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CN107675220A - 一种无氰镀银电镀液的制备工艺 - Google Patents

一种无氰镀银电镀液的制备工艺 Download PDF

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CN107675220A
CN107675220A CN201710727780.3A CN201710727780A CN107675220A CN 107675220 A CN107675220 A CN 107675220A CN 201710727780 A CN201710727780 A CN 201710727780A CN 107675220 A CN107675220 A CN 107675220A
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CN
China
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silver
cyanogen
preparation technology
plating solution
free silver
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CN201710727780.3A
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韩传怀
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/46Electroplating: Baths therefor from solutions of silver

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
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Abstract

本发明公开了一种无氰镀银电镀液的制备工艺,包括如下步骤:将络合剂、支持电解质和pH调节剂混合均匀,再缓慢加入银离子来源物,搅拌至溶液澄清,溶液温度调节为20~50℃,静置2h后,加入电镀添加剂,搅拌均匀,静置待用。本发明生产的无氰镀银电镀液的毒性极低,镀液稳定性良好,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮。

Description

一种无氰镀银电镀液的制备工艺
技术领域
本发明属于电镀液的制备技术领域,具体涉及一种无氰镀银电镀液的制备工艺。
背景技术
电镀液是指可以扩大金属的阴极电流密度范围、改善镀层的外观、增加溶液抗氧化的稳定性等特点的液体,通常包括主盐、导电盐、阳性活性剂、缓冲剂和添加剂等。目前,生产中常用的电镀液为氰化镀锌溶液,该种电镀液的镀层结晶细致、活化能力强,但是含有剧毒的氰化物,会造成生态环境公害问题,排放废水不易处理,且电镀效率并不是很高。鉴于此,有必要对电镀液的制备工艺进行改进。
发明内容
为解决现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种可生产毒性极低,镀液稳定性良好,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮的无氰镀银电镀液的制备工艺。
为了实现上述目标,本发明采用如下的技术方案:
一种无氰镀银电镀液的制备工艺,包括如下步骤:
S1、将络合剂、支持电解质和pH调节剂混合均匀,得到第一混合溶液;
S2、将银离子来源物缓慢加入至第一混合溶液中,搅拌至溶液澄清,得到第二混合溶液;
S3、将第二混合溶液温度调节为20~50℃,静置2h,加入电镀添加剂,搅拌均匀,静置待用。
优选地,前述步骤S1中,络合剂为肌酐。
再优选地,前述步骤S1中,支持电解质为硝酸钾、氢氧化钾和氟化钾中的一种。
更优选地,前述步骤S2中,银离子来源物为硝酸银、乙酸银和硫酸银中的一种。
进一步优选地,前述步骤S3中,电镀添加剂为哌啶、哌嗪和甘氨酸中的一种。
本发明的有益之处在于:本发明的工艺生产的无氰镀银电镀液毒性极低,镀液稳定性良好,同时镀液中银离子于铜、镍、铝、铁、铬的置换速率非常慢,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮,可满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明作具体的介绍。
一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:
S1、将肌酐、硝酸钾和pH调节剂混合均匀,得到第一混合溶液;
S2、将硝酸银缓慢加入至第一混合溶液中,搅拌至溶液澄清,得到第二混合溶液;
S3、将第二混合溶液温度调节为20~50℃,静置2h,加入哌啶,搅拌均匀,静置待用。
为了更好的阐述本发明,对本发明制备工艺生产的无氰镀银电镀液的用法进行说明,电镀步骤为:在电镀过程中,将电镀液温度维持在20~50℃,然后将经过预处理的金属基体附于属电路组成部分的阴极上,将阴极连同所附基体浸入电镀液中,并且在电路中通以电流,所通电流和通电时间根据实际要求确定。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,上述实施例不以任何形式限制本发明,凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案,均落在本发明的保护范围内。

Claims (5)

1.一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:
S1、将络合剂、支持电解质和pH调节剂混合均匀,得到第一混合溶液;
S2、将银离子来源物缓慢加入至第一混合溶液中,搅拌至溶液澄清,得到第二混合溶液;
S3、将第二混合溶液温度调节为20~50℃,静置2h,加入电镀添加剂,搅拌均匀,静置待用。
2.根据权利要求1所述的一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,所述步骤S1中,络合剂为肌酐。
3.根据权利要求1所述的一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,所述步骤S1中,支持电解质为硝酸钾、氢氧化钾和氟化钾中的一种。
4.根据权利要求1所述的一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,所述步骤S2中,银离子来源物为硝酸银、乙酸银和硫酸银中的一种。
5.根据权利要求1~4任一项所述的一种无氰镀银电镀液的制备工艺,其特征在于,所述步骤S3中,电镀添加剂为哌啶、哌嗪和甘氨酸中的一种。
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101260549A (zh) * 2007-12-19 2008-09-10 福州大学 一种无预镀型无氰镀银电镀液

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101260549A (zh) * 2007-12-19 2008-09-10 福州大学 一种无预镀型无氰镀银电镀液

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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180209