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CN107406608A - 可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜 - Google Patents

可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜 Download PDF

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CN107406608A
CN107406608A CN201680013119.XA CN201680013119A CN107406608A CN 107406608 A CN107406608 A CN 107406608A CN 201680013119 A CN201680013119 A CN 201680013119A CN 107406608 A CN107406608 A CN 107406608A
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curable coating
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CN201680013119.XA
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金芙敬
金惠珉
沈载勋
郑顺和
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LG Corp
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LG Chemical Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物、包含该可光固化的涂层组合物的光固化产物的低折射率层，以及包含该低折射率层的减反射膜。所述用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物包含：可光聚合的化合物；无机微粒；被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷；含有光反应性官能团的氟系化合物；以及光聚合引发剂，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量为0.5重量份至25重量份。

Description

可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年8月11日提交到韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2015-0113237的优先权的权益，该申请的公开内容通过引用全部并入本文。
技术领域
本发明涉及一种可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜。更具体地，本发明涉及：一种可光固化的涂层组合物，该涂层组合物能够提供同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，同时具有较低的反射率和较高的透光率两者的低折射率层；一种低折射率层，该低折射率层同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，并且同时具有较低的反射率和较高的透光率两者；以及一种减反射膜，该减反射膜表现出优异的机械性能同时提高显示装置的屏幕的清晰度。
背景技术
通常，诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有减反射膜，用于使从外部入射的光的反射最小化。
作为使光的反射最小化的方法，存在将填料如无机微粒分散在树脂中并涂布至基膜上来赋予不规则度的方法(防眩光：AG涂层)；通过在基膜上形成多个具有不同的折射率的层来利用光的干涉的方法(减反射：AR涂层)；以及使它们混合的方法。
其中，在AG涂层的情况下，反射的光的绝对量与常规的硬涂层的量相当，但是，通过利用由不规则度引起的光散射来减少进入眼睛的光的量，可以得到较低的反射效果。
然而，由于表面不规则度，AG涂层具有较差的表面清晰度，因此，近来已经对AR涂层进行了许多研究。
对于使用AR涂层的膜，基板上层压有硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等的多层结构已经商业化。
然而，在上述形成多个层的方法中，存在以下缺点：由于单独地进行形成各个层的步骤，因此层间粘合力(界面粘合力)较弱，并且耐擦伤性降低。
因此，已经进行许多研究以减少从外部入射的光的绝对反射量并且提高表面的耐擦伤性，但是物理性能的改善程度不足。
另外，已知添加成分(如无机填料)来提高涂布至减反射膜的聚合物膜的耐擦伤性的方法。根据该方法，聚合物膜的耐碱性大大降低，使其不适用于偏光板等的生产工艺。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供一种可光固化的涂层组合物，该涂层组合物能够提供同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，同时具有较低的反射率和较高的透光率两者的低折射率层。
本发明的另一目的是提供一种低折射率层，该低折射率层同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，并且同时具有较低的反射率和较高的透光率两者。
本发明的又一目的是提供一种减反射膜，该减反射膜表现出优异的机械性能同时提高显示装置的屏幕的清晰度。
技术方案
为了实现上述目的，本发明提供一种用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物，包含：可光聚合的化合物；无机微粒；被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷；含有光反应性官能团的氟系化合物；以及光聚合引发剂，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量为0.5重量份至25重量份。
另外，本发明提供一种低折射率层，该低折射率层包含上述可光固化的涂层组合物的光固化产物。
另外，本发明提供一种减反射膜，该减反射膜包含上述低折射率层和在该低折射率层的一个表面上形成的硬涂层。
下文中，将更详细地描述根据本发明的具体实施方案的可光固化的涂层组合物、低折射率层和减反射膜。
在本申请中，可光聚合的化合物统指当用光照射时，例如，当用可见光或紫外光照射时引起聚合反应的化合物。
此外，(甲基)丙烯酰基((meth)acryl)指包括丙烯酰基(acryl)和甲基丙烯酰基(methacryl)两者。
此外，(共)聚合物((co)polymer)指包括共聚物和均聚物两者。
此外，中空二氧化硅粒子指由硅化合物或有机硅化合物衍生的二氧化硅粒子，其中，在二氧化硅粒子的表面上和/或内部存在空穴。
根据本发明的一个实施方案，可以提供一种用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物，包含：可光聚合的化合物；无机微粒；被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷；含有光反应性官能团的氟系化合物；以及光聚合引发剂，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量为0.5重量份至25重量份。
本发明人对低折射率层和减反射膜进行了研究，通过实验发现，当使用包含特定量的被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的可光固化的涂层组合物时，可以提供一种低折射率层，该低折射率层不仅可以实现较低的反射率和较高的透光率，而且可以在改善耐碱性的同时确保优异的耐磨性和耐擦伤性，以及一种减反射膜，该减反射膜表现出优异的机械性能同时提高显示装置的屏幕的清晰度，从而完成本发明。
由上述一个实施方案的可光固化的涂层组合物提供的低折射率层可以改善显示装置的屏幕的清晰度，并且还具有优异的耐擦伤性和耐碱性，因此可以容易地应用于显示装置或偏光板的生产工艺，而没有特别的限制。
特别地，在由一个实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层的情况下，由于即使当暴露于碱时，外观特性如反射率或透光率或者机械性能如耐磨性和耐擦伤性也不大大降低，可以省去施用附加的保护膜以保护外表面的工艺，因此，可以简化生产过程并且可以降低生产成本。
具体地，在由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层的情况下，可以证实，即使当暴露于碱时，外观特性如平均反射率或颜色以及耐擦伤性也表现出不特别高的变化率，因此，由碱暴露引起的物理-化学变化相对较小。
在过去，主要尝试添加纳米尺度的各种粒子(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石等的粒子)的方法来改善减反射膜中包含的低折射率层的耐擦伤性。然而，根据该方法，可以在一定程度上确保耐擦伤性，但是纳米尺度的粒子表现出较低的表面处理速率，而且也存在如下限制：由于尺寸较小，因此，随着暴露于预处理溶液的比表面积的增加，耐碱性显著降低。
相反，基于100重量份的可光聚合的化合物，一个实施方案的可光固化的涂层组合物包含0.5重量份至25重量份或1.5重量份至19重量份的被一个或多个的反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷，从而提供能够同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，同时具有较低的反射率和较高的透光率两者的低折射率层，此外，可以提高最终制备的减反射膜或涂布有这种减反射膜的显示装置的性能和质量。
具体地，由于反应性官能团存在于被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的表面上，因此，可以提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的机械性能，例如，耐擦伤性。
另外，与使用过去已知的二氧化硅、氧化铝、沸石等的微粒的情况不同，由于硅氧烷键(-Si-O-)位于分子内部，因此，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷可以提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的耐碱性。
如上所述，基于100重量份的可光聚合的化合物，可光固化的涂层组合物包含0.5重量份至25重量份或1.5重量份至19重量份的被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
当在可光固化的涂层组合物中，相对于可光聚合的化合物，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量太小时，会难以确保在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的足够的耐碱性。
此外，当在可光固化的涂层组合物中，相对于可光聚合的化合物，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量太大时，由可光固化的涂层组合物制备的低折射率层或减反射膜的透明度会降低，并且耐擦伤性会稍微降低。
在聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团可以包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃[烯丙基(ally)、环烯基、乙烯基二甲基甲硅烷基(vinyldimethylsilyl)等]、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团，并且可以优选地是环氧化物或(甲基)丙烯酸酯。
反应性官能团的更具体的实例包括：(甲基)丙烯酸酯、具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯、具有3至20个碳原子的烷基环烷基环氧化物和具有1至10个碳原子的环烷烃环氧化物。
(甲基)丙烯酸烷基酯表示未与(甲基)丙烯酸酯键合的“烷基”的另一部分是键合位置，环烷基环氧化物表示未与环氧化物键合的“环烷基”的另一部分是键合位置，烷基环烷烃环氧化物表示未与环烷烃环氧化物键合的“烷基”的另一部分是键合位置。
另一方面，除了上述反应性官能团之外，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还可以包含选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环己基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一种非反应性官能团。
这样，由于在聚倍半硅氧烷中，反应性官能团和非反应性官能团进行表面取代，因此，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷中的硅氧烷键(-Si-O-)位于分子的内部而不暴露于外部，从而进一步提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的耐碱性。
特别地，当与反应性官能团一起引入到聚倍半硅氧烷中的非反应性官能团是具有6个以上碳原子或6至30个碳原子的直链或支链烷基或者具有6至30个碳原子的环己基时，涂膜或粘合剂树脂的耐碱性的改善效果更高。
另一方面，聚倍半硅氧烷可以由(RSiO1.5)n(其中，n为4至30或8至20)表示，并且可以具有多种结构，如无规的、梯形、笼形、部分笼形等。
然而，为了提高由一个实施方案的可光固化的涂层组合物制备的低折射率层和减反射膜的物理性能和质量，可以使用被一个或多个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷(polyhedral oligomeric silsesquioxane)作为被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
此外，更优选地，被一个或多个官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷在分子中可以包含8至20个硅原子。
被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的至少一个或所有硅原子可以被上述反应性官能团取代，此外，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子可以被反应性官能团取代，此外，未被反应性官能团取代的硅原子可以被上述非反应性官能团取代。
由于被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代，因此，可以提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的机械性能。此外，由于剩余的硅原子被非反应性官能团取代，因此，空间位阻呈现分子结构，这显著降低了硅氧烷键(-Si-O-)暴露于外部的频率或概率，从而可以提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的耐碱性。
更具体地，当聚倍半硅氧烷被反应性官能团和非反应性官能团两者取代时，在聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上或0.3以上，并且可以为0.20至6、0.3至4或0.4至3。
当在聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团与非反应性官能团之间的比例在上述范围内时，聚倍半硅氧烷分子中的空间位阻可以最大化，因此，可以显著降低硅氧烷键(-Si-O-)暴露于外部的频率或概率，并且可以进一步提高在使可光固化的涂层组合物光固化时所形成的涂膜或粘合剂树脂的机械性能或耐碱性。
另外，当在聚倍半硅氧烷中取代有反应性官能团和非反应性官能团两者时，在满足上述在聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团与非官能反应性基团的摩尔比的同时，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的100摩尔％的硅原子可以被反应性官能团和非反应性官能团取代。
另一方面，被至少一个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)的实例包括：被至少一个醇取代的POSS，如TMP二醇异丁基POSS、环己二醇异丁基POSS、1,2-丙二醇异丁基POSS、八(3-羟基-3-甲基丁基二甲基甲硅烷氧基)POSS(octa(3-hydroxy-3methylbutyldimethylsiloxy)POSS)等；被至少一个胺取代的POSS，如氨丙基异丁基POSS、氨基丙基异辛基POSS、氨乙基氨丙基异丁基POSS、N-苯基氨丙基POSS、N-甲基氨丙基异丁基POSS、八铵基POSS(octaammonium POSS)、氨基苯基环己基POSS、氨基苯基异丁基POSS等；被至少一个羧酸取代的POSS，如马来酰胺酸-环己基POSS、马来酰胺酸-异丁基POSS、八马来酰胺酸POSS等；被至少一个环氧基取代的POSS，如环氧环己基异丁基POSS、环氧环己基POSS、缩水甘油基POSS、缩水甘油基乙基POSS、缩水甘油基异丁基POSS、缩水甘油基异辛基POSS等；被至少一个酰亚胺取代的POSS，如马来酰亚胺环己基POSS、马来酰亚胺异丁基POSS等；被至少一个(甲基)丙烯酸酯基取代的POSS，如丙烯酰氧基异丁基POSS(acryloisobutyl POSS)、(甲基)丙烯酰基异丁基POSS((meth)acrylisobutyl POSS)、(甲基)丙烯酸酯基环己基POSS、(甲基)丙烯酸酯基异丁基POSS、(甲基)丙烯酸酯基乙基POSS、(甲基)丙烯酰基乙基POSS、(甲基)丙烯酸酯基异辛基POSS、(甲基)丙烯酰基异辛基POSS、(甲基)丙烯酰基苯基POSS、(甲基)丙烯酰基POSS、丙烯酰氧基POSS(acrylo POSS)等；被至少一个腈基取代的POSS，如氰基丙基异丁基POSS等；被至少一个降冰片烯取代的POSS，如降冰片烯基乙基乙基POSS、降冰片烯基乙基异丁基POSS、降冰片烯基乙基二硅烷基异丁基POSS(norbornenylethyl disilanoisobutyl POSS)、三降冰片烯基异丁基POSS等；被至少一个乙烯基取代的POSS，如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基POSS(octacyclohexenyldimethylsilyl POSS)、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS(octavinyldimethylsilyl POSS)、八乙烯基POSS等；被至少一个烯烃取代的POSS，如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基POSS(octacyclohexenyldimethylsilyl POSS)、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS(octavinyldimethylsilyl POSS)、八乙烯基POSS等；被具有5至30个碳原子的PEG取代的POSS；或者被至少一个硫醇基取代的POSS，如巯基丙基异丁基POSS、巯基丙基异辛基POSS等。
另一方面，一个实施方案的可光固化的涂层组合物可以包含含有光反应性官能团的氟系化合物。
由于包含含有光反应性官能团的氟系化合物，因此，由可光固化的涂层组合物制备的低折射率层和减反射膜可以具有降低的反射率和改善的透光度，并且可以进一步提高耐碱性和耐擦伤性。
氟系化合物可以包含或被至少一个光反应性官能团取代，光反应性官能团指可以通过照射光，例如，通过照射可见光或紫外光而参与聚合反应的官能团。
光反应性官能团可以包括已知能够通过照射光而参与聚合反应的各种官能团。其具体实例包括(甲基)丙烯酸酯基团、环氧基、乙烯基和硫醇基。
含有光反应性官能团的氟系化合物的氟含量可以为1重量％至25重量％。
当含有光反应性官能团的氟系化合物中的氟的含量太少时，氟成分不能充分地排布在由上述一个实施方案的可光固化的涂层组合物得到的最终产品的表面上，从而难以充分确保诸如耐碱性的物理性能。
此外，当含有光反应性官能团的氟系化合物中的氟的含量太多时，由一个实施方案的可光固化的涂层组合物得到的最终产品的表面特性会降低，或者在随后得到最终产品的过程中，缺陷产品的发生率会提高。
含有光反应性官能团的氟系化合物还可以包含硅或硅化合物。
换言之，含有光反应性官能团的氟系化合物可以在其中任选地含有硅或硅化合物，具体地，含有光反应性官能团的氟系化合物中的硅的含量可以为0.1重量％至20重量％。
在含有光反应性官能团的氟系化合物中包含的硅可以通过防止由上述实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层中的雾度的产生来提高透明度。
另一方面，如果含有光反应性官能团的氟系化合物中的硅的含量变得太大，则由一个实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层的耐碱性会降低。
含有光反应性官能团的氟系化合物的重均分子量(由通过GPC方法测定的聚苯乙烯换算)可以为2,000至200,000。
当含有光反应性官能团的氟系化合物的重均分子量太小时，由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有足够的耐碱特性。
此外，当含有光反应性官能团的氟系化合物的重均分子量太大时，由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有足够的耐久性和耐擦伤性。
具体地，含有光反应性官能团的氟系化合物可以包括：i)在至少一个碳原子上被至少一个光反应性官能团取代并且被至少一个氟取代的脂肪族化合物或脂环族化合物；ii)被至少一个光反应性官能团取代、至少一个氢被氟取代，并且至少一个碳被硅取代的杂脂肪族化合物或杂脂环族化合物；iii)在至少一个硅上被至少一个光反应性官能团取代并且被至少一个氟取代的聚二烷基硅氧烷类聚合物(例如，聚二甲基硅氧烷类聚合物)；或iv)被至少一个光反应性官能团取代并且至少一个氢被氟取代的聚醚化合物，或者i)至iv)中的两种以上的混合物或它们的共聚物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，可光固化的涂层组合物可以包含1重量份至75重量份的含有光反应性官能团的氟系化合物。
当相对于可光聚合的化合物，含有光反应性官能团的氟系化合物的添加量过多时，实施方案的可光固化的涂层组合物的涂布性能会降低，或者由上述实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有足够的耐久性或耐擦伤性。
另外，当相对于可光聚合的化合物，含有光反应性官能团的氟系化合物的量太少时，由实施方案的可光固化的涂层组合物得到的低折射率层不会具有足够的耐碱性。
另一方面，可光聚合的化合物可以包含含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
具体地，可光聚合的化合物可以包含含有一个以上、两个以上或三个以上(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
含有(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物的具体实例可以包括：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸六乙酯、甲基丙烯酸丁酯或它们中的两种以上的混合物，或者氨基甲酸酯改性的丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、醚丙烯酸酯低聚物、树枝状丙烯酸酯低聚物或它们中的两种以上的混合物。
此处，低聚物的分子量优选地为1,000至10,000。
含有乙烯基的单体或低聚物的具体实例包括二乙烯基苯、苯乙烯和对甲基苯乙烯。
对可光固化的涂层组合物中的可光聚合的化合物的含量没有特别地限制。然而，考虑到最终制备的低折射率层和减反射膜的机械性能，可光固化的涂层组合物的固体含量中的可光聚合的化合物的含量可以为20重量％至80重量％。
可光固化的涂层组合物的固体成分仅指除了可光固化的涂层组合物中的液体成分，例如，可以如下面所描述的任选包含的有机溶剂之外的固体成分。
另一方面，除了上述单体或低聚物之外，可光聚合的化合物还可以包含氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物。
当还包含氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物时，氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物与含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物的重量比可以为0.1％至10％。
氟系(甲基)丙烯酸酯类化合物的具体实例包括选自下面的化学式11至15中的至少一种化合物。
[化学式11]
在上面的化学式11中，R1是氢基或具有1至6个碳原子的烷基，a是0至7的整数，b是1至3的整数。
[化学式12]
在上面的化学式12中，c是1至10的整数。
[化学式13]
在上面的化学式13中，d是1至11的整数。
[化学式14]
在上面的化学式14中，e是1至5的整数。
[化学式15]
在上面的化学式15中，f是4至10的整数。
无机微粒指直径为纳米或微米单位的无机粒子。
具体地，无机微粒可以是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子。
中空二氧化硅粒子指在粒子的表面上和/或内部存在空穴的二氧化硅粒子。
中空二氧化硅粒子可以具有比填充在其中的粒子的折射率更低的折射率，从而可以表现出优异的减反射性能。
中空二氧化硅粒子的数均粒径可以为10nm至100nm，优选地为20nm至70nm，更优选地为30nm至70nm，粒子的形状优选地为球形，但是可以是无定形的。
另外，对于中空二氧化硅粒子，可以单独使用表面涂布有氟系化合物的中空二氧化硅粒子，或者可以与表面未涂布氟系化合物的中空二氧化硅粒子组合使用。
当中空二氧化硅粒子的表面涂布有氟系化合物时，可以进一步降低表面能。因此，中空二氧化硅粒子可以更均匀地分布在实施方案的可光固化的涂层组合物中，可以进一步改善由可光固化的涂层组合物得到的膜的耐久性和耐擦伤性。
作为在中空二氧化硅粒子的表面上涂布氟系化合物的方法，可以使用公知的粒子涂布方法、聚合方法等，而没有任何限制。例如，可以将中空二氧化硅粒子和氟系化合物在水和催化剂的存在下进行溶胶-凝胶反应，由此，氟系化合物可以通过水解和缩合反应结合至中空二氧化硅粒子的表面。
另外，中空二氧化硅粒子可以以分散在预定分散介质中的胶体相包含在组合物中。
包含中空二氧化硅粒子的胶体相可以包含有机溶剂作为分散介质。
此处，中空二氧化硅可以包含在其表面上取代的预定官能团，从而更容易分散在有机溶剂中。
对可以在中空二氧化硅粒子的表面上取代的有机官能团的实例没有特别地限制，但是，例如，(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、羟基、胺基、烯丙基、环氧基、羟基、异氰酸酯基、胺基、氟等可以在中空二氧化硅的表面上取代。
中空二氧化硅粒子的胶体相中的中空二氧化硅粒子的固体含量可以鉴于一个实施方案的可光固化的涂层组合物中的中空二氧化硅的含量范围以及可光固化的涂层组合物的粘度等来确定，例如，胶体相中的中空二氧化硅粒子的固体含量可以为5重量％至60重量％。
此处，分散介质中的有机溶剂的实例包括：醇，如甲醇、异丙醇、乙二醇、丁醇等；酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮等；芳香烃，如甲苯、二甲苯等；酰胺，如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等；酯，如乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁内酯等；醚，如四氢呋喃、1,4-二噁烷等；或它们的混合物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，可光固化的涂层组合物可以包含10重量份至320重量份或50重量份至200重量份的中空二氧化硅粒子。当添加过量的中空粒子时，由于粘合剂的含量降低，涂膜的耐擦伤性和耐磨性会降低。
作为光聚合引发剂，可以使用已知可用于可光固化的树脂组合物的任意化合物而没有特别地限制。具体地，可以使用二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物、联咪唑类化合物、三嗪类化合物、肟类化合物或它们中的两种以上的混合物。
基于100重量份的可光聚合的化合物，光聚合引发剂的用量可以为1重量份至100重量份。
当光聚合引发剂的量太少时，可光固化的涂层组合物在光固化步骤中不能充分地固化，从而会出现残留物质。
当光聚合引发剂的量太大时，未反应的引发剂会作为杂质残留，或者交联密度会降低，使得制备的膜的机械性能会降低或反射率会显著提高。
另一方面，可光固化的涂层组合物还可以包含有机溶剂。
有机溶剂的非限制性实例包括酮、醇、乙酸酯和醚，或它们中的两种以上的混合物。
有机溶剂的具体实例可以包括：酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酰丙酮、异丁基酮等；醇，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇等；乙酸酯，如乙酸乙酯、乙酸异丙酯、聚乙二醇单甲醚乙酸酯等；醚，如四氢呋喃、丙二醇单甲醚等；或它们中的两种以上的混合物。
有机溶剂可以在将待包含在可光固化的涂层组合物中的各成分混合时添加，或者可以在将各成分以分散的或混合的状态添加到有机溶剂中时包含在可光固化的涂层组合物中。
当可光固化的涂层组合物中的有机溶剂的含量太小时，可光固化的涂层组合物的流动性会降低，在最终制备的膜中引起诸如产生条纹的缺陷。
另外，当添加过量的有机溶剂时，固体含量降低，涂布和成膜不充分，因此膜的物理性能或表面特性会降低，并且在干燥和固化工艺的过程中会产生缺陷。
因此，可光固化的涂层组合物可以包含有机溶剂，使得所述涂层组合物中包含的组分的总固体含量的浓度可以为1重量％至50重量％或2重量％至20重量％。
另一方面，根据本发明的另一实施方案，可以提供包含所述可光固化的涂层组合物的光固化产物的低折射率层。
如上所述，由包含特定量的被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的可光固化的涂层组合物提供的低折射率层不仅可以实现低较低的反射率和较高的透光率，而且可以在改善耐碱性的同时确保优异的耐磨性和耐刮擦性，所述低折射率层可以容易地应用于显示装置或偏光板的生产工艺，而没有特别地限制。
特别地，在低折射率层的情况下，由于即使当暴露于碱时，外观特性如反射率或透光率或者机械性能如耐磨性和耐擦伤性也不大大降低，因此，可以省去施用附加的保护膜以保护外表面的工艺，从而可以简化生产过程并且可以降低生产成本。
低折射率层所具有的性能归因于在上述实施方案的可光固化的涂层组合物中包含的一定量的被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
具体地，与本领域中已知的使用诸如二氧化硅、氧化铝、沸石等的微粒的情况不同，被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷可以在其表面上具有反应性官能团，从而可以提高低折射率层的机械性能如耐擦伤性，并且可以改善低折射率层的耐碱性。
具体地，可以证实，即使当暴露于碱时，低折射率层的外观特性如平均反射率或颜色以及耐擦伤性也表现出不特别高的变化速率，由碱暴露引起的物理-化学变化相对较小。
低折射率层可以包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂包含在可光聚合的化合物和被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的无机微粒。
另外，如上所述，低折射率层可以包含由含有光反应性官能团的氟系化合物衍生的部分。
由于包含含有光反应性官能团的氟系化合物，低折射率层和减反射膜可以具有降低的反射率和改善的透光率，并且可以进一步提高耐碱性和耐擦伤性。
因此，粘合剂树脂还可以包含在可光聚合的化合物、具有光反应性官能团的含氟化合物和被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物。
在粘合剂树脂中，由被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷衍生的部分与由可光聚合的化合物衍生的部分的重量比可以为0.005至0.25或0.015至0.19。
被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的内容包括上面描述的关于一个实施方案的可光固化的涂层组合物的全部内容。
低折射率层可以通过将硬涂层组合物涂布至预定的基板上，然后使涂布后的产品光固化来得到。
对基板的具体类型和厚度没有特别地限制，可以使用已知可用于制备低折射率层或减反射膜的任意基板而没有特别地限制。
可以使用通常用于涂布可光固化的涂层组合物的方法和装置，而没有特别地限制，例如，可以使用棒涂布方法(如Meyer棒法)、凹版涂布方法、双辊反向涂布方法、真空狭缝式模具涂布方法、双辊涂布方法等。
低折射率层的厚度可以为1nm至300nm或50nm至200nm。
因此，涂布至预定基板上的可光固化的涂层组合物的厚度可以为约1nm至300nm或50nm至200nm。
在使可光固化的涂层组合物光固化的步骤中，可以照射波长为200nm至400nm的紫外线或可见光，照射过程中的照射剂量优选地为100至4,000mJ/cm2。
对曝光时间没有特别地限制，可以根据所使用的曝光装置、照射光的波长或曝光量来适当地调整。
另外，在使可光固化的涂层组合物光固化的步骤中，为了施加氮气气氛条件，可以进行氮气吹扫等。
上述实施方案的低折射率层的平均反射率可以为2.5％以下、1.5％以下或1.3％以下。
另一方面，根据本发明的另一实施方案，可以提供一种减反射膜，该减反射膜包含所述低折射率层和在该低折射率层的一个表面上形成的硬涂层。
与低折射率层有关的内容包括在上述实施方案中描述的所有内容。
另一方面，硬涂层通常可以使用公知的硬涂层而没有特别地限制。
作为硬涂层的一个实例，可以提出以下硬涂层，该硬涂层包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂包含可光固化的树脂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。
高分子量(共)聚合物可以是选自纤维素类聚合物、丙烯酸类聚合物、苯乙烯类聚合物、环氧化物类聚合物、尼龙类聚合物、氨基甲酸酯类聚合物和聚烯烃类聚合物中的至少一种。
硬涂层中包含的可光固化的树脂是当用诸如紫外线的光照射时可以引起聚合反应的可光固化的化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的树脂。
具体地，可光固化的树脂可以包括：选自包括聚氨酯丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯的反应性丙烯酸酯低聚物；以及包括二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三亚甲基丙基三丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯和乙二醇二丙烯酸酯的多官能丙烯酸酯单体中的至少一种。
有机或无机微粒的粒径可以为1μm至10μm。
有机或无机微粒可以是包括丙烯酸类树脂、苯乙烯类树脂、环氧树脂和尼龙树脂的有机微粒，或者可以是包括二氧化硅、二氧化钛、氧化铟、二氧化锡、氧化锆或氧化锌的无机微粒。
硬涂层可以由包含有机或无机微粒、可光固化的树脂、光引发剂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物的防眩光涂层组合物形成。
另一方面，作为硬涂层的另一实例，可以例示包含可光固化的树脂的粘合剂树脂以及分散在该粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂层。
硬涂层中包含的可光固化的树脂是当用诸如紫外线的光照射时可以引起聚合反应的可光固化的化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的一种树脂。
然而，优选地，可光固化的化合物可以是多官能(甲基)丙烯酸酯类单体或低聚物，其中，(甲基)丙烯酸酯官能团的数量为2至10，优选地为2至8，更优选地为2至7，这有利于确保硬涂层的物理性能。
更优选地，可光固化的化合物可以是选自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯中的至少一种。
抗静电剂可以是季铵盐化合物、导电聚合物或它们的混合物。
此处，季铵盐化合物可以是分子中具有至少一个季铵盐基团的化合物，并且可以使用低分子量形式或高分子量形式而没有限制。
另外，对于导电聚合物，可以使用低分子量形式或高分子形式而没有限制，对其类型没有特别地限制，只要它是在本发明所属的技术领域中通常使用的即可。
包含可光固化的树脂粘合剂树脂和分散在该粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂层还可以包含选自烷氧基硅烷类低聚物和金属醇盐类低聚物中的至少一种化合物。
烷氧基硅烷类化合物可以是在本领域中通常使用的化合物，但是优选地包括选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷和缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷中的至少一种化合物。
另外，金属醇盐类低聚物可以通过包含金属醇盐类化合物和水的组合物的溶胶-凝胶反应来制备。
所述溶胶-凝胶反应可以通过与上述用于制备烷氧基硅烷类低聚物的方法相似的方法进行。
然而，由于金属醇盐化合物可以与水迅速反应，因此，溶胶-凝胶反应通过在有机溶剂中稀释金属醇盐化合物，然后缓慢向其中滴加水来进行。
在这种情况下，考虑到反应效率等，优选调节金属醇盐化合物与水的摩尔比(基于金属离子)在3至170的范围内。
此处，金属醇盐类化合物可以是选自四异丙醇钛、异丙醇锆和异丙醇铝中的至少一种化合物。
另一方面，减反射膜还可以包含接合至硬涂层的另一表面的基板。
所述基板可以是透光率为90％以上且雾度为1％以下的透明膜。
基板的材料可以是三乙酰纤维素、环烯烃聚合物、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等。
此外，考虑到生产率等，基板膜的厚度可以为10μm至300μm。
然而，本发明不限于此。
有益效果
根据本发明，可以提供：一种可光固化的涂层组合物，该涂层组合物能够提供同时实现较高的耐碱性和耐擦伤性，同时具有较低的反射率和较高的透光率两者的低折射率层；由所述可光固化的涂层组合物得到的低折射率层；以及减反射膜，该减反射膜表现出优异的机械性能同时提高显示装置的屏幕的清晰度。
在低折射率层的情况下，由于即使当暴露于碱时，外观特性如反射率或透光率或者机械性能如耐磨性和耐擦伤性也不大大降低，因此，可以省去施用附加的保护膜以保护外表面的工艺，从而可以简化生产过程并且可以降低生产成本。
具体实施方式
将通过实施例更详细地描述本发明的具体实施方案。然而，这些实施例仅用于说明的目的，本发明的内容不意在被这些实施例所限制。
<制备实施例：硬涂层的制备>
制备实施例1：硬涂层1(HD1)的制备
(1)硬涂层1的制备(HD1)
用#10Mayer棒将盐型抗静电硬涂层溶液(固体含量：50重量％，产品名称：LJD-1000，由KYOEISHA Chemical Co.,Ltd.制备)涂布至三乙酰纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。然后对干燥后的产品以150mJ/cm2照射紫外线，得到厚度为10μm的硬涂层(HD1)。
<制备实施例2：硬涂层2(HD2)的制备>
将30g的季戊四醇三丙烯酸酯、2.5g的高分子量共聚物(BEAMSET 371，由ArakawaChemical Industries制备，环氧丙烯酸酯，分子量：40,000)、20g的甲基乙基酮和0.5g的流平剂(Tego wet 270)均匀混合，向其中添加2g的折射率为1.525的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂微粒(体积平均粒径：2mm，由Sekisui Plastic制备)以制备硬涂层组合物。
用#10Mayer棒将由此得到的硬涂层液体组合物涂布至三乙酰纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。
然后对干燥后的产品以150mJ/cm2照射紫外线，得到厚度为10μm的硬涂层(HD2)。
<合成备实施例：聚倍半硅氧烷(POSS)的制备>
合成实施例1：POSS1的制备
向配备有氮气引入管、冷凝器和搅拌器的1L的反应器中装入36.57g(0.156mol)的异辛基三甲氧基硅烷、23.34g(0.094mol)的3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和500mL的甲醇，将混合物在室温下搅拌10分钟。
之后，添加280g(0.77mol，在甲醇中为25重量％)的氢氧化四甲铵，并在氮气气氛下将反应器的温度升高至60℃，反应进行8小时。
反应结束之后，通过柱色谱法和重结晶得到15g的被异辛基和甲基丙烯酰氧基丙基取代的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)。
作为GC色谱法的结果，可以证实，在聚倍半硅氧烷的硅中取代的甲基丙烯酰氧基丙基与异辛基的摩尔比为约0.6至1.67。
合成实施例2：POSS2的制备
向配备有氮气引入管、冷凝器和搅拌器的1L的反应器中装入22.03g(0.094mol)的异辛基三甲氧基硅烷、38.74g(0.156mol)的3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和500mL的甲醇，将混合物在室温下搅拌10分钟。
之后，添加280g(0.77mol，在甲醇中为25重量％)的氢氧化四甲铵，并在氮气气氛下将反应器的温度升高至60℃，反应进行8小时。
反应结束之后，通过柱色谱法和重结晶得到18g的被异辛基和甲基丙烯酰氧基丙基取代的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)。
作为GC色谱法的结果，可以证实，在聚倍半硅氧烷的硅中取代的甲基丙烯酰氧基丙基与异辛基的摩尔比为约1.67至3。
合成实施例3：POSS3的制备
向配备有氮气引入管、冷凝器和搅拌器的1L的反应器中装入62g(0.25mol)的3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和500mL的甲醇，将混合物在室温下搅拌10分钟。
之后，添加280g(0.77mol，在甲醇中为25重量％)的氢氧化四甲铵，并在氮气气氛下将反应器的温度升高至60℃，反应进行8小时。
反应结束之后，通过柱色谱法和重结晶得到20g的被异辛基和甲基丙烯酰氧基丙基取代的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)。
作为GC色谱法的结果，可以证实，约100％的甲基丙烯酰氧基丙基取代在聚倍半硅氧烷的硅上。
<实施例和比较例：减反射膜的制备>
(1)用于制备低折射率层的可光固化的涂层组合物的制备
将下面的表1中的成分混合并用MIBK(甲基异丁基酮)溶剂稀释，使得固体含量为3重量％。
[表1](单位：g)
1)THRULYA 4320(由Catalysts and Chemicals Ltd.制备)：中空二氧化硅分散液(MIBK溶剂中的固体含量为20重量％)，
2)RS907(由DIC制备)：含有光反应性官能团的氟系化合物，在MIBK溶剂中稀释至固体含量为30重量％。
3)LE604(由Kyoeisha制备)：含有光反应性官能团并且含有微量的硅的氟系化合物，在1-丁醇溶剂中稀释至固体含量为30重量％
4)EP0408：由Hybrid Plastics制备
5)MEK-AC-2101(由Nissan Chemical Co.制备)：纳米二氧化硅分散体，在MEK溶剂中稀释至固体含量为40％
(2)低折射率层和减反射膜的制备(实施例1和2以及比较例)
用#3Mayer棒将由上面的表1分别得到的可光固化的涂层组合物涂布至下面的表2中所示的硬涂层上，并在60℃下干燥1分钟。
然后，在氮气吹扫下以180mJ/m2对干燥后的产品照射紫外线，形成厚度为110nm的低折射率层，由此制备减反射膜。
<试验例：减反射膜的物理性能的测量>
对在实施例和比较例中得到的减反射膜进行以下项目的实验。
1.碱预处理
将在实施例1和2以及比较例中得到的减反射膜分别浸渍在30℃的用蒸馏水稀释至10％的NaOH水溶液中3分钟，通过倒入水来洗涤，接着除去水分。
2.平均反射率和色坐标值(b*)的测量
在预处理之前和之后，并且在下面的实施例和比较例中当使用HD1作为硬涂层时采用测量模式，当使用HD2作为硬涂层时采用100％T模式，使用SolidSpec 3700(SHIMADZU)测量在480nm至780nm的波长区域中的平均反射率和色坐标值。
3.耐擦伤性的测量
在预处理之前和之后，在负载下以24rpm的速度用钢丝绒来回摩擦在实施例和比较例中得到的减反射膜的表面10次。
通过确认用肉眼观察到的1cm以下的划痕为1个以下时的最大负载，来评价耐擦伤性。
[表2]
如表2中所示，可以证实，实施例的减反射膜不仅在碱处理之前和之后平均反射率和色坐标值没有大的变化，而且具有比比较例更好的耐擦伤性。
特别地，实施例的减反射膜在碱处理之前和之后均具有相对较高的耐擦伤性，同时确保较低的反射率和较高的透明度。
此外，在实施例3、6、7和8中，在使用反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上的POSS而制备的减反射膜的情况下，也可以证实，在碱处理之前和之后均可以确保相对较高的耐擦伤性，同时确保较低的反射率和较高的透明度。
另一方面，可以证实，比较例1至5的减反射膜不仅在碱处理之后色坐标值的变化相对较大，而且具有较低的耐擦伤性。此外，可以证实，含有纳米二氧化硅的比较例6的减反射膜可以确保耐擦伤性，但是在碱处理之后色坐标值大大改变。
在实施例的减反射膜的情况下，由于即使当暴露于碱时，外观特性如反射率或透光率或者机械性能如耐磨性和耐擦伤性也不大大降低，因此，可以省去施用附加的保护膜以保护外表面的工艺，从而可以简化生产过程并且可以降低生产成本。

Claims (24)

1.一种用于形成低折射率层的可光固化的涂层组合物，包含：可光聚合的化合物；无机微粒；被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷；含有光反应性官能团的氟系化合物；以及光聚合引发剂，
其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的含量为0.5重量份至25重量份。
2.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述可光固化的涂层组合物包含1.5重量份至19重量份的所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷。
3.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团包括选自醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基中的至少一种官能团。
4.根据权利要求3所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷还包含选自具有1至30个碳原子的直链或支链烷基、具有6至30个碳原子的环己基和具有6至30个碳原子的芳基中的至少一种非反应性官能团。
5.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷包括被一个或多个反应性官能团取代的具有笼形结构的多面体低聚倍半硅氧烷。
6.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子被反应性官能团取代，并且未被反应性官能团取代的剩余硅原子被非反应性官能团取代。
7.根据权利要求6所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述聚倍半硅氧烷中取代的反应性官能团与非反应性官能团的摩尔比为0.20以上。
8.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述可光聚合的化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
9.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述氟系化合物中包含的光反应性官能团是选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，所述含有光反应性官能团的氟系化合物的氟含量为1重量％至25重量％。
11.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，其中，所述含有光反应性官能团的氟系化合物包括选自下列中的至少一种：i)在至少一个碳上被至少一个光反应性官能团取代并且被至少一个氟取代的脂肪族化合物或脂环族化合物；ii)被至少一个光反应性官能团取代、至少一个氢被氟取代并且至少一个碳被硅取代的杂脂肪族化合物或杂脂环族化合物；iii)在至少一个硅上被至少一个光反应性官能团取代并且被至少一个氟取代的聚二烷基硅氧烷类聚合物；以及iv)被至少一个光反应性官能团取代并且至少一个氢被氟取代的聚醚化合物。
12.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，所述含有光反应性官能团的氟系化合物的重均分子量为2,000至200,000。
13.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述涂层组合物包含1重量份至75重量份的所述含有光反应性官能团的氟系化合物。
14.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，所述无机微粒是数均粒径为10nm至100nm的中空二氧化硅粒子。
15.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，所述光聚合引发剂包括选自二苯甲酮类化合物、苯乙酮类化合物、联咪唑类化合物、三嗪类化合物和肟类化合物中的至少一种。
16.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述可光固化的涂层组合物包含10重量份至320重量份的中空二氧化硅粒子和1重量份至100重量份的所述光聚合引发剂。
17.根据权利要求1所述的可光固化的涂层组合物，
其中，所述可光固化的涂层组合物的固体含量中所述可光聚合的化合物的含量为20重量％至80重量％。
18.一种低折射率层，包含：权利要求1所述的可光固化的涂层组合物的固化产物。
19.根据权利要求18所述的低折射率层，包含：在可光聚合的化合物、具有光反应性官能团的含氟化合物和被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物；以及分散在粘合剂树脂中的无机微粒。
20.根据权利要求19所述的低折射率层，其中，在所述粘合剂树脂中，由所述被一个或多个反应性官能团取代的聚倍半硅氧烷衍生的部分与由所述可光聚合的化合物衍生的部分的重量比为0.005至0.20。
21.一种减反射膜，该减反射膜包含权利要求18所述的低折射率层和在该低折射率层的一个表面上形成的硬涂层。
22.根据权利要求21所述的减反射膜，其中，所述硬涂层包含：粘合剂树脂，该粘合剂树脂包含可光固化的树脂和重均分子量为10,000以上的高分子量(共)聚合物；以及分散在所述粘合剂树脂中的有机或无机微粒。
23.根据权利要求21所述的减反射膜，其中，所述硬涂层包含可光固化的树脂的粘合剂树脂和分散在该粘合剂树脂中的抗静电剂。
24.根据权利要求23所述的减反射膜，
其中，所述硬涂层还包含选自烷氧基硅烷类低聚物和金属醇盐类低聚物中的至少一种化合物。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108192498A (zh) * 2017-12-11 2018-06-22 华南农业大学 水下超疏油自清洁uv固化金属涂料及其涂层和制备方法与应用
CN108410351A (zh) * 2018-03-09 2018-08-17 东莞市派乐玛新材料技术开发有限公司 有机硅/无机硅杂化阻隔涂层组合物及其制备方法与应用
CN109321012A (zh) * 2018-10-15 2019-02-12 湖北三江航天江北机械工程有限公司 陶瓷天线罩防潮用有机-无机涂层及其制备方法
CN110018532A (zh) * 2018-02-13 2019-07-16 日本板硝子株式会社 膜、液态组合物、光学元件、以及摄像装置
CN111580194A (zh) * 2019-02-15 2020-08-25 罗门哈斯电子材料有限责任公司 减反射涂层
CN112533707A (zh) * 2018-05-14 2021-03-19 Nbd纳米技术公司 有机硅烷涂布组合物
CN112639617A (zh) * 2019-07-02 2021-04-09 株式会社Lg化学 光聚合物组合物
CN116285495A (zh) * 2021-12-08 2023-06-23 乐金显示有限公司 显示装置

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101807208B1 (ko) * 2015-08-18 2017-12-08 주식회사 엘지화학 저굴절층 및 이를 포함하는 반사 방지 필름
KR101956830B1 (ko) 2015-08-18 2019-03-12 주식회사 엘지화학 저굴절층 및 이를 포함하는 반사 방지 필름
KR101959510B1 (ko) 2016-03-04 2019-03-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101889956B1 (ko) * 2016-03-09 2018-08-20 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101951863B1 (ko) * 2016-03-14 2019-02-25 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR102268129B1 (ko) 2017-10-16 2021-06-22 주식회사 엘지화학 비반응성 불소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물
CN108084379B (zh) * 2017-12-21 2021-01-15 西安交通大学 用于文物粘接保护的poss基多臂嵌段共聚物的制备方法
KR102363875B1 (ko) * 2018-10-04 2022-02-15 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102541647B1 (ko) * 2020-02-18 2023-06-08 삼성에스디아이 주식회사 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치
KR102394522B1 (ko) * 2020-06-23 2022-05-06 엔씨케이 주식회사 박막 봉지용 조성물
KR102372269B1 (ko) * 2020-07-31 2022-03-10 한국과학기술연구원 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 수지 조성물 및 이를 포함하는 무용매형 하드 코팅 필름
CN114574090B (zh) * 2022-03-02 2022-11-04 宁波集科威视讯有限公司 一种防眩防划伤显示器功能膜及其制备方法和应用
US20240117095A1 (en) * 2022-09-21 2024-04-11 Vadient Optics, Llc Grin lenses made by 3d printing monomer-based inks

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040012317A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, and image display device
JP2006063147A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Jsr Corp 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
CN101531839A (zh) * 2009-04-24 2009-09-16 中国科学院广州化学研究所 一种含硅和氟的环氧(甲基)丙烯酸酯紫外光固化复合涂料及其制备方法
JP2010254950A (ja) * 2008-10-10 2010-11-11 Sony Corp 樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法
CN102388056A (zh) * 2009-03-26 2012-03-21 昔格耐阿莫立脱股份有限公司 对无机薄膜涂层具有改善粘附力的耐划痕涂层
CN103265829A (zh) * 2011-11-04 2013-08-28 Sk新技术株式会社 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置
JP2015117333A (ja) * 2013-12-19 2015-06-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 マスターバッチ型潜在性エポキシ樹脂硬化剤組成物及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000334881A (ja) * 1999-05-28 2000-12-05 Konica Corp かご状シルセスキオキサン含有皮膜
JP2004277596A (ja) * 2003-03-17 2004-10-07 Nitto Denko Corp 硬化膜、反射防止フィルム、光学素子、及び画像表示装置
KR101546098B1 (ko) * 2009-08-03 2015-08-20 동우 화인켐 주식회사 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 편광판 및 표시 장치
KR101411023B1 (ko) * 2012-04-19 2014-06-23 제일모직주식회사 윈도우 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR101519497B1 (ko) * 2012-04-25 2015-05-12 주식회사 엘지화학 내찰상성이 우수한 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101548313B1 (ko) * 2012-05-25 2015-08-28 주식회사 엘지화학 내찰상성이 우수한 저반사 코팅용 조성물 및 이를 사용한 반사 방지 필름
US9348228B2 (en) * 2013-01-03 2016-05-24 Globalfoundries Inc. Acid-strippable silicon-containing antireflective coating
CN103305036B (zh) * 2013-06-18 2016-09-14 武汉绿凯科技有限公司 一种含poss减反射膜镀膜液及其制备方法与应用
JP6661286B2 (ja) * 2014-06-30 2020-03-11 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 樹脂膜、光学部材および偏光部材
WO2016159023A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 Jnc株式会社 コーティング剤、皮膜、積層体、表面保護物品
KR101807208B1 (ko) * 2015-08-18 2017-12-08 주식회사 엘지화학 저굴절층 및 이를 포함하는 반사 방지 필름
KR102016710B1 (ko) * 2016-01-07 2019-09-02 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101959510B1 (ko) * 2016-03-04 2019-03-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
KR101889956B1 (ko) * 2016-03-09 2018-08-20 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040012317A1 (en) * 2002-07-08 2004-01-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, and image display device
JP2006063147A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Jsr Corp 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物及び反射防止膜
JP2010254950A (ja) * 2008-10-10 2010-11-11 Sony Corp 樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法
CN102388056A (zh) * 2009-03-26 2012-03-21 昔格耐阿莫立脱股份有限公司 对无机薄膜涂层具有改善粘附力的耐划痕涂层
CN101531839A (zh) * 2009-04-24 2009-09-16 中国科学院广州化学研究所 一种含硅和氟的环氧(甲基)丙烯酸酯紫外光固化复合涂料及其制备方法
CN103265829A (zh) * 2011-11-04 2013-08-28 Sk新技术株式会社 用于低折射层的含有含氟化合物的涂覆组合物、抗反射膜、偏光片与图像显示装置
JP2015117333A (ja) * 2013-12-19 2015-06-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 マスターバッチ型潜在性エポキシ樹脂硬化剤組成物及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108192498A (zh) * 2017-12-11 2018-06-22 华南农业大学 水下超疏油自清洁uv固化金属涂料及其涂层和制备方法与应用
CN108192498B (zh) * 2017-12-11 2019-07-09 华南农业大学 水下超疏油自清洁uv固化金属涂料及其涂层和制备方法与应用
CN110018532A (zh) * 2018-02-13 2019-07-16 日本板硝子株式会社 膜、液态组合物、光学元件、以及摄像装置
CN108410351A (zh) * 2018-03-09 2018-08-17 东莞市派乐玛新材料技术开发有限公司 有机硅/无机硅杂化阻隔涂层组合物及其制备方法与应用
CN108410351B (zh) * 2018-03-09 2020-06-16 东莞市派乐玛新材料技术开发有限公司 有机硅/无机硅杂化阻隔涂层组合物及其制备方法与应用
CN112533707A (zh) * 2018-05-14 2021-03-19 Nbd纳米技术公司 有机硅烷涂布组合物
CN109321012A (zh) * 2018-10-15 2019-02-12 湖北三江航天江北机械工程有限公司 陶瓷天线罩防潮用有机-无机涂层及其制备方法
CN111580194A (zh) * 2019-02-15 2020-08-25 罗门哈斯电子材料有限责任公司 减反射涂层
CN112639617A (zh) * 2019-07-02 2021-04-09 株式会社Lg化学 光聚合物组合物
CN116285495A (zh) * 2021-12-08 2023-06-23 乐金显示有限公司 显示装置
CN116285495B (zh) * 2021-12-08 2024-04-26 乐金显示有限公司 显示装置

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