CN107530461A - 用于内腔装置的去污的系统和方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于医疗装置的去污的系统，所述系统包括：去污腔室，所述去污腔室被配置为承受压力变化；真空泵，所述真空泵被配置为调节所述去污腔室内的压力；以及去污物质源，所述去污物质源安置在所述去污腔室内。所述系统还包括：容器，所述容器安置在所述去污腔室内以封闭医疗装置并且在所述医疗装置与所述去污物质源之间提供流体连通；以及蒸发器，所述蒸发器安置在所述去污腔室内以蒸发所述去污物质。

Description

用于内腔装置的去污的系统和方法

技术领域

本公开涉及对装置(诸如医疗装置)的去污。更具体地，本公开涉及用于使内腔医疗装置去污的系统、容器和方法。

发明背景

坚固医疗设备常常在高温下进行灭菌。通常，设备在高温和高压的组合下在蒸气灭菌器中进行灭菌。虽然此类灭菌方法对于更耐用的医疗器械是有效的，但是由橡胶和塑料组分利用粘合剂形成的先进医疗仪器是脆弱的，并且常常不适合于与常规蒸气灭菌器相关联的高温和高压。蒸气灭菌器已经也修改为在低压循环程序下操作以增加蒸气穿透到经受灭菌的医疗装置或相关医疗装置包装中的速率。使用重力、高压或预抽真空的蒸气灭菌可以形成其中温度可能会发生快速变化的环境。具体地讲，通常以非常精确尺寸、紧密组装公差和敏感光学部件(诸如内窥镜)的形成和组装的高度复杂器械可能被破坏或它们使用寿命因采用高温和高或低压的严苛灭菌方法而严重缩减。

另外，内窥镜还会存在如下问题：此类装置典型地具有许多外部裂缝和内腔，它们可能滋生微生物。微生物可能出现在这样的裂隙和内腔中的表面上以及在内窥镜的外表面上。包括内腔、裂缝等的其它医疗器械或牙科器械也会针对使各种可能滋生微生物的内表面和外表面去污而提出挑战。

发明概要

本文中公开了一种用于医疗装置的去污的系统，所述系统包括：去污腔室，所述去污腔室被配置为承受压力变化；真空泵，所述真空泵被配置为调节所述去污腔室内的压力；以及去污物质源，所述去污物质源含有过氧化氢或过氧乙酸并且安置在所述去污腔室内。所述系统还包括：容器，所述容器被配置为收纳在所述去污腔室内，所述容器形成封闭空间，并且被配置为封闭医疗装置并且在所述医疗装置与所述去污物质源之间提供流体连通；以及蒸发器，所述蒸发器安置在所述去污腔室内，与所述去污物质源和所述容器流体连通，并且被配置为蒸发所述去污物质。

另外，本文中公开了一种用于使装置去污的方法，所述方法包括：将容纳将要去污的装置的容器安置在去污腔室中，所述装置含有至少一个内腔。所述方法包括：将所述容器连接到位于所述去污腔室内的去污物质源；减小容纳所述容器的所述去污腔室中的压力；在所述被减压的去污腔室中蒸发所述去污物质；以及将所述所蒸发的去污物质注入将要去污的所述装置的所述内腔中。

虽然已公开了多个实施方案，但是本领域的技术人员将从以下详细描述清楚本发明的另外其它实施方案，以下描述示出和描述了本发明的说明性实施方案。因此，附图和详细描述将被视为在本质上是说明性而非限制性的。

附图简述

图1是去污系统的示意图。

图2是替代性去污系统的示意图。

图3是用于多内腔装置的去污系统的示意图。

图4是用于多内腔装置的替代性去污系统的示意图。

图5是用于多内腔装置的另一替代性去污系统的示意图。

图6是示出在示例性去污循环中的压力对时间的图。

详细描述

本公开包括了一种用于通过将所蒸发的去污物质直接注入装置中、同时控制系统的压力和温度使装置去污的系统。在一些实施方案中，所述系统包括：去污腔室，所述去污腔室用于封闭将要去污的装置；位于所述去污腔室内的第一去污物质源和第一蒸发器；以及位于所述去污腔室外的第二去污物质源和第二蒸发器。所述系统可以可以用于通过具有一个或多个去污循环的去污过程使装置去污。

图1是用于使可包括一个或多个内腔13从中延伸穿过的医疗、牙科或其它装置12去污的系统10的一个实施方案的示意图。系统10可以包括去污腔室14、容器16、第一去污物质源18、第一蒸发器20、第二去污物质源22、第二蒸发器24、包括真空泵的环境监测和控制系统26，以及系统控制系统28。容纳装置12的容器16安置在去污腔室14内。

在一些实施方案中，第一去污物质源18和第一蒸发器20可以安置在去污腔室14内。在一些实施方案中，第一去污物质源18可以连接或附接到容器16。例如，第一去污物质源18和第一蒸发器20可夹到或以其它方式直接附接到容器16。在一些实施方案中，第一去污物质源18和第一蒸发器20可由导管30附接或连接到容器16。例如，导管30可以穿过形成在容器16中的开口，使得第一去污物质源18直接流入容器16，而不例如穿过去污腔室14。在一些实施方案中，第一去污物质源18和第一蒸发器20可与装置12的一个或多个内腔13直接流体连通。例如，导管30可以将去污物质从第一蒸发器20引导到装置12的一个或多个内腔13。

第一去污物质源18可以包括适用于符合国际标准化组织(ISO)标准ISO/TC 198、“保健护理产品灭菌”(Sterilization of Healthcare Products)和/或医疗器械促进协会(AAMI)标准ANSI/AAMI/ISO11140-1:2005,“保健护理产品灭菌-化学指示剂–第I部分：一般要求(Sterilization of Healthcare Products-Chemical Indicators-Part I:GeneralRequirements)”(Arlington,VA:AAMI 2005)的灭菌过程的化学或其它物质。在一些实施方案中，合适去污物质包括在去污过程期间可作为流体(诸如液体、蒸气或其组合(诸如雾))分散的室温(例如，20℃至25℃)物质。例如，合适去污物质包括过氧化氢(H₂O₂)和/或过氧乙酸(PAA)。

第一去污物质源18可以预测量的体积或大量体积提供。例如，第一去污物质源18可以被提供为单个去污循环或去污过程所必需的合适量的预测量的体积。例如，在去污过程包括两个循环的情况下，可提供两个预测量的体积以用于完整去污过程。在一些实施方案中，第一去污物质源18可以设在封闭或密封的容器或包装(诸如箱盒)中。在一些实施方案中，第一去污物质源18可通过在包装的至少一部分中刺穿或以其它方式形成开口从包装释放。在去污过程期间，可以在任何合适时间上刺穿包装。例如，可能在安置在去污腔室14内时刺穿包装。在另一实例中，在去污过程期间，例如在去污腔室14中建立真空状况之后，可以在指定时间上刺穿包装。在一些实施方案中，在减小去污腔室14中的压力后将第一去污物质源18从包装释放可以保留第一去污物质源18中的化学物质的完整性。例如，在一些实施方案中，该包装或容器可以保护第一去污物质源18不受去污腔室14内的状况影响，直到在要求第一去污物质源18前不久。在一些实施方案中，该包装或容器可以防止在低压下来自去污物质18的水和/或化学物质(即，过氧化氢或过氧乙酸)损失(诸如通过蒸发)。

另外或替代地，第一去污物质源18可提供为大量液体，并且一定体积去污物质18可以在需要时被引导到第一蒸发器20。也就是说，第一去污物质源18可以大于去污循环或过程所要求的体积提供。在一些实施方案中，可以使用阀门或其它关闭装置来防止或最小化第一去污物质源18暴露于去污腔室14内的状况(真空状况)下，直到在去污循环或过程中使用第一去污物质源18前不久。

第一蒸发器20使去污物质18形成为蒸气、雾或用于去污过程的其它合适形式。例如，第一蒸发器20可加热呈液体形式的去污物质18以将液体去污物质18蒸发或以其它方式转化为蒸气或雾。在一些实施方案中，可以将去污物质18拉入第一蒸发器20中。在其它实施方案中，可以将去污物质18推入第一蒸发器20中。

第二去污物质源22和第二蒸发器24可以安置在去污腔室14外，并且可与去污腔室14流体连通。例如，在一些实施方案中，第二去污物质源22和第二蒸发器24可由通道32来连接到去污腔室14。在一些实施方案中，第二去污物质源22和第二蒸发器24将去污物质引导到去污腔室14。

第二去污物质源22可以包括适用于如本文关于第一去污物质源18所述的去污过程的化学或其它物质。在一些实施方案中，第一去污物质源18和第二去污物质源22包括相同去污物质。在其它实施方案中，第一去污物质源18和第二去污物质源22可以包括不同去污物质。第二去污物质源22可以被提供为预测量的体积或大量体积，如本文关于第一去污物质源18所述。

第二蒸发器24使第二去污物质源22形成为蒸气、雾或用于去污过程的其它合适形式。在一些实施方案中，第二蒸发器24可与第一蒸发器20相同或可与之不同。

系统控制系统28向去污腔室14、环境监测和控制系统26、第一去污物质源18、第一蒸发器20、第二去污物质源22和第二蒸发器24提供控制信号和/或从它们接收状况感测和设备状态信号。例如，系统控制系统28控制去污物质从第一去污物质源18向第一蒸发器20的输送。另外或替代地，系统控制系统28控制去污物质从第二去污物质源22向第二蒸发器24的输送。

环境监测和控制系统26可以调节去污腔室14内的环境状况。例如，环境监测和控制系统26可以向真空泵或其它装置提供控制信号和/或从它们接收状况感测和设备状态信号，以便进行去污腔室14的压力的调节。

容器16形成封闭空间并且保持至少一个装置12。在一些实施方案中，容器16可以具有一个或多个柔软或柔性的侧面或部分。例如，容器16可以是囊袋。在一些实施方案中，容器16可以具有一个或多个坚硬或刚性的侧面。例如，容器16可以是壳体或其它罩壳。在一些实施方案中，容器16可以包括刚性部分和柔性部分的组合。例如，容器16可以具有刚性的底部和侧面，并且可以具有柔性的顶部或盖子。

容器16可以具有第二去污物质源22可穿透或渗透过的至少一个部分，例如至少一个侧面或顶部。例如，在一些实施方案中，第二去污物质源22可以从第二蒸发器24通过通道32而流入去污腔室14，在去污腔室中，它可以使容器16的外表面去污。去污腔室14中的第二去污物质源22还可渗透容器16的至少一部分以便进入容器16，并且可使装置12的外表面的至少一部分去污。在一些实施方式中，容器16可以是一次性的。在其它实施方案中，容器16可以是可重复使用的。

图2是去污系统50的替代性实施方案的示意图。在一些实施方案中，系统50可以包括去污腔室14、容器16、第一去污物质源52和第一蒸发器54、第二去污物质源22和第二蒸发器24环境监测和控制系统26，以及系统控制系统28。

第一去污物质源52和第一蒸发器54位于去污腔室14内。在一些实施方案中，第一去污物质源52和第一蒸发器54两者位于去污腔室16内。第一蒸发器54可以是能够将第一去污物质源52加热至指定温度(诸如在去污物质的蒸气温度以上)的加热器。合适加热方法可以包括电力加热，诸如电阻加热、电感加热、微波、红外加热和传导加热。

在一些实施方案中，第一去污物质源52可以预定体积(诸如适于去污过程或去污过程的一部分(诸如单个去污循环)的体积)提供。第一去污物质源52可以设在可重复使用的包装或一次性的包装中。在一些实施方案中，第一去污物质源52可以作为预定体积提供在密封容器中，密封容器可被刺穿或以其它方式至少部分打开以使得第一去污物质源52在去污过程期间能够离开或脱离包装。例如，第一去污物质源52可以设在一旦安置在容器16内就可能被刺穿的包装中。在一些实施方案中，在包装安置在容器16内并且容器16密封或以其它方式关闭后，包装就可能被刺穿。在其它实施方案中，在去污过程期间，例如在去污腔室14中建立真空状况之后，可以在指定时间上刺穿包装。如本文关于第一去污物质源52讨论的，包装可以保护第一去污物质源52不受去污腔室14内的状况影响，直到在去污循环要求第一去污物质源52前不久。

在一些实施方案中，第一去污物质源52可以设在与容器16成整体的包装中。例如，容器16可提供有包装，包装含有预定量的第一去污物质源52。

在其它实施方案中，第一去污物质源52可以设在可从容器16移除的包装中。在一些实施方案中，包装可以安置在容器16内，并且可在去污循环要求第一去污物质源52前不久或紧接在此之前被刺穿或以其它方式来至少部分打开。

在一些实施方案中，第一去污物质源52可以设在放置在第一蒸发器54内的容器中，并且第一去污物质源52可以在经受来自第一蒸发器54的热量时从容器释放。例如，容器可以放置在第一蒸发器54的线圈或块加热器内。在一些实施方案中，第一去污物质源52可以设在可在去污过程之前装载预定量的第一去污物质源52的可重复使用的容器中。例如，可以测量(诸如按体积或质量)预定量的第一去污物质52，并且将预定量的第一去污物质源添加到容器。在一些实施方案中，测量装置(诸如注射器)可以用于测量预定量的第一去污物质52并且将预定量的第一去污物质传输到容器。

在一些实施方案中，第一去污物质源52可连接到装置12的内腔13。例如，第一去污物质源52可由导管56来连接到内腔13。在一些实施方案中，去污系统50可包括一个或多个阀门以将第一去污物质源52引导到一个或多个指定内腔。

图3是用于使多内腔装置12a去污的系统50a的实施方案的示意图。在一些实施方案中，系统50a可以包括去污腔室14、容器16、第一去污物质源52a、52b、第一蒸发器54、第二去污物质源22、第二蒸发器24环境监测和控制系统26，以及系统控制系统28。系统50a包括分别通过第一导管56a和第二导管56b连接到第一内腔13a和第二内腔13b的第一蒸发器54。第一去污物质源52a和52b可以位于去污腔室14内。第一蒸发器54可以位于去污腔室14内，并且与两个第一去污物质源52a和52b连通。第二去污物质源22和第二蒸发器24可以位于去污腔室14外，并且经由通道32与去污腔室14流体连通。在使用期间，第一去污物质源52a和52b可以预定体积提供在包装中，并且第二去污物质源22可以预定体积提供在包装中。第一去污物质源52a和52b的包装可被刺穿或其中可形成开口以将去污物质释放到第一蒸发器54中。在一些实施方案中，第一去污物质源52a和52b的包装可以同时被刺穿或打开。在其它实施方案中，第一去污物质源52a和52b的包装可以在不同的时间段期间被刺穿或打开。例如，第一去污物质源52a和52b的包装可以在去污过程期间的第一个时间段上打开，并且第二去污物质源22的包装可以在去污过程期间的稍后的时间段上打开。

第一阀门58a可调节或控制从第一蒸发器54到第一内腔13a的流动，并且第二阀门58b可调节或控制去污物质从第一蒸发器54到第二内腔13b的流动。在一些实施方案中，系统控制系统28可以控制阀门58a和58b。第一阀门58a和第二阀门58b可包括流量调节器以控制通过第一导管56a和第二导管56b的流率。例如，可能期望，当装置具有不同直径的内腔时，控制通过第一导管56a和第二导管56b的流率。例如，如果第一内腔13a具有的直径或长度与第二内腔13b的直径或长度不同，那么通过第一导管56a的流率可以被选择为与通过第二导管56b的流率不同。例如，第一阀门58a可以具有适于向具有1mm的内径的内腔提供所蒸发的去污物质的流量调节器，而第二阀门58b则可以具有适于向具有4mm的内径的内腔提供所蒸发的去污物质的流量调节器。使用这种系统，可使含有可具有不同直径的多个内腔的装置去污。

在一些实施方案中，可以控制阀门58a和58b，使得去污物质一次流过单个内腔。例如，当第二阀门58b打开时，第一阀门58a可以关闭，并且来自蒸发器54的去污物质可以流过第二内腔13b，同时防止所述去污物质流过第一内腔13a。虽然示出的是含有两个第一去污物质源52a和52b的第一蒸发器54，但是第一蒸发器54也可含有任何数量的第一源。

系统50a还可包括具有表面的容器16，容器具有刚性部分16a和可渗透的部分16b。在一些实施方案中，可渗透的部分16b可被去污物质渗透。例如，在一些实施方案中，去污物质可从第一蒸发器54流入去污腔室14，并且然后渗透容器16的可渗透的部分16b而进入容器16。

将蒸气从第一蒸发器54运送到内腔13a和13b的导管56a和56b的长度被选择为提供蒸气从第一蒸发器54行进到内腔的适当距离。在一些实施方案中，离开第一蒸发器54的蒸气的温度为约75℃至约95℃。某些装置(诸如内窥镜)常常无法在不遭受损坏的情况下忍受高于60℃的温度。使用蒸发去污物质、并且然后使蒸气在接触装置前冷却到60℃以下的系统允许内窥镜进行去污而不使其损坏。在一些实施方案中，导管56b和56a具有使蒸气在其接触装置前从蒸发器的温度冷却到60℃以下的合适长度。例如，将蒸气从第一蒸发器54运送到内腔13a和13b的导管56b和56a可以是约20cm长。

图4是用于使多内腔装置12a去污的系统50b的实施方案的示意图。系统50b包括去污腔室14和连接到四个第一去污物质源52a、52b、52c和52d的第一蒸发器54。在一些实施方案中，系统50b还包括了第二去污物质源22、第二蒸发器24、环境监测和控制系统26，以及系统控制系统28。

在一些实施方案中，第一蒸发器54位于去污腔室14内并且被连接到多内腔装置12a的第一内腔13a和第二内腔13b。在使用期间，第一去污物质源52a、52b、52c和52d可以预定体积提供在例如包装中。在去污过程期间，可以同时或在不同的时间段期间将去污物质从52a、52b、52c和52d的包装释放。52a、52b、52c和52d的包装可被刺穿或其中可形成开口以将去污物质释放到第一蒸发器54中。在一些实施方案中，第一去污物质源52a、52b、52c和52d的包装可以同时被刺穿或打开。在其它实施方案中，第一去污物质源52a、52b、52c和52d的包装可以在不同的时间段期间被刺穿或打开。例如，第一去污物质源52a和52b的包装可以在去污过程期间的第一个时间段上打开，并且第一去污物质源52c和52d的包装可以在去污过程期间的稍后的时间段上打开。

当释放时，去污物质流入第一蒸发器54，在第一蒸发器中，它可以被蒸发。去污物质分别通过第一导管56a或第二导管56b从第一蒸发器54流动到第一内腔13a或第二内腔13b。

第一阀门58a控制通向第一导管56a的流动，第二阀门58b控制通向第二导管56b的流动，如本文描述的。在一些实施方案中，第一阀门58a和第二阀门58b可由系统控制系统28控制。如本文描述的，可以控制阀门，使得去污物质一次流过一个内腔。例如，当第二阀门56b打开时，第一阀门58a可以关闭，并且来自第一蒸发器54的去污物质可以流过第二内腔13b，同时防止所述去污物质流过第一内腔13a。

系统50b还可包括具有外表面的容器16，容器具有刚性部分16a和可渗透的部分16b。在一些实施方案中，可渗透的部分16b可被去污物质渗透。例如，在一些实施方案中，去污物质可从第二蒸发器24流入去污腔室14，并且然后渗透容器16的可渗透的部分16b而进入容器16。

图5是用于使多内腔装置12a去污的系统50c的实施方案的示意图。系统50c包括第一蒸发器54，第一蒸发器位于去污腔室14内，并且被连接到四个第一去污物质源52a、52b、52c和52d。在一些实施方案中，第一蒸发器54经由第一导管56a来连接到多内腔装置12a的第一内腔13a并且经由第二导管56b来连接到多内腔装置12a的第二内腔13b。在使用期间，第一去污物质源52a、52b、52c和52d可以预定体积提供在例如包装中。在一些实施方案中，系统50c还包括了第二去污物质源22、第二蒸发器24、环境监测和控制系统26，以及系统控制系统28。

在系统50c中，去污物质在所提供的包装中蒸发并且沿着指定导管而被向下引导。例如，第一去污物质源52a在所提供的包装中蒸发，并且然后直接流动到第二导管56b。也就是说，所蒸发的第一去污物质源52a不会流入第一蒸发器54内的公共空间，在公共空间中，它可能在流入第二导管56b前与第一去污物质源52b、52c和/或52d混合。

在一些实施方案中，第一阀门58a控制所蒸发的去污物质从第一去污物质源52a到第二导管56b和第二内腔13b的流动。第二阀门58b控制所蒸发的去污物质从第一去污物质源52b到第二导管56b和第二内腔13b的流动。第三阀门58c控制所蒸发的去污物质从第一去污物质源52c到第一导管56a和第一内腔13a的流动。第四阀门58d控制所蒸发的去污物质从第一去污物质源52d到第一导管56a和第一内腔13a的流动。阀门58a、58b、58c和58d可由系统控制系统28控制。如本文描述的，系统控制系统28可以控制阀门，使得去污物质一次流过一个内腔。

系统50c可与具有外表面的容器16一起使用，容器具有刚性部分16a和可渗透的部分16b。在一些实施方案中，可渗透的部分16b可被去污物质渗透。例如，在一些实施方案中，去污物质可从第二蒸发器24流入去污腔室14，并且然后渗透容器16的可渗透的部分16b而进入容器16。

因此，在整体结构中，为了使图1、图2和图3中示出的装置12或图4和图5中示出的多内腔装置12a去污，装置12或多内腔装置12a可以放置在容器16内并且被连接到第一去污物质源。例如，装置12或多内腔装置12a可由导管30、56或导管56a、56b来连接到第一去污物质源。装置12或多内腔装置12a可以密封在容器16内并且放置在去污腔室14中。然后，装置12或多内腔装置12a经受去污过程，去污过程可以包括一个或多个去污循环。

如本文描述的，去污循环包括至少一次将去污物质释放到去污腔室14中以使装置12或多内腔装置12a去污。在一些实施方案中，去污过程可以包括两个或更多个相同去污循环。在一些实施方案中，去污循环的第一步骤可以是将去污腔室14内的压力减小到大气压力以下，并且最后一个步骤可以是使去污腔室14内的压力返回到大气压力。在一些实施方案中，去污过程在装置12或多内腔装置12a与去污腔室14放置在一起时开始，并且在将装置12或多内腔装置12a从去污腔室14移除时结束。在装置12或多内腔装置12a放置在去污腔室12内时，腔室内的压力可减小到适当范围，诸如小于约10托的压力。

在一些实施方案中，去污循环包括将预定量的去污物质(诸如过氧化氢或过氧乙酸水溶液)传输到包装(诸如小瓶)，然后将其放置到去污腔室14中，例如放置在小瓶瓶架中。可以例如按体积或重量测量预定的量。在一些实施方案中，去污物质可以含有约59％的过氧化氢以及余量的水。将要灭菌的装置(诸如含有一个内腔或多个内腔的那些)放置在附接到导管30、56或导管56a、56b的容器中。容器安置在去污腔室内。导管30、56或导管56a、56b也连接到蒸发器。然后，关闭腔室并且将其锁定。在污染腔室内抽出真空。

去污物质被引入去污腔室14中。在一些实施方案中，可以将第一去污物质直接注入装置12或多内腔装置12a中。在一些实施方案中，可以将第二去污物质引入去污腔室14中并且穿透容器16。在一些实施方案中，可以在去污腔室14的压力低于大气压力(例如，小于约10托)时引入去污物质。如本文讨论的，将第一去污物质直接引入容器16中。例如，可以将第一去污物质直接引入装置12或多内腔装置12a的一个或多个内腔13、13a、13b中。第一去污物质流过一个或多个内腔13、13a、13b并且对一个或多个内腔的去污。在一些实施方案中，第一去污物质是以足以在去污过程期间使装置12或多内腔装置12a、且尤其是内腔13、13a或13b去污的预测量的体积提供。可以将第二去污物质引入去污腔室14中。例如，第二去污物质可以直接流入去污腔室14，并且可使容器16的外表面去污。第二去污物质也可以渗透容器16的至少一部分，使得第二去污物质进入容器16。在这个实例中，第二去污物质可使装置12或多内腔装置12a的外表面去污。在一些实施方案中，可以将第一去污物质和第二去污物质同时引入。在其它实施方案中，可以将第一去污物质和第二去污物质单独引入。

在一些实施方案中，将去污物质(诸如过氧化氢或过氧乙酸水溶液)注入蒸发器中。在一些实施方案中，通过将去污物质输送到第二蒸发器24中而产生蒸气，在第二蒸发器中，去污物质被加热和蒸发。然后，将蒸气引入去污腔室14中，在环境压力下，在去污腔室中，蒸气包围将要灭菌的物品。第一不走允许对装置的外表面的去污。可使去污物质包围将要灭菌的物品，诸如一个内腔或多个内腔。在使去污物质扩散的一段时间后，去污腔室14中的压力减小，并且蒸发器和腔室两者都暴露于深度真空。在一些实施方案中，然后在第一蒸发器20、54中执行第二注入。在第二注入期间，以逐步方式将去污物质直接注入一个内腔或多个内腔中以降低注入速度并且使去污物质蒸发而避免任何再冷凝。

去污物质可以保持在去污腔室14、容器16和/或装置12或多内腔装置12a中一段时间，以便促成对容器16和装置12或多内腔装置12a(包括内腔13、13a、13b)的去污。当去污物质被保持达期望或编程的时间量时，系统控制系统28可以将去污腔室14排气到较高但在一些实施方案中低于大气压力。然后，系统控制系统28可以保持去污腔室14内的压力一段时间，以进一步促成对装置的去污。在去污物质水平达到平稳时期后，使用空气清洗从去污腔室14和将要灭菌的装置(诸如一个内腔或多个内腔)去除蒸气。在空气清洗期间，系统控制系统28增大去污腔室14内的压力，并且然后减小去污腔室14内的压力。系统控制系统28可以重复以下这些步骤：使去污腔室14内的压力增大和减小多次以进行对去污腔室14和/或装置12或多内腔装置12a的空气清洗。在空气清洗后，真空可被释放，并且腔室和蒸发器通过排气通过高效颗粒空气(HEPA)过滤器而返回到大气压力。系统控制系统28可排空去污腔室14以将去污物质残余从去污腔室14去除。这个去污循环或系列步骤可作为综合去污过程的部分而重复或扩展。

图6示出了在去污循环实施方案中在去污腔室内的压力对时间的图。如图6所示，在一些实施方案中，去污循环可以包括在去污腔室内的多个压力变化。图6中示出的去污循环可以在去污过程内重复若干次。去污循环可以包括某些步骤，诸如真空预先调节84、第一去污步骤86和第二去污步骤88。真空预先调节84包括其中从去污腔室抽出压力的抽气90，以及内腔预热周期92。在内腔预热周期92期间，去污腔室内的压力保持相对稳定。

在一些实施方案中，在真空预先调节84之后可以是第一去污步骤86。在第一去污步骤86期间，在腔室注入步骤94中将去污物质注入去污腔室中。在腔室注入步骤94期间，去污腔室内的压力增大。在示例实施方案中，在腔室注入步骤94期间，将至多2mL去污物质注入去污腔室中。在注入去污物质后，可以允许去污物质在扩散周期96中在整个去污腔室中扩散，同时压力保持稳定。在扩散周期96后，可以进行第二抽气98。在第二抽气98期间，去污腔室内的压力减小。在一些实施方案中，在第二抽气98后，过程包括其中在蒸发器内抽真空的蒸发器抽气100。

在一些实施方案中，第二去污步骤88在蒸发器抽气100后进行。在第二去污步骤88期间，装置注入步骤102包括将去污物质直接注入去污腔室内的装置中。例如，可以将去污物质直接注入装置的内腔中。在一些实施方案中，可以在装置注入步骤期间将从约1mL至约3mL、从约1.7mL至约2.3mL或从约1.9mL至约2.1mL的去污流体直接注入内腔中。在示例实施方案中，在装置注入步骤102期间，将至多2mL去污物质注入去污腔室内含有的内腔中。在装置注入步骤102期间或在此之后，去污腔室内的压力增大。在装置注入步骤102后，可以进行多个空气清洗104。如图6所示，多个空气清洗104可以包括重复使去污腔室内的压力增大和减小。这可以进行任何次数以将合适量的去污物质从去污腔室去除。在合适数量空气清洗后，可以允许去污腔室内的压力在最终排气步骤106中达到大气压力。以下表1中包括了以上概括的步骤的概述以及每个步骤的示例持续时间和压力。

去污过程消耗时间和设备。因此，期望减少去污过程所要求的时间，同时仍然实现所要去污水平。减少装置进行有效去污所要求的时间允许用户在更短时间内使更大数量的装置去污。在一些实施方案中，上述装置注入步骤允许用户将去污物质直接引入具有伸长和/或曲折流动路径的装置中。例如，具有高长宽比内腔的内窥镜或其它装置可受益于将去污物质直接注入内腔内部中。通过将去污物质直接注入内腔内部中，提供一种使去污物质接触内腔的内表面的更有效的手段。这个过程还确保了内腔整个的内表面都与去污物质接触。也就是说，直接注入增加使去污物质穿透内腔整个长度的能力。将去污物质直接直接注入内腔中的一个潜在益处是沿着内腔整个长度进行充分去污所要求的循环时间减少。

在一些实施方案中，将去污物质注入内腔中时的速率影响在内腔内的去污物质的蒸发速率。已经发现，使去污物质的体积注入速率降低提高它的蒸发速率。具有被提高的蒸发速率可以产生更有效的蒸发，这又允许蒸发器所要求的较低操作温度。

在一些实施方案中，将所蒸发的去污物质直接注入内腔中允许去污腔室在整个去污过程中在较低温度下操作，同时仍然确保装置(诸如内腔)进行充分去污。当使可使升高温度敏感的某些装置去污时，较低操作温度是有益的。例如，内窥镜常常无法在不遭受损坏的情况下忍受高于60℃的温度。使用首先蒸发去污物质、然后使蒸气在接触内腔前冷却到60℃以下的过程允许内窥镜进行去污而不使其损坏。这可通过提供合适行进距离实现，蒸气被运送所述合适行进距离而通过导管，从其中蒸气离开蒸发器的导管运送到其中蒸气首先接触内腔的位置。在蒸发器与内腔之间运送蒸气的导管的长度使蒸气在其从蒸发器行进到内腔时冷却。例如，将蒸气从蒸发器运送到内腔的导管可以是约20cm长。已经发现，这个距离使蒸气温度在蒸气接触内腔时降低到60℃以下。

在一些实施方案中，如果保持与装置接触达延长的时间段，或者如果使用高度浓缩去污物质，那么去污物质可能导致某些装置腐蚀。如果去污物质蒸气冷凝在装置表面上，也会发生腐蚀。为了减少内腔内的去污物质冷凝，可特定地调整去污腔室以及内腔内的蒸气的温度。

已经识别有效且高效地使内腔去污以避免可导致内腔热降解或腐蚀的压力、温度和暴露时间的合适操作参数。使用以上操作参数，已经发现，本文中公开的去污过程可有效地对3.0或3.5米长的内腔进行灭菌。已经发现，本文中公开的过程成功对3.5米长的内腔进行灭菌，同时将去污循环的操作参数维持在内腔的压力和温度公差内。已经发现，本文中公开的过程成功对具有1mm、1.6mm、2mm和3.45mm的内径和3mm、3.18mm、4mm和4.76mm的外径的内腔进行灭菌。还已发现，2mL的含有59％过氧化氢的去污物质成功同时使多个内腔去污而不会损坏内腔(诸如因腐蚀或过压)。

已经发现，在约95℃下操作蒸发器并且将去污腔室温度维持于58℃使内腔内的冷凝最小化。在一个实例中，去污腔室被设定为在整个去污过程中在58℃下操作，并且蒸气在其离开蒸发器时的温度被设定为处于95℃。内腔被附接到以20cm分隔距离将内腔连接到蒸发器的头部。在行进通过头部后，就会发现，进入内腔的蒸气为55℃，这在内腔的可接受的操作温度内。在一些实施方案中，在去污过程期间，也可通过使空气流过内腔而使冷凝最小化。

在不脱离本发明的范围的情况下，可对所讨论的示例性实施方案做出各种修改和添加。例如，虽然上述实施方案提到具体特征，但是本发明的范围还包括了具有不同的特征组合的实施方案和不包括所有上述特征的实施方案。

Claims (20)

1.一种用于医疗装置的去污的系统，所述系统包括：

去污腔室，所述去污腔室被配置为承受压力变化；

真空泵，所述真空泵被配置为调节所述去污腔室内的压力；

去污物质源，所述去污物质源含有过氧化氢或过氧乙酸并且安置在所述去污腔室内；

容器，所述容器被配置为收纳在所述去污腔室内，所述容器形成封闭空间，并且被配置为封闭医疗装置并且在所述医疗装置与所述去污物质源之间提供流体连通；以及

蒸发器，所述蒸发器安置在所述去污腔室内，与所述去污物质源和所述容器流体连通，并且被配置为蒸发所述去污物质。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述容器具有外表面，并且其中所述外表面的至少一部分可被所蒸发的去污物质渗透。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述医疗装置含有内腔，并且其中所述去污物质源流体地连接到所述医疗装置的一个内腔。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述医疗装置含有至少两个内腔，并且所述系统进一步包括阀门，所述阀门被连接到所述去污物质源。

5.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括第二去污物质源，所述第二去污物质源安置在所述去污腔室外并且与所述去污腔室流体连通。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述蒸发器至少部分安置在所述容器内。

7.如权利要求1所述的系统，其中所述去污物质在蒸发之前是液体。

8.如权利要求1所述的系统，其中所述蒸发器包括热源，所述热源选自由以下项组成的组：电阻加热器、电感加热器、红外加热器、微波加热器和传导性加热器。

9.一种用于使装置去污的方法，所述方法包括：

将容纳将要去污的装置的容器安置在去污腔室中，所述装置含有至少一个内腔；

将所述容器连接到位于所述去污腔室内的去污物质源；

减小容纳所述容器的所述去污腔室中的压力；

在所述被减压的去污腔室中蒸发所述去污物质；以及

将所述所蒸发的去污物质注入将要去污的所述装置的所述内腔中。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述去污物质包括过氧化氢或过氧乙酸。

11.如权利要求9所述的方法，其中蒸发所述去污物质包括蒸发至少2.0ml的含有约59％过氧化氢的流体。

12.如权利要求9所述的方法，其中所述所蒸发的去污物质在被注入所述内腔中时低于摄氏60度。

13.如权利要求9所述的方法，其中所述装置包括多个内腔，并且所述方法进一步包括可控制地引导所述去污物质通过所述装置的一个或多个所选内腔。

14.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括将第二去污物质源连接到所述去污腔室，所述第二去污物质源安置在所述去污腔室外。

15.如权利要求9所述的方法，其中所述装置含有至少两个内腔，所述至少两个内腔具有不同内径，并且所述方法进一步包括使用流量调节器将所蒸发的去污物质单独提供到每个内腔。

16.如权利要求9所述的方法，其中所述去污物质在所述蒸发步骤之前呈液相。

17.如权利要求9所述的方法，其中所述去污腔室中的所述压力在蒸发所述去污物质之前低于20托。

18.如权利要求9所述的方法，其中将预定体积的去污物质放置在所述去污腔室内并且在蒸发所述去污物质之前被连接到蒸发器。

19.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括使具有第一温度的所蒸发的去污物质流过导管，所述导管具有某个长度，所述长度被配置为在将所述所蒸发的去污物质注入将要去污的所述装置的所述内腔中之前使所述所蒸发的去污物质降低到低于摄氏60度的第二温度。

20.如权利要求9所述的方法，所述方法进一步包括重复以下所述步骤：减小容纳所述容器的所述去污腔室中的所述压力、在所述被减压的去污腔室中蒸发所述去污物质以及将所述所蒸发的去污物质注入将要去污的所述装置的所述内腔中的所述步骤。