CN105705474A

CN105705474A - 包含用含有银基功能层和厚TiOx下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃

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Publication number: CN105705474A
Application number: CN201480062549.1A
Authority: CN
Inventors: S.布罗萨尔
Original assignee: Saint Gobain Glass France SAS
Current assignee: Saint Gobain Glass France SAS
Priority date: 2013-11-15
Filing date: 2014-11-14
Publication date: 2016-06-22
Anticipated expiration: 2034-11-14
Also published as: FR3013348B1; KR20160085772A; JP2016538220A; CN105705474B; EA034007B1; EP3068741B1; EP3620442A1; JP6495903B2; US10207952B2; PL3068741T3; MX2016006195A; ES2778461T3; PL3620442T3; ES2866351T3; EP3068741A1; US20160297709A1; WO2015071610A1; EA201691007A1; FR3013348A1; EP3620442B1

Abstract

本发明涉及窗玻璃，其包含涂覆有包含至少一个银基金属功能层、至少两个抗反射涂层的薄层堆叠体的透明基材，每个抗反射涂层包含至少一个电介质层，使得每个金属功能层被设置在两个抗反射涂层之间。该堆叠体包含至少一个含有可以产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层，和至少一个基于氧化钛的阻挡层，该阻挡层具有高于1nm的厚度，该阻挡层位于该包含可以产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层和银基金属功能层之间，直接地与该银基金属功能层接触。

Description

包含用含有银基功能层和厚TiOx下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃

本发明涉及包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的窗玻璃，该薄层堆叠体包含至少一个银基金属功能层。

银基金属功能层(或者银层)具有有利的导电性质和红外线(IR)辐射的反射性质，由此它们用于目的在于减少进入的太阳能量的“日光控制”窗玻璃中和/或在目的在于减少朝向建筑物或者交通工具外面消散的能量的量的“低辐射”窗玻璃中。

这些银层被沉积在通常包含数个允许调节该堆叠体的光学性质的电介质层的抗反射涂层之间。而且，这些电介质层允许保护银层不受化学或者机械侵蚀。

窗玻璃的光学和电性质直接取决于银层的质量，如它们的结晶态，它们的均匀性和它们的环境，如在银层上面和在下面的界面的性质和表面粗糙度。

为了改善银基金属功能层的质量,已知使用阻挡层，其作用是保护这些层不受可能的与抗反射涂层的沉积相关的或者与热处理相关的劣化。已经提出了许多种特别地在所述阻挡层的性质、数目和位置方面的改变的可能性。

例如，可以使用阻挡层或者由数个阻挡层组成的阻挡涂层。这些阻挡层或者涂层可以仅仅位于该功能层的上方，仅仅位于该功能层的下方或者同时在该功能层上方和下方。

阻挡层的性质和厚度的选择与构成该功能层的材料，构成该与功能层接触的抗反射涂层的材料、可能的热处理和期望的性质有关。

该堆叠体的复杂性以及处理和期望性质的多样性使得需要调节该阻挡层的特征适应每种结构。

在传统使用的阻挡层中，可以提到基于选自铌Nb、钽Ta、钛Ti、铬Cr或者镍Ni的金属或者基于由这些金属至少两种获得的合金，特别地基于镍和铬(Ni/Cr)的合金的阻挡层。

基于镍和铬的阻挡层允许降低雾度和改善在淬火类型热处理之后的机械性质。然而，这些层的存在使该堆叠体的辐射性、吸收和导电性(特别地通过促进电子扩散)劣化。这些层还减弱与用于促进银结晶的稳定层(如氧化锌层)的存在相关的有益影响，当这些阻挡层被插入在稳定层和银层之间时。

本发明非常特别地涉及一种窗玻璃，其必须经历高温热处理，如退火、弯曲和/或淬火。然而，高温热处理可以引起在银层内的改变，特别地产生缺陷。这些缺陷中一些以孔穴或者圆丘形式存在。

“孔穴”类型的缺陷对应于出现缺少银的区域(显示出环形或者树枝形状)，即对应于银层的部分反润湿(demouillage)。该银层，在热处理之后，是包含环形或者树枝形状孔穴(对应于无银区域)的银层。使用显微镜观察的银层看起来是平面的。在具有银的区域处获取的这种层的厚度改变不大。

“圆丘”类型缺陷对应于“大”银颗粒的存在，其引起在银层内的厚度变化，即加厚区域和变薄区域。厚度变化可以点状的，即仅仅在所述“大”颗粒处观察到。银层因此可以具有均匀的厚度，除大晶体位置之外。由于银层的围绕所述“大”颗粒的重排，厚度变化可以是更宽幅的。“圆丘”类型缺陷不对应于“孔穴”类型缺陷的中间状态。

附图1.a是使用透射式电子显微镜拍摄的孔穴类型缺陷在截面中的图像。附图1.b是使用扫描电子显微镜拍摄的图像，其通过白线定位附图1.a的截面。

附图2是使用透射式电子显微镜拍摄的圆丘类型缺陷在截面中的图像。

在这些附图中，区分出玻璃基材1，位于银层下方的包含数个电介质层的抗反射涂层2，银层3，位于该银层上方的抗反射涂层4和保护层5。

这些图像清楚地显示在孔穴类型缺陷和圆丘类型缺陷之间的差异。

这些缺陷的存在引起光的散射现象，这在视觉上体现为在强烈光下通常可见的称为“雾度”的发光光晕的出现。雾度对应于在大于2.5°的角度进行散射的透射光的量。

这些缺陷的存在看起来还引起导电性和机械强度的降低和腐蚀点的出现。这些腐蚀点通常是可见的，甚至在正常光中也如此。

形成这些缺陷的原因和机理仍然没有充分地被理解。孔穴或者圆丘类型缺陷的出现看起来是强烈地取决于构成位于银层的上方和下方的抗反射涂层的电介质层的种类。某些电介质材料(特别地某些氧化物)在堆叠体中的存在提高了某些缺陷(孔穴或者圆丘)的形成。

本申请人已经发现基于氧化钛(TiO₂)，氧化铌(Nb₂O₅)或者氧化锡(SnO₂)的电介质层在抗反射涂层中的存在促进在在高温的热处理期间形成孔穴类型缺陷。事实上，这些材料由于它的高折光指数在光学上是有利的材料，特别地二氧化钛。例如从申请EP678484和EP2406197已知：一个或多个具有高折光指数的电介质层(位于基材和金属功能层之间)可以允许使得金属功能层是抗反射的。目的是在抗反射涂层中不使用这种类型高指数材料的技术方案不是令人满意的。

本申请人已经发现基于氧化锌锡(SnZnO)的电介质层在抗反射涂层中的存在促进圆丘类型缺陷的形成。

最后，本申请人已经发现基于氮化硅(任选地用铝掺杂)电介质层的存在产生少得多的孔穴类型或者的圆丘类型的缺陷。

申请WO2007/054656公开了包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的窗玻璃，该薄层堆叠体包含银基金属功能层和基于氧化钛的阻挡层。该阻挡层具有优选地在0.5和2nm之间的厚度。该抗反射涂层由基于氮化硅和氧化锌的电介质层组成。这些电介质层在热处理之后不具有在银基功能层中形成孔穴或者圆丘类型缺陷的倾向。

本发明的目的是开发一种包含用堆叠体涂覆的基材的窗玻璃，该堆叠体包含至少一个银基功能层和至少一个抗反射涂层，该抗反射涂层包含可以在该银基功能层中引起孔穴类型缺陷的电介质层。该窗玻璃必须能够经受弯曲，淬火或者退火类型的高温热处理，同时保持它的光学质量，它的机械强度和它的耐腐蚀性，尽管存在可以引起孔穴的层。这些有利的性质必须还在不改变其它对于包含银层的堆叠体来说所希望的性质(例如不显著地改变吸收作用、辐射性和电阻率)时而获得。

本发明主题是包含用含有至少一个银基金属功能层和至少两个抗反射涂层的薄层堆叠体涂覆的透明基材的窗玻璃，每个抗反射涂层包含至少一个电介质层，使得每个金属功能层被设置在两个抗反射涂层之间，特征在于该堆叠体包含至少一个含有能够产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层，和至少一个基于氧化钛的阻挡层，该阻挡层具有高于1纳米，优选地高于2nm的厚度，该阻挡层位于该抗反射涂层(包含能够产生孔穴类型缺陷的电介质层)和银基金属功能层之间并且直接地与该银基金属功能层接触。

与银基金属功能层接触地使用基于氧化钛的阻挡层，优选地厚阻挡层允许显著地阻止，当用堆叠体涂覆的基材经受淬火类型的热处理时，在银层中的反润湿和树枝状孔穴类型缺陷的出现。

本发明的解决方案非常特别地适合于窗玻璃的情况中，该窗玻璃的抗反射涂层(包含能够产生其孔穴类型缺陷的电介质层)位于银基金属功能层的下方。

本发明还允许获得优异性能，特别地雾度的降低，在可见光区中的吸收和辐射性的降低，以及在热处理之后的划痕显示减少。这些有利的结果特别地通过与使用包含不同种类的阻挡层(例如基于NiCr合金)的堆叠体或者使用不包含阻挡层的堆叠体得到的结果进行比较而观察到。

除非另作说明，否则在本文件中所指出的厚度是物理厚度。术语"薄层"理解为表示具有0.1纳米至100微米的厚度的层。

根据本发明，用薄层堆叠体涂覆的透明基材表示该堆叠体已经通过阴极溅射被沉积在该基材上。

根据本发明，该银基金属功能层直接地与阻挡层接触。下阻挡层对应于设置在功能层下方的阻挡层，该位置相对于该基材进行定义。设置在功能层上方(在与基材相反的一侧上)的阻挡层被称为上阻挡层。

能够产生孔穴类型缺陷的电介质层可以借助于光学显微法分析或者扫描电子显微镜法分析进行确认。为此，使电介质层与银层接触地或者在银层附近沉积在基材上。使该组装件经受热处理。图像的观测允许识别是否产生缺陷。必要时，这些缺陷是否是孔穴类型或者圆丘类型。

选自基于氧化钛(TiO₂)、氧化铌(Nb₂O₅)和氧化锡(SnO₂)的层的电介质层能够产生孔穴类型缺陷。

基于氧化钛(TiO₂)的层包含至少95.0%，优选地至少96.5%，更好地至少98.0%质量的氧化钛。

基于氧化铌(Nb₂O₅)的层包含至少95.0%，优选地至少96.5%，更好地至少98.0%质量的氧化铌。

基于氧化锡(SnO₂)的层包含至少95.0%，优选地至少96.5%，更好地至少98.0%质量的氧化锡。

能够产生孔穴类型缺陷的电介质层不与阻挡层融合，即能够产生孔穴类型缺陷的电介质层和阻挡层是两个分开的层。当能够产生孔穴类型缺陷的层是TiO₂层时，通过至少一个不同物质的层使这种层与阻挡层分隔。

能够产生孔穴类型缺陷的电介质层具有高于5nm，优选地8至20nm的厚度。

当能够产生孔穴的电介质层是足够地接近于银基功能层以引起所述缺陷时，根据本发明提供的技术方案是适合的。这是因为，在包含具有一定数目的电介质层的抗反射涂层的复杂堆叠体的情况下，当该能够产生孔穴类型缺陷的层通过大厚度的一个或多个不能够产生缺陷或者能够产生圆丘类型缺陷的层与该银基功能层相分隔时，产生孔穴类型缺陷的能力被降低，甚至为零。

通过一个或多个层使该抗反射涂层的能够产生孔穴类型缺陷的电介质层与功能层分隔，在能够产生孔穴类型缺陷的层和功能层之间插入的所有层的厚度最多为20nm，优选地最多15nm。

根据一种有利的实施方案，该位于该银基金属功能层下方的抗反射涂层包含至少一个与该阻挡层直接接触的具有稳定性功能的电介质层。这种具有稳定性功能的电介质层可以基于晶体氧化物，特别地基于氧化锌，任选地使用至少一种其它元素，如铝进行掺杂。这种稳定性层的存在，特别地位于银层下方，极大地有助于获得在导电性和机械强度方面的优良性能。

与所有的预期相反，关于在热处理之后获得的雾度值的降低，观察到协同作用，这与稳定性层和阻挡层根据这种次序的共同存在有关。位于该银层下方的稳定性层的存在是降低该雾度的关键要素。因此沉积在稳定性层和功能层之间的厚阻挡层引起雾度的降低是绝对地不可预见的。相反地，会预期的是，这种层的存在将使稳定性层的作用减弱，甚至使为零。

该抗反射涂层的能够产生孔穴类型缺陷的电介质层因此通常至少通过阻挡层和该抗反射涂层的稳定性层与功能层分离。

通过一个或多个层使该抗反射涂层的能够产生孔穴类型缺陷的电介质层与功能层分隔，在能够产生孔穴类型缺陷的层和功能层之间插入的所有层的厚度为至少6nm，优选地至少7.5nm。

在淬火类型的热处理之前和之后，根据本发明的窗玻璃具有比包含用具有NiCr类型下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃更低的吸收作用。

在热处理之后，根据本发明的窗玻璃显示它们的辐射性显著降低。辐射性值低于包含用具有基于NiCr的下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃的辐射性值。更令人惊讶地，该辐射性值还低于包含用无下阻挡层的堆叠体涂覆的基材的窗玻璃的辐射性值。

测试已经显示通过使用阻挡层所带来的在雾度方面的改善随着阻挡层的厚度而提高。这些测试在于在模拟淬火条件的条件下的热处理之后，作为氧化钛层的厚度的函数来评估雾度。当该阻挡层的厚度提高时，雾度值降低。然而，该氧化钛优选地为稍微亚氧化的并因此是吸收性的。因此，例如通过选择适合的厚度，应当找到在雾度的降低和吸收作用和电阻率的提高之间的折衷。基于氧化钛的阻挡层具有高于2.5nm，优选地2.5nm至4.5nm的厚度。

该阻挡层可以被完全地氧化为TiO₂形式或者被部分地亚氧化。它被部分地亚氧化时，它因此不以化学计量形式而是以亚化学计量形式(TiO_x类型)进行沉积，其中x是不同于氧化钛TiO₂的化学计量的数字，即不同于2，优选地低于2，特别地为该氧化物的通常化学计量的0.75倍至0.99倍。TiO_x特别地可以使得1.5<x<1.98或1.5<x<1.7，甚至1.7<x<1.95。

该阻挡层从陶瓷TiO_x靶开始进行沉积，其中x为1.5至2，优选地在非氧化性大气中(即，不有意地引入氧)，优选地由稀有气体(He、Ne、Xe、Ar、Kr)组成。这允许避免该银层的腐蚀问题和污染问题。

在整个说明书中，根据本发明的基材被认为是水平地放置的。该薄层叠层被沉积在基材的上方。措辞"在...上方"和"在...下方"和"下"和"上"的意义相对于这种取向进行考虑。如果不是特别地规定，措辞“在...上方”和“在...下方”不必然表示两个层和/或涂层相互接触地进行设置。当规定层与另一个层或者与涂层“接触地”进行沉积，这表示不能存在一(或多个)插入在这两个层(或者涂层)之间的层。

根据一种有利的实施方案，该堆叠体可以包含：

-抗反射涂层，其含有至少两个电介质层(包括基于氧化钛的电介质层和使该基于氧化钛的电介质层与银基金属功能层分隔的与基于氧化钛的层不同的电介质层)，

-基于氧化钛的阻挡层，其具有至少2nm，优选地至少2.5nm的厚度。

-银基金属功能层，其直接地与基于氧化钛的阻挡层接触。

根据这种实施方案，该堆叠体可以包含:

-位于该银基金属功能层下方的抗反射涂层，其包含至少一个基于氧化钛的电介质层和使基于氧化钛的电介质层与银基金属功能层分隔的基于氧化锌的具有稳定性功能的电介质层，

-基于氧化钛的阻挡层，其具有至少2nm的厚度，直接地与该具有稳定性功能的基于氧化锌的电介质层接触，

-银基金属功能层，其直接地与基于氧化钛的阻挡层接触。

-任选的上阻挡层，

-位于银基金属功能层上方的抗反射涂层，

-任选的上保护层。

按优选递增顺序，银基功能层的厚度为5至20nm，或者8至15nm。

该银基金属功能层包含至少95.0%，优选地至少96.5%，更好地至少98.0%质量的银，相对于该功能层的质量。优选地，银基金属功能层包含低于1.0%质量的不同于银的金属，相对于该银基金属功能层的质量。

抗反射涂层的电介质层可以选自一种或多种选自以下的元素的氧化物或者氮化物：钛、硅、铝、锡和锌。

该抗反射涂层可以包含具有阻挡功能的电介质层和/或具有稳定性功能的电介质层。

术语“具有阻挡功能的电介质层”理解为表示由可以形成对氧和高温水(来源于环境大气或者来自透明基材)朝向功能层扩散的阻挡的材料制成的层。该具有阻挡功能的电介质层可以基于硅化合物，其选自氧化物，如SiO₂、氮化硅Si₃N₄和氧氮化物SiO_xN_y、任选地使用至少一种其它元素(如铝)进行掺杂，基于氮化铝AIN或者基于氧化锌锡。

术语“具有稳定性功能的电介质层”理解为表示由可以使在功能层和这种层之间的界面稳定的材料制成的层。具有稳定性功能的电介质层优选地基于晶体氧化物，特别地基于氧化锌，任选地使用至少一种其它元素，如铝进行掺杂。所述一个或多个具有稳定性功能的电介质层优选地是氧化锌层。

位于功能层下方的每个抗反射涂层的最后层是具有稳定性功能的电介质层。这是因为，在功能层下方包含具有稳定性功能的层(例如基于氧化锌的层)是有利的，因为它便于该银基功能层的粘合和结晶并且增强它的品质和它在高温下的稳定性。在功能层上方设置具有稳定性功能的层(例如基于氧化锌的层)也是有利的。

所述一个或多个具有稳定性功能的电介质层因此能存在于至少一个功能层或者每个功能层的上方和/或下方，或者直接地与它接触或者通过阻挡层进行分隔。优选地，每个金属功能层在抗反射涂层上方，该抗反射涂层的上层是具有稳定性功能的电介质层，优选地基于氧化锌，和/或在抗反射涂层下方，该抗反射涂层的下层是具有稳定性功能的电介质层，优选地基于氧化锌。

这种具有稳定性功能的电介质层可以具有至少5nm的厚度，特别地在5和25nm之间，更好地8至15nm的厚度。

特别地有利的实施方案涉及包含用堆叠体涂覆的基材的窗玻璃，该堆叠体从该透明基材开始包含:

-抗反射涂层，其包含至少一个具有阻挡功能的电介质层和至少一个具有稳定性功能的电介质层，

-阻挡层

-功能层

-抗反射涂层，其包含至少一个具有稳定性功能的电介质层和具有阻挡功能的电介质层，

该堆叠体可以包含作为该堆叠体的最终层进行沉积的上保护层，特别地以提供耐划痕性质。这些上保护层不认为是被包括在抗反射涂层中的。至少通过抗反射涂层使这些上保护层与功能层分隔，该抗反射涂层的厚度通常高于20nm。这些层通常是超薄的并且特别地具有在2nm和5nm之间的厚度。

该基材可以由可以经受该热处理的高温的任何材料制成。根据本发明的透明基材优选地由刚性无机材料，如由玻璃，特别地钠-钙-硅玻璃制成。该基材的厚度通常在0.5毫米和10毫米之间变化。该基材的厚度优选地小于或等于6mm，甚至4mm。

包含用堆叠体涂覆的基材的窗玻璃可以已经经受在高温的热处理。该热处理选自退火，例如快速退火，如激光或者火焰退火，淬火和/或弯曲。该热处理的温度高于300℃，优选地高于400℃，更好地高于500℃。

用该堆叠体涂覆的基材可以是经弯曲和/或淬火的玻璃。该窗玻璃可以是单块窗玻璃、层压窗玻璃、不对称窗玻璃、或者多层窗玻璃(特别地双层窗玻璃或者三层窗玻璃)的形式。

根据本发明的窗玻璃可以是层压窗玻璃。在这种情况下，该基材包含至少两个通过至少一个热塑性聚合物片材进行装配的玻璃类型的刚性基材，以具有玻璃/薄层堆叠体/片材(一个或多个)/玻璃类型的结构。该聚合物特别地可以基于聚乙烯醇缩丁醛PVB、乙烯-乙酸乙烯酯EVA、聚对苯二酸乙二醇酯PET或者聚氯乙烯PVC。在层压结构中，用该堆叠体涂覆的基材可以与聚合物片材接触。

本发明也涉及用于制备如上面所定义的基材的方法。根据这种方法，通过阴极溅射类型(任选地通过磁场进行增强)的真空技术将该薄层叠层沉积在基材上，和该阻挡层从陶瓷靶开始在非氧化性气氛中进行沉积。

实施例

将在下面定义的薄层堆叠体沉积在由具有2mm或者4mm厚度的明亮钠钙玻璃制成的基材上。

对于这些实施例，该通过溅射(“磁控管阴极”溅射)沉积的层的沉积条件在下面表1中进行概括。

作为该抗反射涂层的电介质层或者作为阻挡层进行沉积的氧化钛层可以被完全地或者部分地氧化。为此，使用亚化学计量TiO_x的陶瓷靶并且或者在氧化性气氛中实施沉积以获得完全地氧化的TiO₂层，或者在惰性气氛中实施沉积以获得亚化学计量的层。

对于某些实施例，通过改变沉积功率使层的厚度进行改变。

At.=原子。

将组成该对比实施例和根据本发明的实施例的堆叠体的每个层或者涂层的材料和物理厚度(纳米，除非另有说明)根据它们相对于携带该堆叠体的基材的位置列在下面表中。

窗玻璃A，B和C在Naber炉(模拟在620℃的淬火与退火)中经受了10分钟热处理。

其它用堆叠体涂覆的基材在回火炉中经受了热处理。

I.显微镜观察

该层的形态通过光学显微技术和通过扫描电子显微镜技术进行分析。这些测试证实在银层下方的抗反射涂层中所产生的不同缺陷(作为电介质层的种类的函数)。

在热处理之后，缺陷的存在可以通过对该经热处理的窗玻璃测量包含缺陷的表面积的比例进行量化。该测量在于测定由孔穴占据的表面积的百分比。

附图3是用包含银层的堆叠体涂覆的基材的用光学显微镜拍摄的图像，该基材没有经受热处理。没能观察到缺陷。所有的其它图像全部在热处理之后拍摄。使用光学显微镜拍摄的不同窗玻璃的图像以及由所述缺陷占据的区域归纳在以下表中。

附图	窗玻璃	孔穴类型缺陷的面积
			附图4	Cp.1	0.04%
附图5	Cp.1’	0.02%
			附图6	Cp.2	-
附图7	Cp.3	8.03%
			附图8	Cp.3’	2.90%
附图9	Ex.2	1.57%

附图4和5举例说明了两个不包含根据本发明的能够产生圆丘类型或者孔穴类型缺陷的层的窗玻璃，其中不具有NiCr下阻挡层(附图4)和具有NiCr下阻挡层(附图5)。在这种图像上观察到，在热处理之后存在很少的孔穴或者圆丘类型缺陷。

附图6是包含具有能够产生圆丘类型缺陷的层的堆叠体的窗玻璃的图像。附图6的这种窗玻璃与附图4的窗玻璃区别仅仅在于在位于该银基功能层下方的抗反射涂层中存在氧化锌锡层(以代替氮化硅层)。附图6的图像不包含孔穴类型缺陷的特征树枝状瑕疵。

附图7和8是包含含有能够产生孔穴类型缺陷的层的堆叠体的窗玻璃的图像，其中无下阻挡层(附图7)和具有NiCr下阻挡层(附图8)。树枝形状的黑色瑕疵对应于无银区域，即在淬火之后获得的孔穴类型缺陷。

通过附图7和8图示的窗玻璃Cp.3和Cp.3’与窗玻璃Cp.1和Cp.1’的区别为在位于该银基功能层下方的抗反射涂层中在具有稳定性功能的氧化锌层和氮化硅阻挡层之间存在10nm氧化钛层。对比窗玻璃Cp.3不包含下阻挡层和对比窗玻璃Cp.3’包含基于NiCr的下阻挡层。这些对比实施例清楚地显示抗反射涂层的电介质层的种类影响在银层中产生的缺陷的存在和类型。

附图9是根据本发明的窗玻璃的图像，其包含具有能够产生孔穴类型缺陷的层与TiO_x下阻挡层的堆叠体。本发明的技术方案，在该堆叠体包含能够产生孔穴类型缺陷的层时，不引起在热处理之后产生的孔穴类型缺陷的完全消失。然而，它们的降低是显著的，其中特别地包含缺陷的表面的比例低于2%。

II.漫反射和缺陷数目的降低的评价

雾度通过使用Perkin-ElmerL900光谱仪测量平均可见漫反射进行了评估。该测量在于取该反射在该可见光区中的扩散部分的平均值，其中从该测量中排除镜面反射和减去关于无雾度(nonhaze)参照样品获得的基线。它表示为相对于关于参考镜测量的总反射的百分比。获得的结果显示在下面的表中。

在由孔穴占据的表面积的百分比和雾度水平之间存在相关性。

为了能够评价缺陷数目的降低，计算Δ缺陷/参照(Cp.3)，其对应于相对于作为参照获取的包含无下阻挡层的堆叠体的对比窗玻璃(Cp.3)的缺陷数目的变化。还计算了Δ缺陷/Cp.3’，其对应于相对于包含具有NiCr下阻挡层的堆叠体的对比窗玻璃(Cp.3’)的缺陷数目的变化。

这些值以及漫反射的值和缺陷面积百分比概括在以下表中。

窗玻璃	缺陷的面积	漫反射	Δ缺陷/ 参照(Cp.3)	Δ缺陷/ Cp.3’
					Cp.1	0.04%	0.04%	-	-
Cp.1’	0.02%	0.06%	-	-
					Cp.3	8.03%	2.21%	-	-
Cp.3’	2.90%	0.26%	-65%	-
					Cp.4	≈4.3%	1.66%	-	-
Cp.5	≈0.3%	0.11%	-	-
					Cp.6	≈0.2%	0.03%	-	-
Ex.1	≈1.8%	0.68%	-77%	-38%
					Ex.2	1.57%	0.43%	-81%	-46%
Ex.3	≈0.8%	0.17%	-89%	-72%
					Ex.4	≈1.8%	0.36%	-77%	-38%
Ex.5	≈1.2%	0.35%	-85%	-59%

这些实施例证实包含无抗反射涂层(其包含能够产生孔穴的层)的堆叠体的窗玻璃在热处理之后包含很少缺陷和低的雾度(Cp.1和Cp.1’)。

根据本发明的包含基于氧化钛的下阻挡层的窗玻璃在热处理之后包含较少的缺陷和较低的雾度。该下阻挡层的厚度越大，这些性质的改善越好，没有缺陷和雾度降低。这些结果说明了由本发明的技术方案提供的在雾度降低方面的显著改善。

这些比较还证实，当该堆叠体包含含有能够产生孔穴的层的抗反射涂层时，厚的氧化钛下阻挡层允许比基于NiCr合金下层更有效地降低在热处理之后的孔穴类型缺陷的数目。

该对比窗玻璃Cp.4，Cp.5和Cp.6包含含有抗反射涂层的复杂堆叠体，其中该抗反射涂层特别地使该能够产生孔穴类型缺陷的层在该抗反射涂层内的位置发生改变。发现，当该能够产生孔穴的层与银层通过一个或多个更少能够产生缺陷的层(如Si₃N₄层)的显著厚度而相距足够大时，产生孔穴类型缺陷的能力降低，甚至为零，(Cp.5和Cp.6)。

当能够产生孔穴的电介质层是足够地接近于银基功能层时，根据本发明提供的技术方案是更特别地适合于引起所述缺陷。

III.光学性质

对于具有以下结构的双层窗玻璃测量了光学特性：6mm玻璃/16mm的插入间隔，充满90%氩气/4mm玻璃，其中堆叠体设置在面2上(通常地，该窗玻璃的面1是该窗玻璃的最外部面)。

在淬火之前和之后，以百分比计的该辐射性值(ε)，其根据标准EN12898进行计算，以及吸收值(Abs)和太阳因子值(g)，其根据标准EN410进行测量，示于以下表中。

下阻挡层的添加在淬火之前引起辐射性提高，因为这种层，无论它的种类为怎样，干扰银的外延生长。

根据本发明的厚下阻挡层的存在引起在淬火之前的辐射性的提高(与不包含下阻挡层的堆叠体相比较)，但是这种提高低于使用其它下阻挡层得到的提高。

在热处理之后，根据本发明的窗玻璃具有比没有下阻挡层的窗玻璃和比包含基于NiCr的下阻挡层的窗玻璃显著更低的辐射性。低辐射性的获得说明了能量通过辐射的损耗的降低，并因此说明该双层窗玻璃的热性能的改善。

这是因为包含能够产生孔穴类型缺陷的层和NiCr下阻挡层的窗玻璃Cp.3'具有适当的雾度值但是不具有本发明的在辐射性、吸收作用和太阳因子方面的有利性质。

本发明的技术方案因此允许显著地降低雾度同时还降低辐射性并且同时提高太阳因子。

IV.在稳定性层和阻挡层之间协同作用的评价

雾度通过使用Perkin-ElmerL900光谱仪测量平均可见漫反射进行评估。

窗玻璃	雾度	Δ雾度/参照
			A	0.20%	-
B	0.30%	+50%
			C	0.02%	-90%

该Δ雾度/参照对应于相对于不包含下阻挡层的对比窗玻璃A的雾度变化。

这些测试证实稳定性层的存在对于获得低的雾度值是重要的。然而，与所有的预期相反，观察到与稳定性层和下阻挡层根据这种次序的共同存在相关的对雾度值的降低的协同作用。这是因为，对于在稳定性层和功能层之间沉积的厚下阻挡层引起雾度的降低，甚至相对于不包含阻挡层的窗玻璃降低90%，这绝对地是不可预见的。相反地，将会预期的是，这种层的存在将阻碍稳定性层的作用。

这些结果证明厚下阻挡层在稳定性层上方的存在允许在淬火类型的热处理之后显著地降低雾度。

Claims

1.包含透明基材的窗玻璃，该透明基材涂覆有包含至少一个银基金属功能层和至少两个抗反射涂层的薄层堆叠体，每个抗反射涂层包含至少一个电介质层，使得每个金属功能层被设置在两个抗反射涂层之间，特征在于该堆叠体包含：

-至少一个含有能够产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层，该能够产生孔穴类型缺陷的电介质层选自基于氧化钛(TiO₂)、氧化铌(Nb₂O₅)和氧化锡(SnO₂)的层，该抗反射涂层位于银基金属功能层的下方，和

-至少一个基于氧化钛的阻挡层，该阻挡层具有高于1nm的厚度，该阻挡层位于该包含能够产生孔穴类型缺陷的电介质层的抗反射涂层和银基金属功能层之间，直接地与该银基金属功能层接触。

2.根据权利要求1的窗玻璃，特征在于能够产生孔穴类型缺陷的电介质层具有高于5nm，优选地8至20nm的厚度。

3.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于通过一个或多个层使该抗反射涂层的能够产生孔穴类型缺陷的电介质层与功能层分隔，在该能够产生孔穴类型缺陷的层和该功能层之间插入的所有层的厚度为最多20nm，优选地最多15nm。

4.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于通过一个或多个层使该抗反射涂层的能够产生孔穴类型缺陷的电介质层与功能层分隔，在该能够产生孔穴类型缺陷的层和该功能层之间插入的所有层的厚度为至少6nm，优选地至少7.5nm。

5.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于基于氧化钛的阻挡层具有2.5nm至4.5nm的厚度。

6.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于该基于氧化钛的阻挡层在非氧化性大气中从陶瓷TiO_x靶进行沉积，其中x为1.5至2。

7.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于该位于该银基金属功能层下方的抗反射涂层包含至少一个与该阻挡层直接接触的具有稳定性功能的电介质层，该具有稳定性功能的电介质层特别地基于氧化锌，任选地使用至少一种其它元素，如铝进行掺杂。

8.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于该堆叠体包含：

-抗反射涂层，其含有至少两个电介质层，包括基于氧化钛的电介质层和使该基于氧化钛的电介质层与银基金属功能层分隔的与该基于氧化钛的层不同的电介质层，

-基于氧化钛的阻挡层，其具有至少2nm，优选地至少2.5nm的厚度，

-银基金属功能层，其直接地与基于氧化钛的阻挡层接触。

9.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于该堆叠体包含：

-基于氧化钛的阻挡层，其具有至少2nm的厚度，直接地与该基于氧化锌的具有稳定性功能的电介质层接触，

-银基金属功能层，其直接地与基于氧化钛的阻挡层接触，

-任选的上阻挡层，

-位于银基金属功能层上方的抗反射涂层，

-任选的上保护层。

10.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于金属功能层的厚度为5至20nm。

11.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于该抗反射涂层包含至少一个具有阻挡功能的电介质层，该具有阻挡功能的电介质层基于选自以下的硅化合物：氧化物，如SiO₂、氮化硅Si₃N₄和氧氮化物SiO_xN_y、任选地使用至少一种其它元素如铝进行掺杂。

12.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于用堆叠体涂覆的基材已经经受在高于300℃，优选地高于500℃的温度的热处理。

13.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于至少该用堆叠体涂覆的基材是经弯曲和/或淬火的玻璃。

14.根据前述权利要求任一项的窗玻璃，特征在于通过任选地通过磁场进行增强的阴极溅射类型的真空技术将该薄层叠层沉积在基材上。