[go: up one dir, main page]

CN108083499A - 一种集成电路板清洗液废水的处理方法 - Google Patents

一种集成电路板清洗液废水的处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108083499A
CN108083499A CN201711410373.6A CN201711410373A CN108083499A CN 108083499 A CN108083499 A CN 108083499A CN 201711410373 A CN201711410373 A CN 201711410373A CN 108083499 A CN108083499 A CN 108083499A
Authority
CN
China
Prior art keywords
waste water
cleaning solution
solution waste
integrated circuit
circuit plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201711410373.6A
Other languages
English (en)
Inventor
樊超
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUZHOU SAIYUAN MICROELECTRONIC Co Ltd
Original Assignee
SUZHOU SAIYUAN MICROELECTRONIC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU SAIYUAN MICROELECTRONIC Co Ltd filed Critical SUZHOU SAIYUAN MICROELECTRONIC Co Ltd
Priority to CN201711410373.6A priority Critical patent/CN108083499A/zh
Publication of CN108083499A publication Critical patent/CN108083499A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
    • C02F1/281—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using inorganic sorbents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/444—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Water Treatment By Sorption (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

本发明提供了一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，清洗液废水的处理包括如下步骤：步骤1：向清洗液废水中添加15～30mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置30～100min；步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的第一吸附柱和第二吸附柱；步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐。本发明根据在集成电路芯片清洗液废水的特性，对废水中含有污染成分尤其是重金属实现了有效的去除，并且将处理后的水进行回用，实现循环绿色生产。

Description

一种集成电路板清洗液废水的处理方法
技术领域
本发明涉及集成电路板领域。更具体地说，本发明涉及一种集成电路板清洗液废水的处理方法。
背景技术
集成电路作为电子产品中的核心部件，其质量的好坏直接决定了到电子整机产品的性能和可靠性的高低。在集成电路的制备过程中，其表面粘附的颗粒、有机物、金属等污染物严重影响器件的性能。随着集成电路板中单元图案的日益微型化以及集成度的日益提高，对器件的性能、可靠性、良品率、使用寿命等的要求越来越高。因此，在集成电路制造过程中的硅氧化、光刻、外延、扩散和引线蒸发等诸多工序前，均会采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，以得到符合清洁度要求的硅片，但由此也产生了大量的废水。
在集成电路板清洗过程中所排废水中含有纤维状物质、铬、镍、锌、酸碱等污染成份，若不进行有效处理或处理不当，将对环境造成严重污染。天然水体受到酸、碱、重金属污染后水体的缓冲作用遭到破坏，使水质恶化、抑制或阻止微生物活动，降低水的自净能力，同时也会对农作物造成危害，重金属离子对身体健康有极大危害，且水中的重金属离子不会被微生物降解，它们可在生物体内吸附，积累和富集，对人类、鱼类、浮游生物的危害极大，严重时可能造成农作物减产或牲畜的死亡。
发明内容
本发明的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。
本发明还有一个目的是提供一种集成电路板清洗液废水的处理方法，其根据在集成电路芯片制造过程中要消耗大量的水，同时使用大量的化学试剂，排放的废水中成分十分复杂的特性，对废水中含有污染成分尤其是重金属实现了有效的去除，并且将处理后的水进行回用，实现循环绿色生产。
为了实现根据本发明的这些目的和其它优点，提供了一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加10～20mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置30～100min，去除废水中的悬浮物质和部分重金属成分；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的第一吸附柱和第二吸附柱，可实现对废水中重金属及其他无机杂质的高效吸附，且运行成本低；
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统；
其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐。
优选的是，其中，所述微生物为诺卡氏菌。
优选的是，其中，所述第一吸附柱为坡缕石吸附柱。
优选的是，其中，所述第二吸附柱为活性炭吸附柱。
优选的是，其中，，所述坡缕石的粒径为0.3～1.5mm。
优选的是，其中，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
优选的是，其中，将所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
本发明至少包括以下有益效果：
(1)本发明对集成电路废水的处理效果显著，可有效实现废水中有机物质，铜、钒、镍、铬等重金属，以及其他比如氨、硫酸盐以及含碘化合物等无机物质，处理效率高；
(2)本发明中经处理后的废水进入回用系统，可以直接用于对水质要求不高的工序，或再经纳滤、反渗透等深度处理用于需要纯水或超纯水的工序；
(3)本发明技术方案采用物理吸附或膜过滤技术，不会引入新的污染物质，简单，运行费用，适用性广，易于推广。
本发明的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本发明的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
<实例1>
一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加10mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置30min，其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐，所述微生物为诺卡氏菌；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的坡缕石吸附柱和活性炭吸附柱，其中所述坡缕石的粒径为0.3～1.0mm，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
<实例2>
一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加20mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置100min，其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐，所述微生物为诺卡氏菌；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的坡缕石吸附柱和活性炭吸附柱，其中所述坡缕石的粒径为1.0～1.5mm，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
<实例3>
一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加15mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置70min，其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐，所述微生物为诺卡氏菌；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的坡缕石吸附柱和活性炭吸附柱，其中所述坡缕石的粒径为0.5～1.2mm，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
<实例4>
一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加13mg/L的微生物絮凝剂，搅拌20min后静置50min，其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐，所述微生物为诺卡氏菌；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的坡缕石吸附柱和活性炭吸附柱，其中所述坡缕石的粒径为0.3～1.5mm，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
<实例5>
一种集成电路板清洗液废水的处理方法，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加18mg/L的微生物絮凝剂，搅拌20min后静置85min，其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐，所述微生物为诺卡氏菌；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的坡缕石吸附柱和活性炭吸附柱，其中所述坡缕石的粒径为0.3～0.7mm，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统，其中，所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
可见，本发明对集成电路废水的处理效果显著，可有效实现废水中有机物质、重金属以及其他无机物质的去除，并且将处理后的水进行回用，实现循环绿色生产，本发明技术方案采用物理吸附或膜过滤技术，不会引入新的污染物质，简单，运行费用，适用性广，易于推广。
尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用。它完全可以被适用于各种适合本发明的领域。对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改。因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的实施例。

Claims (7)

1.一种集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，将集成电路板各工序产生的清洗液废水收集汇总后进行统一处理，所述清洗液废水的处理包括如下步骤：
步骤1：向所述清洗液废水中添加10～20mg/L的絮凝剂，搅拌20min后静置30～100min；
步骤2：步骤1处理后的清洗液废水依次进出入串联连接的第一吸附柱和第二吸附柱；
步骤3：对步骤1处理后的清洗液废水依次进行微滤和超滤处理后，进入回用水处理系统；
其中，所述絮凝剂包括66wt％的微生物絮凝剂、15wt％的聚硅氧化铝铁和19wt％的木质磺酸盐。
2.如权利要求1所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，所述微生物为诺卡氏菌。
3.如权利要求1所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，所述第一吸附柱为坡缕石吸附柱。
4.如权利要求1所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，所述第二吸附柱为活性炭吸附柱。
5.如权利要求3所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，所述坡缕石的粒径为0.3～1.5mm。
6.如权利要求3所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，所述坡缕石的孔径为10～20nm。
7.如权利要求1所述的集成电路板清洗液废水的处理方法，其特征在于，将所述超滤膜对分子量为1000～5000的物质进行截留。
CN201711410373.6A 2017-12-23 2017-12-23 一种集成电路板清洗液废水的处理方法 Pending CN108083499A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711410373.6A CN108083499A (zh) 2017-12-23 2017-12-23 一种集成电路板清洗液废水的处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711410373.6A CN108083499A (zh) 2017-12-23 2017-12-23 一种集成电路板清洗液废水的处理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108083499A true CN108083499A (zh) 2018-05-29

Family

ID=62178943

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711410373.6A Pending CN108083499A (zh) 2017-12-23 2017-12-23 一种集成电路板清洗液废水的处理方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108083499A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108911287A (zh) * 2018-07-23 2018-11-30 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 用于集成电路制造的清洗液再生工艺方法与装置
CN111422995A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 刘水平 一种含微胶囊的絮凝剂及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19923607A1 (de) * 1999-05-25 2000-12-21 Barfknecht Guenter Wasseraufbereitung von galvanischen Spülbädern
CN102815831A (zh) * 2012-09-19 2012-12-12 北京格瑞奥环境科技有限公司 一种用于处理重金属废水及回收重金属的装置及方法
JP5524299B2 (ja) * 2012-09-05 2014-06-18 株式会社東芝 膜ろ過処理システム
CN105540932A (zh) * 2016-01-25 2016-05-04 奥士康科技股份有限公司 一种pcb废水处理工艺
CN106145381A (zh) * 2016-07-07 2016-11-23 马鞍山市顺达环保设备有限公司 一种高效污水处理剂及其制备方法
CN106315918A (zh) * 2016-09-22 2017-01-11 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 一种电镀废水的高效环保处理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19923607A1 (de) * 1999-05-25 2000-12-21 Barfknecht Guenter Wasseraufbereitung von galvanischen Spülbädern
JP5524299B2 (ja) * 2012-09-05 2014-06-18 株式会社東芝 膜ろ過処理システム
CN102815831A (zh) * 2012-09-19 2012-12-12 北京格瑞奥环境科技有限公司 一种用于处理重金属废水及回收重金属的装置及方法
CN105540932A (zh) * 2016-01-25 2016-05-04 奥士康科技股份有限公司 一种pcb废水处理工艺
CN106145381A (zh) * 2016-07-07 2016-11-23 马鞍山市顺达环保设备有限公司 一种高效污水处理剂及其制备方法
CN106315918A (zh) * 2016-09-22 2017-01-11 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 一种电镀废水的高效环保处理方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108911287A (zh) * 2018-07-23 2018-11-30 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 用于集成电路制造的清洗液再生工艺方法与装置
CN111422995A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 刘水平 一种含微胶囊的絮凝剂及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ahmad et al. Recent advances in new generation dye removal technologies: novel search for approaches to reprocess wastewater
CN105923735B (zh) 一种基于高铁酸盐的复合水处理药剂及其制备方法
CN101423265A (zh) 离子交换脱氮除磷深度处理方法
CN206069622U (zh) 污水生物处理装置
CN105060577B (zh) 一种涂料废水处理工艺
CN102826704B (zh) 一种中水回用系统
CN106186235A (zh) 一种高效污水氨氮去除剂
CN108083499A (zh) 一种集成电路板清洗液废水的处理方法
CN203768171U (zh) 净水器内设的滤芯装置
CN102381804A (zh) 一种印染废水回用工艺
CN108483760B (zh) 一种重金属污水深度处理方法
CN103991989A (zh) 处理有机废水的方法
CN101555048B (zh) 同时去除水中天然有机物和重金属的方法
CN108358375B (zh) 一种工业污水处理方法
CN106495379A (zh) 一种电镀漂洗水循环回用及重金属回收工艺
CN101700923B (zh) 一种去除水体中环境激素邻苯二甲酸二甲酯的方法
CN108083498A (zh) 一种集成电路板的绿色制备方法
CN204265490U (zh) 水处理装置
CN205115221U (zh) 城市污水处理系统
CN113429080A (zh) 一种磺胺间甲氧嘧啶生产废水处理工艺
JP2012196657A (ja) フェノール類を含む排水の処理方法
JP2005013926A (ja) 炭酸エチレンなど含有排水処理方法
CN205115219U (zh) 工业无机污水处理系统
CN207877483U (zh) 一种印染废水处理系统
CN105000714A (zh) 混凝处理和膜分离组合废水处理系统及其用途

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180529

RJ01 Rejection of invention patent application after publication