CN107808410B - 阴影深度偏移的处理方法及装置 - Google Patents
阴影深度偏移的处理方法及装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107808410B CN107808410B CN201711024877.4A CN201711024877A CN107808410B CN 107808410 B CN107808410 B CN 107808410B CN 201711024877 A CN201711024877 A CN 201711024877A CN 107808410 B CN107808410 B CN 107808410B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- shadow
- calculating
- pixel
- resolution
- offset
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T15/00—3D [Three Dimensional] image rendering
- G06T15/50—Lighting effects
- G06T15/506—Illumination models
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T15/00—3D [Three Dimensional] image rendering
- G06T15/50—Lighting effects
- G06T15/80—Shading
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Graphics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Image Generation (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
本申请公开了一种阴影深度偏移的处理方法及装置。该方法包括：获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果。通过本申请，解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题。
Description
技术领域
本申请涉及图形处理技术领域，具体而言，涉及一种阴影深度偏移的处理方法及装置。
背景技术
在图形显示中，为了增强场景的立体感与真实感，往往需要为物件添加阴影，形成光影效果。阴影实现的技术主要有两种，一种是体阴影技术（shadow volume），另一种是阴影贴图技术（shadow map）。具体地，体阴影技术从光源方向上根据物件的轮廓，将轮廓后的空间标记为阴影空间，处于此空间内的像素均被阴影覆盖。这种技术实现效果优秀，但是计算量大，不适合对于帧率有要求的实时渲染。阴影贴图技术则是将物件变换到光源空间，并生成一张深度图，深度图中存储了到光源的各个方向上的距离最近值，被称为阴影贴图。在判断是否位于阴影中时，只需要将像素变换到光源空间，并与阴影贴图上对应像素的深度值进行比较，当比阴影贴图深度值不大，则认为处于光照中，否则认为处于阴影中。由于阴影贴图的实用性，这种装置称为阴影显示的主流算法。但是由于阴影深度存储结构的精度有限（浮点数），导致在比较的时候会存在误差，导致当两个相近的数值进行判断的时候，结果可能会发生浮动，时而大时而小，在渲染结果上的表现为某些像素时而处于阴影中，时而处于光照中，称之为毛刺现象，如图2所示。而为了解决这个问题，人们提出了一种深度偏移的装置，具体而言，就是给阴影贴图上的深度增加一个偏移量，在做比较时，由于存在一个偏移差值，就不会因为精度问题而产生浮动，从而消除毛刺现象，但是这种装置却会引入另外一个问题，即因为阴影贴图深度发生了偏移，在视觉效果上相当于将产生阴影的物件沿着光源方向往后移动了一段距离，从而导致阴影与物件脱离，产生了所谓的Peter Pan现象，如图3所示。
针对相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
本申请的主要目的在于提供一种阴影深度偏移的处理方法及装置，以解决相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题。
为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种阴影深度偏移的处理方法。该方法包括：获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果。
进一步地，基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
进一步地，基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：获取第一预设系数；基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。
进一步地，基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
进一步地，基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：获取第二预设系数；基于所述第二预设系数、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述常量偏移量。
为了实现上述目的，根据本申请的另一方面，提供了一种阴影深度偏移的处理装置。该装置包括：获取单元，用于获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；第一计算单元，用于基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；第二计算单元，用于基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；处理单元，用于对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果。
进一步地，所述第一计算单元包括：第一计算模块，用于基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；第二计算模块，用于基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；第三计算模块，用于基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；第四计算模块，用于基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
进一步地，所述第四计算模块包括：第一获取子模块，用于获取第一预设系数；第一计算子模块，用于基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。
通过本申请，采用以下步骤：获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果，解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题。通过对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果，进而可以有效消除深度竞争导致的毛刺，同时可以避免因为深度偏移过大带来的Peter Pan现象，此外，也不会导致阴影的变形，且与任何已知的渲染流程不相冲突。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
图1是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法的流程图；
图2是相关技术中深度竞争导致的阴影毛刺的示意图；
图3是相关技术中阴影实现中常见的Peter Pan现象的示意图；
图4a是根据本申请实施例提供的物件原始位置的示意图一；
图4b是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中变换的示意图；
图4c是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法的中用于计算阴影深度的位置的示意图；
图5是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中的光照示意图；
图6a是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中物件原始的示意图一；
图6b是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法物件消除毛刺的示意图；
图7a是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中物件原始的示意图二；
图7b是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中避免Peter Pan问题的示意图；
图8a是根据本申请实施例提供的物件原始位置的示意图二；
图8b是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中没有阴影形变效果的示意图；
图9是根据本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置的示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
为了便于描述，以下对本申请实施例涉及的部分名词或术语进行说明：
光源方向：空间像素到光源所在位置的方向，指向光源。
法线方向：垂直物件表面的方向，朝外。
阴影深度：光源空间中，到光源位置的距离大小。
阴影贴图分辨率：即实施渲染阴影所需要使用到的阴影贴图的分辨率，如2048×2048。
阴影像素分辨率：为阴影贴图分辨率中较大一维（如阴影贴图分辨率为512×1024，那么较大一维为1024）的倒数。
单位阴影贴图像素对应的空间尺寸：与阴影像素分辨率是同一个参数1/SMR。
倾斜偏移量：光照方向与像素法线方向存在角度偏差，会导致毛刺，为此增加的偏移量。
常量偏移量：为了消除图形学中的深度竞争导致的毛刺而增加的偏移量。
光照偏移量（
）：为了表征光照方向与法线方向偏差越大倾斜偏移量越大，增加的一个偏移系数。
阴影贴图覆盖精度（InvSightSize）：单位阴影贴图像素覆盖的空间尺寸的倒数。
根据本申请的实施例，提供了一种阴影深度偏移的处理方法。
图1是根据本申请实施例的阴影深度偏移的处理方法的流程图。如图1所示，该方法包括以下步骤：
步骤S101，获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；
步骤S102，基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；
步骤S103，基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；
步骤S104，对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果。
通过上述步骤，实现了一种为物件的阴影深度自适应的加上一定的偏移量的计算方法，其效果如图4a、图4b和图4c所示。
本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法，通过获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果，解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题。通过对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果，进而可以有效消除深度竞争导致的毛刺，同时可以避免因为深度偏移过大带来的Peter Pan现象，此外，也不会导致阴影的变形，且与任何已知的渲染流程不相冲突。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中，基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：基于夹角的余弦值计算光照偏移量；基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
如图5所示，光源方向（虚线箭头方向）与此平面的法线（实线箭头方向）的夹角的余弦为cos
，由于光源与法线夹角越大，cos
越小，此时的偏移量应该越大，故而使用1-cos
作为考量因素之一，在接近90度的时候，此时倾斜偏移量增加的速度应该越来越大，1-cos
更加符合需求，而为了增加倾斜偏移的程度，需要为此值除去cos
，如下所示，计算出光照偏移量（
）：
而当阴影贴图分辨率越高，所得的阴影的精度越高，导致图像的准确度越高，此时的偏移量应该就越小，从而计算阴影像素分辨率（
）如下：
最后，同样分辨率的阴影贴图，对应的空间尺寸越大，导致精度就越低，从而计算阴影贴图覆盖精度（
）如下：
基于
、
、
计算倾斜偏移量。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中，基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：获取第一预设系数；基于第一预设系数、光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
第一预设系数是一个与应用相关的自定义参数，在不同的应用环境下有不同的值。例如，第一预设系数为
，计算倾斜偏移量如下：
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中，基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
当阴影贴图分辨率越高，所得的阴影的精度越高，导致图像的准确度越高，此时的偏移量应该就越小，从而计算阴影像素分辨率（
）如下：
同样分辨率的阴影贴图，对应的空间尺寸越大，导致精度就越低，从而计算阴影贴图覆盖精度（
）如下：
基于
、
计算倾斜偏移量。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法中，基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：获取第二预设系数；基于第二预设系数、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
第二预设系数是一个与应用相关的自定义参数，在不同的应用环境下有不同的值。例如，第二预设系数为
，计算常量偏移量如下：
通过上述实施例实现了为物件的阴影深度自适应的加上一定的偏移量，包括倾斜偏移与常量偏移两项。具体地，倾斜偏移只在当光源方向与法线方向夹角处于0度到90度之间时发挥作用，而常量偏移则在任何情况下均有作用。倾斜偏移量与夹角的余弦成反比，与阴影贴图分辨率成反比，与单位阴影贴图像素对应的空间尺寸大小成反比。常量偏移量与阴影贴图分辨率成反比，与单位阴影贴图像素对应的空间尺寸大小成反比。通过本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理方法，至少达到以下有益效果：将计算阴影贴图深度的像素在空间中的位置坐标沿着光源方向做一定的偏移，从而避免由于深度值太过接近而导致的毛刺，如图6a和图6b对比所示。同时，由于有自适应的倾斜偏移量的存在，也不会导致Peter Pan现象，如图7a和图7b对比所示。也不会导致阴影的变形，且与任何已知的渲染流程不相冲突，如图8a和图8b对比所示。
需要说明的是，在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行，并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
本申请实施例还提供了一种阴影深度偏移的处理装置，需要说明的是，本申请实施例的阴影深度偏移的处理装置可以用于执行本申请实施例所提供的用于阴影深度偏移的处理方法。以下对本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置进行介绍。
图9是根据本申请实施例的阴影深度偏移的处理装置的示意图。如图9所示，该装置包括：获取单元10、第一计算单元20、第二计算单元30和处理单元40。
具体地，获取单元10，用于获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角。
第一计算单元20，用于基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量。
第二计算单元30，用于基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量。
处理单元40，用于对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果。
本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置，通过获取单元10获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；第一计算单元20基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；第二计算单元30基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；处理单元40对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果，解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时，存在阴影深度偏移的问题，通过对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果，进而可以有效消除深度竞争导致的毛刺，同时可以避免因为深度偏移过大带来的Peter Pan现象，此外，也不会导致阴影的变形，且与任何已知的渲染流程不相冲突。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置中，第一计算单元20包括：第一计算模块，用于基于夹角的余弦值计算光照偏移量；第二计算模块，用于基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；第三计算模块，用于基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；第四计算模块，用于基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置中，第四计算模块包括：第一获取子模块，用于获取第一预设系数；第一计算子模块，用于基于第一预设系数、光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置中，第二计算单元30包括：第五计算模块，用于基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；第六计算模块，用于基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；第七计算模块，用于基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
可选地，在本申请实施例提供的阴影深度偏移的处理装置中，第七计算模块包括：第二获取子模块，用于获取第二预设系数；第二计算子模块，用于基于第二预设系数、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
所述阴影深度偏移的处理装置包括处理器和存储器，上述获取单元10、第一计算单元20、第二计算单元30和处理单元40等均作为程序单元存储在存储器中，由处理器执行存储在存储器中的上述程序单元来实现相应的功能。
处理器中包含内核，由内核去存储器中调取相应的程序单元。内核可以设置一个或以上，通过调整内核参数来处理阴影深度偏移。
存储器可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flash RAM)，存储器包括至少一个存储芯片。
本发明实施例提供了一种存储介质，其上存储有程序，该程序被处理器执行时实现所述阴影深度偏移的处理装置。
本发明实施例提供了一种处理器，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行所述阴影深度偏移的处理装置。
本发明实施例提供了一种设备，设备包括处理器、存储器及存储在存储器上并可在处理器上运行的程序，处理器执行程序时实现以下步骤：获取目标参数，其中，目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果。
基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：基于夹角的余弦值计算光照偏移量；基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：获取第一预设系数；基于第一预设系数、光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：获取第二预设系数；基于第二预设系数、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。本文中的设备可以是服务器、PC、PAD、手机等。
本申请还提供了一种计算机程序产品，当在数据处理设备上执行时，适于执行初始化有如下装置步骤的程序：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，夹角为光源方向与平面的法线的夹角；基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量，得到阴影贴图结果。
基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：基于夹角的余弦值计算光照偏移量；基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
基于光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：获取第一预设系数；基于第一预设系数、光照偏移量、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。
基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：获取第二预设系数；基于第二预设系数、阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
本领域内的技术人员应明白，本申请的实施例可提供为装置、系统、或计算机程序产品。因此，本申请可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本申请可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质（包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等）上实施的计算机程序产品的形式。
本申请是参照根据本申请实施例的装置、设备（系统）、和计算机程序产品的流程图和／或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和／或方框图中的每一流程和／或方框、以及流程图和／或方框图中的流程和／或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和／或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和／或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和／或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
在一个典型的配置中，计算设备包括一个或多个处理器 (CPU)、输入/输出接口、网络接口和内存。
存储器可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flash RAM)。存储器是计算机可读介质的示例。
计算机可读介质包括永久性和非永久性、可移动和非可移动媒体可以由任何装置或技术来实现信息存储。信息可以是计算机可读指令、数据结构、程序的模块或其他数据。计算机的存储介质的例子包括，但不限于相变内存 (PRAM)、静态随机存取存储器 (SRAM)、动态随机存取存储器 (DRAM)、其他类型的随机存取存储器 (RAM)、只读存储器 (ROM)、电可擦除可编程只读存储器 (EEPROM)、快闪记忆体或其他内存技术、只读光盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能光盘 (DVD) 或其他光学存储、磁盒式磁带，磁带磁磁盘存储或其他磁性存储设备或任何其他非传输介质，可用于存储可以被计算设备访问的信息。按照本文中的界定，计算机可读介质不包括暂存电脑可读媒体 (transitory media)，如调制的数据信号和载波。
还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、装置、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、装置、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、装置、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
本领域技术人员应明白，本申请的实施例可提供为装置、系统或计算机程序产品。因此，本申请可采用完全硬件实施例、完全软件实施例或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本申请可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质（包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等）上实施的计算机程序产品的形式。
以上仅为本申请的实施例而已，并不用于限制本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的权利要求范围之内。
Claims (7)
1.一种阴影深度偏移的处理方法，其特征在于，包括：
获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；
基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；
基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；
对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果；
其中，基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括：
基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；
基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；
基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；
基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量；
基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括：
基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；
基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；
基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括：
获取第一预设系数；
基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括：
获取第二预设系数；
基于所述第二预设系数、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述常量偏移量。
4.一种阴影深度偏移的处理装置，其特征在于，包括：
获取单元，用于获取目标参数，其中，所述目标参数至少包括：夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸，其中，所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角；
第一计算单元，用于基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量；
第二计算单元，用于基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量；
处理单元，用于对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量，得到阴影贴图结果；
其中，所述第一计算单元包括：
第一计算模块，用于基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量；
第二计算模块，用于基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；
第三计算模块，用于基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；
第四计算模块，用于基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量；
所述第二计算单元包括：第五计算模块，用于基于阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率；第六计算模块，用于基于单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度；第七计算模块，用于基于阴影像素分辨率和阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述第四计算模块包括：
第一获取子模块，用于获取第一预设系数；
第一计算子模块，用于基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。
6.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质包括存储的程序，其中，所述程序执行权利要求1至3中任意一项所述的阴影深度偏移的处理方法。
7.一种处理器，其特征在于，所述处理器用于运行程序，其中，所述程序运行时执行权利要求1至3中任意一项所述的阴影深度偏移的处理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711024877.4A CN107808410B (zh) | 2017-10-27 | 2017-10-27 | 阴影深度偏移的处理方法及装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201711024877.4A CN107808410B (zh) | 2017-10-27 | 2017-10-27 | 阴影深度偏移的处理方法及装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107808410A CN107808410A (zh) | 2018-03-16 |
| CN107808410B true CN107808410B (zh) | 2021-04-27 |
Family
ID=61582438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201711024877.4A Active CN107808410B (zh) | 2017-10-27 | 2017-10-27 | 阴影深度偏移的处理方法及装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN107808410B (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111311723B (zh) * | 2020-01-22 | 2021-11-02 | 腾讯科技（深圳）有限公司 | 像素点识别及光照渲染方法、装置、电子设备和存储介质 |
| CN112241933B (zh) * | 2020-07-15 | 2024-07-19 | 北京沃东天骏信息技术有限公司 | 人脸图像处理方法、装置、存储介质及电子设备 |
| CN118089555B (zh) * | 2024-04-24 | 2024-08-06 | 钛玛科（北京）工业科技有限公司 | 材料宽度测量方法及装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6593923B1 (en) * | 2000-05-31 | 2003-07-15 | Nvidia Corporation | System, method and article of manufacture for shadow mapping |
| US7119806B1 (en) * | 2000-05-31 | 2006-10-10 | Nvidia Corporation | System, method and article of manufacture for shadow mapping |
| CN101071511A (zh) * | 2007-06-26 | 2007-11-14 | 腾讯科技（深圳）有限公司 | 阴影绘制方法及装置 |
| CN101882323A (zh) * | 2010-05-19 | 2010-11-10 | 北京航空航天大学 | 基于高度图的微结构表面全局光照实时绘制方法 |
| CN102129677A (zh) * | 2010-01-15 | 2011-07-20 | 富士通株式会社 | 阴影形成方法和系统 |
| CN106447761A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-22 | 北京像素软件科技股份有限公司 | 一种阴影渲染方法 |
-
2017
- 2017-10-27 CN CN201711024877.4A patent/CN107808410B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6593923B1 (en) * | 2000-05-31 | 2003-07-15 | Nvidia Corporation | System, method and article of manufacture for shadow mapping |
| US7119806B1 (en) * | 2000-05-31 | 2006-10-10 | Nvidia Corporation | System, method and article of manufacture for shadow mapping |
| CN101071511A (zh) * | 2007-06-26 | 2007-11-14 | 腾讯科技（深圳）有限公司 | 阴影绘制方法及装置 |
| CN102129677A (zh) * | 2010-01-15 | 2011-07-20 | 富士通株式会社 | 阴影形成方法和系统 |
| CN101882323A (zh) * | 2010-05-19 | 2010-11-10 | 北京航空航天大学 | 基于高度图的微结构表面全局光照实时绘制方法 |
| CN106447761A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-22 | 北京像素软件科技股份有限公司 | 一种阴影渲染方法 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| Real-time soft shadows for large-scale virtual environments;Lu Liu 等;《2011 International Conference on Multimedia Technology》;20110830;5464-5467 * |
| 基于GPU的软阴影技术的研究;晏福兴;《中国优秀硕士学位论文全文数据库 信息科技辑》;20120215(第02期);全文 * |
| 虚拟场景实时阴影算法的研究与实现;王华;《中国优秀硕士学位论文全文数据库 信息科技辑》;20090315(第03期);全文 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN107808410A (zh) | 2018-03-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8355565B1 (en) | Producing high quality depth maps | |
| KR101855224B1 (ko) | 이미지 처리 방법 및 장치 | |
| CN111291584B (zh) | 识别二维码位置的方法及其系统 | |
| CN109461181A (zh) | 基于散斑结构光的深度图像获取方法及系统 | |
| KR102156402B1 (ko) | 영상 처리 방법 및 장치 | |
| CN107808410B (zh) | 阴影深度偏移的处理方法及装置 | |
| CN110717005B (zh) | 一种热力图纹理的生成方法、装置及设备 | |
| CN111080805A (zh) | 标注对象立体框图生成方法、装置、电子设备及存储介质 | |
| AU2018211217A1 (en) | Virtual reality parallax correction | |
| CA2848829A1 (en) | Method and apparatus for image enhancement and edge verification using at least one additional image | |
| US9100642B2 (en) | Adjustable depth layers for three-dimensional images | |
| CN107301366B (zh) | 一种嵌码视频中图形码的解码方法及装置 | |
| US20130279799A1 (en) | Image processing device, image processing method, and image processing program | |
| US10134171B2 (en) | Graphics processing systems | |
| CN107154070B (zh) | 矢量要素与数字地面模型叠加方法及装置 | |
| JP2020507845A (ja) | 画像処理方法、装置、及び機械可読媒体 | |
| CN113506305B (zh) | 三维点云数据的图像增强方法、语义分割方法及装置 | |
| CN111768353A (zh) | 一种三维模型的孔洞填补方法及装置 | |
| CN117333631B (zh) | 基于Threejs+Geoserver的三维地形渲染方法及装置 | |
| JP4722055B2 (ja) | ３次元モデルを縮尺変更する方法及び縮尺変更ユニット | |
| CN106384372B (zh) | 视图合成方法和装置 | |
| CN115236689A (zh) | 确定激光雷达和图像采集设备的相对位置的方法与装置 | |
| CN116188668B (zh) | 一种基于ios平台的阴影渲染的方法、介质及电子设备 | |
| CN116188633B (zh) | 一种仿真遥感影像生成的方法、装置、介质及电子设备 | |
| WO2022252834A1 (zh) | 一种粒子渲染方法及装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |