之曝光旋转治具，其中该棘轮元件上具有一本体与围绕该本体的复数个凸齿，每一该些凸齿之二侧缘与该本体的连接处具有二接点，且该二接点与该本体之圆心的连线夹45度。

8.如权利要求7所述之曝光旋转治具，其中每一该些凸齿的该二侧缘自该本体延伸而出，该二侧缘的其中之一为弧形，且弧形之该侧缘的长度大于该二侧缘的另一者。

9.如权利要求1所述之曝光旋转治具，其中该支撑架的底部具有一镂空区，该曝光旋转治具更包含：

一底座，位于该支撑架下方，该底座具有一底板与邻接该底板的一侧壁，该底板与该侧壁定义出一空间，且该空间连通该支撑架的该镂空区。

10.如权利要求9所述之曝光旋转治具，其中当该容纳组件倾斜地位于该二定位板内侧时，该容纳组件至少部分位于该底座的该空间中。