[go: up one dir, main page]

CN106527042B - 一种掩膜版及其制备方法 - Google Patents

一种掩膜版及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106527042B
CN106527042B CN201710011050.3A CN201710011050A CN106527042B CN 106527042 B CN106527042 B CN 106527042B CN 201710011050 A CN201710011050 A CN 201710011050A CN 106527042 B CN106527042 B CN 106527042B
Authority
CN
China
Prior art keywords
foreboard
mask
back plate
substrate
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201710011050.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106527042A (zh
Inventor
聂彬
王军帽
张玉虎
岳浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201710011050.3A priority Critical patent/CN106527042B/zh
Publication of CN106527042A publication Critical patent/CN106527042A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106527042B publication Critical patent/CN106527042B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/70Adapting basic layout or design of masks to lithographic process requirements, e.g., second iteration correction of mask patterns for imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

本发明涉及显示技术领域,公开一种掩膜版及其制备方法,掩膜版包括前板,前板包括衬底以及形成于衬底上的掩模图形,还包括与前板相对设置的后板,后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接,后板包括玻璃基板以及形成在玻璃基板上的间隙物,间隙物设置在后板上与前板相对的表面,且沿后板上与掩模图形周边相对的位置均匀设置,用于支撑前板;间隙物设置在掩模图形的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形的污染,保护掩模图形,延长掩膜版的使用时间,同时,方便清洗,在清洗过程中减少对掩模图形的损伤,减少了重复性不良,提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失,故能够保护掩模图形,方便清洗,减少重复性不良,提高产品良率,降低成本。

Description

一种掩膜版及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版及其制备方法。
背景技术
光刻技术目前广泛应用于半导体显示领域,在光刻技术的曝光工序中需要用掩膜版,光线透过掩膜版对光敏材料进行曝光,而掩膜版是光刻工艺制程中所使用的图形母版,由不透光的遮光薄膜在透明玻璃基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上。
目前,掩膜版的制作工艺是在玻璃基板上镀铬,然后通过涂胶、曝光、显影、烘烤、刻蚀、剥离等工序形成图形后最后贴上保护薄膜来保护掩膜图形;这种掩膜版有以下缺点:1.保护薄膜表面易沾上灰尘颗粒,产生Repeat(重复)性不良;2.保护薄膜表面若沾上灰尘颗粒不易清洗(不能水洗,不能擦),目前条件下,只能利用气枪或者IPA(异丙醇)浸泡清洗掩膜版的背面,掩膜版贴有保护薄膜的一面是无法浸泡的,若用气枪吹扫清洗灰尘颗粒易划伤或在气枪吹扫清洗的时候易吹破;出现以上问题只有返厂重贴,成本较高,而且影响生产。因此,提供一种方便清洗的掩膜版显得尤为必要。
发明内容
本发明提供一种掩膜版及其制备方法,该掩膜版采用玻璃保护掩模图形,方便清洗,减少重复性不良,提高产品良率,降低成本。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种掩膜版,包括前板,所述前板包括衬底以及形成于所述衬底上的掩模图形,还包括与所述前板相对设置的后板,所述后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接,所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的间隙物,所述间隙物设置在所述后板上与所述前板相对的表面,且沿所述后板上与所述掩模图形周边相对的位置均匀设置,用于支撑所述前板。
在上述掩膜版中,掩模图形位于衬底和玻璃基板之间,且衬底和玻璃基板之间通过密封胶密封,间隙物设置在掩模图形的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形的污染,保护掩模图形,延长掩膜版的使用时间,同时,采用玻璃基板代替现有技术中的薄膜,方便清洗,在清洗过程中减少对掩模图形的损伤,减少了重复性不良,提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。
因此,上述掩膜版采用玻璃保护掩模图形,方便清洗,减少重复性不良,提高产品良率,降低成本。
优选地,所述间隙物的材料为光阻材料。
优选地,所述密封材料为封框胶,所述封框胶涂覆在所述玻璃基板的周边。
优选地,所述掩模图形的材料为铬。
优选地,所述后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接。
一种如上述技术方案任一项所述的掩膜版的制备方法,包括:
在衬底上形成掩模图形以构成前板;
在玻璃基板上形成间隙物以构成后板;
在所述后板的周边涂覆密封胶;
将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板。
优选地,当所述掩模图形的材料为金属材料时,所述在衬底基板上形成掩膜图形以构成前板包括:
在衬底的表面溅射一层金属膜;
在所述金属膜上涂覆光刻胶,并通过构图工艺形成掩膜图形。
优选地,所述在玻璃基板上形成间隙物以构成后板包括:
在玻璃基板上涂覆光刻胶,并通过光刻工艺形成间隙物。
优选地,所述将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板包括:
对合所述前板和后板;
高温烘烤所述密封胶;
密封胶固化以粘合所述前板和后板。
附图说明
图1为本发明提供的一种掩膜版的结构示意图;
图2为本发明提供的一种掩膜版的前板的结构示意图;
图3为本发明提供的一种掩膜版的后板的结构示意图;
图4为本发明提供的一种掩膜版的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1、图2以及图3所示,一种掩膜版,包括前板,前板包括衬底5以及形成于衬底5上的掩模图形1,还包括与前板相对设置的后板,后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接,后板包括玻璃基板4以及形成在玻璃基板4上的间隙物3,间隙物3设置在后板上与前板相对的表面,且沿后板上与掩模图形1周边相对的位置均匀设置,用于支撑前板。
在上述掩膜版中,掩模图形1位于衬底5和玻璃基板4之间,且衬底5和玻璃基板4之间通过密封胶密封,间隙物3设置在掩模图形1的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形1的污染,保护掩模图形1,延长掩膜版的使用时间,同时,采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜,方便清洗,在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤,减少了重复性不良,提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。
因此,上述掩膜版采用玻璃保护掩模图形1,方便清洗,减少重复性不良,提高产品良率,降低成本。
一种优选实施方式中,间隙物3的材料可以为光阻材料。根据掩膜版的具体实际情况选择合适的间隔物材料,常见的间隔物可以选择光阻材料,在后板上涂覆一层光阻材料,然后通过光刻工艺形成间隔物以支撑前板。
一种优选实施方式中,密封材料可以为封框胶2,封框胶2涂覆在玻璃基板4的周边。根据掩膜版的具体实际情况选择合适的密封材料,常见的密封材料可以选择封框胶2,以将前板和后板密封,在玻璃基板4的周边涂覆一层封框胶2,然后将前板和后板对合,通过高温烘烤将封框胶2固化以使得前后板粘合在一起,进而能够减少外物对掩模图形1的污染,保护掩模图形1,延长掩膜版的使用时间,同时,采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜,方便清洗,在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤,减少了重复性不良,提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。
一种优选实施方式中,掩模图形1的材料可以为铬,掩模图形1的材料为金属材料,根据掩膜版的具体实际情况,掩模图形1的材料可以为铬,也可以为其他金属材料。
一种优选实施方式中,后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接,在将前板和后板对合以后,通过高温烘烤将密封胶内的环氧树脂在催化剂的作用下固化,从而将前后板粘合在一起。
如图4所示,一种如上述技术方案任一项的掩膜版的制备方法,包括:
步骤S201,在衬底5上形成掩模图形1以构成前板;
步骤S202,在玻璃基板4上形成间隙物3以构成后板;
步骤S203,在后板的周边涂覆密封胶;
步骤S204,将前板和后板对合并使密封胶固化以粘合前板和后板。
在上述掩膜版的制备方法中,通过步骤S201形成前板,前板上形成有掩模图形1;通过步骤S202形成后板,后板上形成有间隙物3;通过步骤S203以及步骤S204将前板和后板密封固定,以使掩模图形1位于衬底5和玻璃基板4形成的密封空间内,以减少外物对掩模图形1的污染,保护掩模图形1,延长掩膜版的使用时间,同时,采用玻璃基板4代替现有技术中的薄膜,方便清洗,在清洗过程中减少对掩模图形1的损伤,减少了重复性不良,提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失。
一种优选实施方式中,当掩模图形1的材料为金属材料时,在衬底5基板上形成掩膜图形以构成前板包括:
在衬底5的表面溅射一层金属膜;
在金属膜上涂覆光刻胶,并通过构图工艺形成掩膜图形。
将衬底5的表面溅射一层金属膜,上述金属膜可以为铬膜,也可以为其他金属膜,然后通过光刻、烘烤、刻蚀、剥离等构图工艺将需要的掩模图形1制作在基板表面。
一种优选实施方式中,在玻璃基板4上形成间隙物3以构成后板包括:
在玻璃基板4上涂覆光刻胶,并通过光刻工艺形成间隙物3。
在玻璃基板4上涂覆光刻胶,然后通过光刻工艺制作成间隙物3以保证在前后板对合时支撑前板。
一种优选实施方式中,将前板和后板对合并使密封胶固化以粘合前板和后板包括:
对合前板和后板;
高温烘烤密封胶;
密封胶固化以粘合前板和后板。
在玻璃表面周边涂覆一圈密封胶,然后将前后板对合,通过高温烘烤将密封胶内的环氧树脂在催化剂的作用下固化,从而将前后板粘合在一起。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (8)

1.一种掩膜版,其特征在于,包括前板,所述前板包括衬底以及形成于所述衬底上的掩模图形,还包括与所述前板相对设置的后板,所述后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接,所述后板包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的间隙物,所述间隙物设置在所述后板上与所述前板相对的表面,且沿所述后板上与所述掩模图形周边相对的位置均匀设置,用于支撑所述前板;
所述密封胶为封框胶,所述封框胶涂覆在所述玻璃基板的周边。
2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述间隙物的材料为光阻材料。
3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩模图形的材料为铬。
4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述后板和前板之间通过密封胶固化后固定连接。
5.一种如权利要求1-4任一项所述的掩膜版的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底上形成掩模图形以构成前板;
在玻璃基板上形成间隙物以构成后板;
在所述后板的周边涂覆密封胶;
将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,当所述掩模图形的材料为金属材料时,所述在衬底基板上形成掩膜图形以构成前板包括:
在衬底的表面溅射一层金属膜;
在所述金属膜上涂覆光刻胶,并通过构图工艺形成掩膜图形。
7.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述在玻璃基板上形成间隙物以构成后板包括:
在玻璃基板上涂覆光刻胶,并通过光刻工艺形成间隙物。
8.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述将所述前板和后板对合并使密封胶固化以粘合所述前板和后板包括:
对合所述前板和后板;
高温烘烤所述密封胶;
密封胶固化以粘合所述前板和后板。
CN201710011050.3A 2017-01-06 2017-01-06 一种掩膜版及其制备方法 Expired - Fee Related CN106527042B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710011050.3A CN106527042B (zh) 2017-01-06 2017-01-06 一种掩膜版及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710011050.3A CN106527042B (zh) 2017-01-06 2017-01-06 一种掩膜版及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106527042A CN106527042A (zh) 2017-03-22
CN106527042B true CN106527042B (zh) 2019-12-03

Family

ID=58335272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710011050.3A Expired - Fee Related CN106527042B (zh) 2017-01-06 2017-01-06 一种掩膜版及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106527042B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109491200A (zh) * 2018-11-28 2019-03-19 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种掩膜版、制造方法及设备
CN116162892A (zh) * 2023-02-22 2023-05-26 马鞍山市槟城电子有限公司 一种金属淀积方法、设备及半导体器件制造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1658007A (zh) * 2005-01-13 2005-08-24 友达光电股份有限公司 微机电光学显示组件
CN202886836U (zh) * 2012-11-14 2013-04-17 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050238964A1 (en) * 2004-04-26 2005-10-27 Chao-Yung Chu Photomask
US7767985B2 (en) * 2006-12-26 2010-08-03 Globalfoundries Inc. EUV pellicle and method for fabricating semiconductor dies using same
CN101435990B (zh) * 2007-11-15 2012-12-26 北京京东方光电科技有限公司 掩模板及其制造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1658007A (zh) * 2005-01-13 2005-08-24 友达光电股份有限公司 微机电光学显示组件
CN202886836U (zh) * 2012-11-14 2013-04-17 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版

Also Published As

Publication number Publication date
CN106527042A (zh) 2017-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5365571B2 (ja) スクリーン印刷版およびその製造方法
CN103395306B (zh) 触摸屏边框的制作方法
CN106527042B (zh) 一种掩膜版及其制备方法
CN103197472B (zh) 一种液晶面板的制备方法
CN107415511A (zh) 一种直接将模具纹理或图案转印到钢化玻璃上的方法
CN104503630A (zh) 一种全密封触控液晶一体屏及其制造工艺
CN104635993A (zh) 一种白色ogs触摸屏中白色边框的制备方法
CN106980199A (zh) 一种透明显示器及其制造工艺
CN105807557B (zh) 一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法
CN102736310B (zh) 彩色滤光片的制作方法
CN103275631A (zh) 一种透明防水打印贴膜的加工制造方法
CN106094355A (zh) 一种全密封触控液晶一体屏及其制造工艺
CN101835015A (zh) 一种封屏面板工艺处理方法
CN105068324B (zh) 液晶面板的制造方法和胶框固化掩膜板的制造方法
KR101723528B1 (ko) 터치 스크린 패널의 윈도우 커버 제조방법
CN101620302B (zh) 色轮
CN105278762A (zh) 一种全贴合红外超轻超薄触摸液晶硬屏及其制造工艺
CN104698653A (zh) 一种lcd制造方法
JP2020034731A (ja) カラーフィルタおよび液晶パネル
TW201608428A (zh) 觸控面板
CN218089365U (zh) 一种防鸟撞玻璃
CN106033289B (zh) 一种制备黑白点阵触摸液晶屏的方法
CN102964065A (zh) 一种ogs产品的生产过程中在玻璃基材上覆盖油墨层的方法
CN109212635A (zh) 一种曲面多光谱复眼结构制作方法
CN222454912U (zh) 一种可重复利用贴服性好的屏幕防护膜

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20191203

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee