CN105158981B - 液晶显示面板和液晶显示装置 - Google Patents
液晶显示面板和液晶显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105158981B CN105158981B CN201410648694.XA CN201410648694A CN105158981B CN 105158981 B CN105158981 B CN 105158981B CN 201410648694 A CN201410648694 A CN 201410648694A CN 105158981 B CN105158981 B CN 105158981B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- pattern
- electrostatic
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 164
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 87
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 40
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 5
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 26
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical class [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003446 memory effect Effects 0.000 description 4
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 235000014489 Cinnamomum aromaticum Nutrition 0.000 description 1
- 244000037364 Cinnamomum aromaticum Species 0.000 description 1
- 241000983670 Ficus natalensis subsp. leprieurii Species 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 206010060856 Recall phenomenon Diseases 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001557 phthalyl group Chemical group C(=O)(O)C1=C(C(=O)*)C=CC=C1 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136204—Arrangements to prevent high voltage or static electricity failures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133784—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by rubbing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明涉及一种液晶显示面板和液晶显示装置,该液晶显示装置包括:第一基板,该第一基板包括有效显示区域和与所述显示区域的外围区域相对应的非有效显示区域;形成在所述非有效显示区域中的格状图案的静电吸收图案;以及第二基板,该第二基板面对所述第一基板。
Description
技术领域
本发明涉及一种包括能够吸收在摩擦处理中产生的静电的构造的液晶显示面板和液晶显示装置。
背景技术
液晶显示装置技术一直在不断发展中,在显示器市场上,液晶显示装置代替使用现有阴极射线管(CRT)的过时的设备,作为一种用于笔记本电脑、电脑显示器、电视机等的显示设备,液晶显示装置的规模扩大,并且该液晶显示装置还扩展到数字信息显示器(DID)市场以及公共信息显示器(PID)市场。另外,液晶显示装置还用于移动电话领域。
同时,当制造液晶显示装置时,在摩擦处理中,为了形成配向层,配向层的材料被展开并且通过将展开的配向层材料的表面与摩擦布等进行摩擦在特定方向上对配向层材料的该表面的高分子链进行配向,形成液晶分子的配向方向。
该摩擦处理可能在形成有晶体管、滤色器等设备的基板上产生静电。该产生的静电可能导致基板上的各种设备的缺陷,并且可能降低面板的产量。
发明内容
在此背景下,本发明的一个方面在于提供一种能够减少静电影响的液晶显示面板和液晶显示装置。
本发明的另一个方面在于提供一种制造包括用于将在摩擦处理中产生的静电排出到液晶显示面板的外部的结构的液晶显示面板和液晶显示装置的方法,通过所述方法制造所述液晶显示面板和所述液晶显示装置。
本发明的另一个方面在于提供一种制造包括能够减小当连接集成电路时产生的静电的影响的结构的液晶显示面板和液晶显示装置的方法,通过所述方法制造所述液晶显示面板和所述液晶显示装置。
根据本发明的一个方面,提供有一种液晶显示装置,该液晶显示装置包括:第一基板,该第一基板包括有效显示区域(active area)以及与所述显示区域的外围区域相对应的非有效显示区域(non-active area);形成在所述非有效显示区域中的格状图案的静电吸收图案;以及第二基板,该第二基板面对所述第一基板。
如上所述,根据本发明,具有提供一种能够减少静电影响的液晶面板和液晶显示装置的效果。
另外,根据本发明,具有提供一种制造包括用于将在摩擦处理中产生的静电排出到液晶显示面板的外部的结构(静电分散结构)的液晶显示面板和液晶显示装置的方法的效果,通过所述方法制造所述液晶显示面板和所述液晶显示装置。
另外,根据本发明,具有提供一种制造包括能够减小当连接集成电路时产生的静电的影响的结构(静电分散结构)的液晶显示面板和液晶显示装置的方法的效果,通过所述方法制造所述液晶显示面板和所述液晶显示装置。
另外,根据本发明,具有提供一种制造包括用于通过顺利进行摩擦处理减小静电的影响以及对液晶进行准确配向的结构(静电分散结构)的液晶显示面板和液晶显示装置的方法的效果,通过所述方法制造所述液晶显示面板和所述液晶显示装置。
附图说明
从下面结合附图进行的详细描述中,本发明的上述目标和其它目标、特点及优势将变得更明显,在附图中:
图1是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置的简化了的系统的图;
图2是示意性例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置的一部分的图;
图3是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置的液晶面板中的第一基板的非有效显示区域以及形成在该非有效显示区域中的静电吸收图案的图;
图4至图7是更详细地例示了形成在液晶显示装置的液晶显示面板中的第一基板的非有效显示区域中的格状图案的静电吸收图案的图;
图8是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置的液晶显示面板中的第一基板的非有效显示区域以及进一步形成在该非有效显示区域中的连接图案的图;
图9和图10是例示了根据示例性实施方式进一步形成在液晶显示装置的液晶显示面板中的第一基板的非有效显示区域中的连接图案的图,以及例示了通过该连接图案连接静电吸收图案和集成电路的电连接结构的图;
图11是例示了根据示例性实施方式的用于制造液晶显示装置的方法的示意性流程图;以及
图12至图17是根据示例性实施方式的用于制造液晶显示装置的方法中各主要过程的图。
具体实施方式
以下,将参考附图描述本发明的示例性实施方式。在下面的描述中,相同的元件将采用相同的标号进行标注,尽管它们在不同的附图中被示出。进一步地,在本发明的如下的描述中,当一定程度上可能使本发明的主题不清楚时,将省略包含在本说明书中的已知功能和结构的详细说明。
另外,当描述本发明的部件时,在本说明书中可能使用术语,例如第一、第二、A、B、(a)、(b)等等。这些术语中的每一个并不是用来限定相应部件的重要性、次序或顺序,而只是用来将相应的部件与其它部件进行区分。应当注意的是,如果在本说明书中描述有一个部件与另一个部件“连接”、“耦合”或“相连”,尽管第一部件可能是与第二部件直接“连接”、“耦合”和“相连”,但是可以在第一与第二部件之间“插入第三部件”。
图1是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置100的简化了的系统的图。
参照图1,根据示例性实施方式的液晶显示装置100包括液晶显示面板110、数据驱动单元120、选通驱动单元130、时序控制器140等。
在液晶显示面板110中,形成有数据线和选通线,并且通过数据线DL1至DLm以及选通线GL1至GLn形成有子像素P。数据驱动单元120向数据线DL1至DLm提供用于显示图像的数据电压。选通驱动单元130向选通线GL1至GLn顺序提供扫描信号。时序控制器140控制数据驱动单元120和选通驱动单元130的驱动时序,并且针对这些控制输出各种控制信号。
在本发明的示例性实施方式中,液晶显示面板110可以被实现为任何已知的液晶模式,例如扭曲向列(TN)模式、垂直配向(VA)模式、面内切换(IPS)模式、边缘场切换(FFS)模式等。
上述的数据驱动单元120可以利用多个数据集成电路(D-ICs)来实现。
各个数据集成电路例如可以通过玻璃上芯片(COG)方法附接到液晶显示面板110上,或者可以被集成到液晶显示面板110上。
数据驱动电路130可以包括多个选通集成电路(G-IC)。
所述多个选通集成电路可以通过载带自动焊(TAB)方法或者所述COG方法连接到液晶显示面板110的接合焊盘,或者可以直接形成在面板内栅极(GIP)类型的液晶显示面板110上。
同时,图1中所示的液晶显示装置100的液晶显示面板110包括形成有薄膜晶体管(TFT)的第一基板210和形成有滤色器的第二基板220,并且在所述第一基板210与所述第二基板220之间填充有液晶材料。
这里,第一基板210被称为TFT-阵列基板,第二基板220被称为滤色器基板。
在下文中,参照图2,将更加详细地描述根据示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板110,图2更详细地示出了虚线框的一部分。
图2是示意性例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置100的一部分的图。
参照图2,液晶显示面板110包括彼此面对的第一基板210和第二基板220。
所述第一基板210包括显示图像的有效显示区域(active area)以及作为所述有效显示区域的外围区域的非有效显示区域(non-active area)。
在所述第一基板210的有效显示区域中,在第一方向上形成有数据线DL1至DLm,并且在与所述第一方向交叉的第二方向上形成有选通线GL1至GLn。
另外,在所述第一基板210的有效显示区域中,所述数据线DL1至DLm与所述选通线GL1至GLn交叉的区域对应于子像素P的区域。
作为开关装置的TFT可以形成在各个子像素区域中。
形成在各个子像素区域中的TFT的栅极与选通线GL连接,源极(或漏极)与数据线DL连接,并且所述漏极(或所述源极)与利用铟锡氧化物等形成的像素电极连接。
第一基板210的非有效显示区域包括数据焊盘部分211、栅极焊盘部分215等。
两个或更多个柔性印刷电路(FPC)214以及多个数据集成电路(D-IC)212可以位于所述第一基板210的非有效显示区域的数据焊盘部分211中。
上述的FPC 214可以是柔性印刷电路薄膜或柔性印刷电路板(FPCB)。
更详细地描述,在所述数据焊盘部分211中,多个数据集成电路212附接在形成在所述第一基板210上的数据焊盘上。
同时,所述多个数据集成电路212可以包括N个分组数据集成电路。
表示包括数据集成电路组中的数据集成电路的数量的‘N’可以是等于或大于2的自然数。图2是例示了N为2的情况的图。
包括在包含有N个数据集成电路的各个数据集成电路组中的N个数据集成电路通过线213与一个FPC连接在一起。
也就是说,在所述第一基板210的数据焊盘部分211中,与包括在各个分组数据集成电路组中的N个数据集成电路连接在一起的FPC位于各个集成电路组处。
参照图2,所述FPC的一个端子与所述第一基板210的一侧连接,所述FPC的另一端子与各种电路部件所处的印刷电路板230连接。
参照图2,在所述第一基板210的非有效显示区域中,与栅极焊盘相接的多个选通集成电路216可以形成在栅极焊盘部分215中。
同时,在所述第一基板210的有效显示区域中,在形成TFT和像素电极之后,配向层可以形成在所述TFT和像素电极上。在所述配向层的表面上进行摩擦处理,并且所述配向层在特定的方向上对液晶分子进行配向。
例如,聚酰亚胺(PI)类等主要被用作配向层的材料。另外,例如,配向层的材料可以包括如下化合物中的至少一种:聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚偶氮苯(polyazobenzene)、聚乙烯亚胺、聚乙烯醇、聚酰胺、聚乙烯、聚苯乙烯、聚邻苯二甲酰对苯二胺(polyphenylenephthalamide)、聚酯、聚氨酯、聚硅氧烷肉桂酸酯(polysiloxanecinnamate)、桂皮酸纤维素以及聚甲基丙烯酸甲酯类。
同时,当制造所述液晶显示面板110时,为了形成配向层,需要进行将展开的配向层材料的表面与摩擦布等摩擦的摩擦处理,以将所述配向层材料的表面的高分子链进行配向,从而确定液晶分子的配向方向。
在该摩擦处理期间,可能产生静电。
在上述摩擦处理期间产生的静电破坏液晶显示面板110的有效显示区域,因此静电可能导致线缺陷等。例如,在摩擦处理期间产生的静电可能破坏用作有效显示区域中的子像素的开关的TFT,或者可能导致选通线或数据线短路。
因此,在摩擦处理期间产生的静电是导致液晶显示面板110的生产量降低的关键问题之一。
根据本发明的示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板110是一种在提前形成有用于将在摩擦处理步骤中产生的静电排出到外部的构造的状态下,通过摩擦处理制造的面板。
因此,在液晶显示装置100的液晶显示面板110中,在制造所述液晶显示面板110之后,将在摩擦处理步骤中产生的静电排出到外部的构造的一部分(例如静电吸收图案等)将保留下来,其余的部分可以通过刻划处理被消除(参见图15)。
在下文中,参照图3至图7将详细描述如下根据该示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板110,该液晶显示面板110具有在制造所述面板之后将在摩擦处理步骤中产生的静电排出到外部的构造的部分(例如静电吸收图案等)。
图3是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域的一部分以及形成在所述非有效显示区域中的格状图案的静电吸收图案300的图。
图3是只例示了四个数据集成电路212a、212b、212c和212d位于图2中所示的液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域的数据焊盘部分211中的那部分的图。
参照图3,第一基板210包括有效显示区域和非有效显示区域,所述非有效显示区域是所述有效显示区域的外围区域。
多个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…以及两个或更多个柔性印刷电路213ab、213cd、…位于所述第一基板210的非有效显示区域中。
两个或更多个柔性印刷电路213ab、213cd、…的数量与数据集成电路组的数量相同。
也就是说,当M个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…按照数量N进行分组时,数据集成电路组的数量为M/N,并且柔性印刷电路的数量也是M/N。图3是例示了当N=2的情况,即,多个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…按照两个数据集成电路进行分组的情况的图。
参照图3,各个柔性印刷电路213ab,213cd、…位于各个数据集成电路组中,属于包括多个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…当中的N个数据集成电路在内的各个数据集成电路组的N个数据集成电路与所述各个柔性印刷电路连接在一起。
也就是说,参照图3的示例,左侧柔性印刷电路213ab与包括有两个左数据集成电路212a和212b的数据集成电路组相对应。两个左侧数据集成电路212a和212b通过线214ab一同与左侧柔性印刷电路213ab连接。
另外,参照图3的示例,右侧柔性印刷电路213cd与包括有两个右侧数据集成电路212c和212d的另一个数据集成电路组相对应。两个右侧数据集成电路212c和212d通过线214cd一同与右侧柔性印刷电路213cd连接。
同时,参照图3,静电吸收图案300形成在液晶显示面板110中的第一基板210的非有效显示区域中的未设置多个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…和两个或更多个柔性印刷电路213ab、213cd、…的区域。
参照图3,静电吸收图案300可以形成在柔性印刷电路213ab、213cd、…所处的区域的外围区域中。
例如,静电吸收图案300可以形成在数据集成电路组之间的各个空间中。
因此,在第一基板210的边缘区域,柔性印刷电路213ab、213cd、…中的一个与一个静电吸收图案300交替形成。
也就是说,如图3所示,一个柔性印刷电路213ab靠近一个静电吸收图案300形成,一个静电吸收图案300靠近所述柔性印刷电路213ab形成,一个柔性印刷电路213cd靠近所述静电吸收图案300形成,以及一个静电吸收图案300靠近所述柔性印刷电路213cd形成。
图3所示的静电吸收图案300是用于在制造所述液晶显示面板100之后将在摩擦处理步骤中产生的静电排出到外部的构造当中的剩余的部分。
当参照图11至图17描述用于制造所述液晶显示装置100的方法时,将详细描述用于将在摩擦处理步骤中产生的静电排出到外部的构造。
下文中,将参照图4至图7更加详细地描述图3中所示的静电吸收图案300。
图4至图7是更详细地例示了形成在液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域中的静电吸收图案300的图。
图4是更详细地例示了根据示例性实施方式的形成在液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域中的静电吸收图案300的图,图5和图6是示出了图4中的部分A和B在三个维度的放大图,以及图7是用于描述静电吸收图案300的附加结构特点的图。
如图4所示,形成在液晶显示面板110中的第一基板210的非有效显示区域中的未设置多个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…和两个或更多个柔性印刷电路213ab、213cd、…的区域中的静电吸收图案300可以形成为在整个表面上没有槽,并且在静电吸收图案300中的格状图案中可以形成因槽而得到的突出部分。
也就是说,参照图4,可以按照格状图案形成静电吸收图案300。
参照图4至图6,在静电吸收图案300中形成因设置多个槽410而显得突出的突出部分400,并且所述突出部分具有格状图案。
在图4中,线对应于所述突出部分400,并且由所述线围成的空间对应于所述槽410。
参照图4至图6,一个突出部分400包括在第一方向(例如,垂直方向)上突出并且彼此间隔开的第一突出部分510、以及与所述第一突出部分510交叉的第二突出部分520,所述第二突出部分在第二方向(例如,水平方向)上突出并且彼此间隔开。
参照图4至图6,第二突出部分520的第二方向可以是与第一基板210的配向层表面的摩擦方向交叉的方向。
这里,摩擦方向可以通过形成在配向层表面上的槽的结构进行检查。
例如,第一突出部分510的第一方向可以与摩擦方向相同,并且第二突出部分520的第二方向可以与摩擦方向交叉。
参照图4,假设数据焊盘部分211位于非有效显示区域的最上部,有效显示区域位于所述数据焊盘部分211的下面,并且各个静电吸收图案300的边缘形状可以是T字型。
同时,静电吸收图案300可以包括与像素电极的材料相同的材料,所述像素电极与有效显示区域的各个子像素区域中的TFT的漏极(或源极)连接。
例如,当像素电极的材料为铟锡氧化物(ITO)时,静电吸收图案300的材料可以是铟锡氧化物(ITO)。
如上所述,利用与像素电极的材料相同的材料形成静电吸收图案300,意味着静电吸收图案300可以在像素电极形成时与像素电极一同形成。
另外,静电吸收图案300可以将浮置图案电断开。
同时,参照图4至图7,静电吸收图案300可以利用因设置多个槽410而得到的格状图案的突出部分400来形成,另选的是,与摩擦方向交叉(例如,相交叉)的第二方向的各个第二突出部分520的距离D2非常狭窄,或者静电吸收图案300的整个表面可以突出。
在这种情况下,摩擦辊上的布(例如摩擦布等)通过静电吸收图案300的突出表面在摩擦处理中被弯曲很长一段时间。因此,恢复力,即在布被弯曲之后展开所述布(例如摩擦辊的摩擦布等)的力量减小,这种现象被称为“摩擦辊的记忆现象”(参照图14)。
当摩擦静电吸收图案300并且摩擦层材料的表面时,这种摩擦辊的记忆现象可能导致配向层材料的表面上的摩擦不均匀的问题。
由于这种不均匀摩擦,第一方向(例如,垂直方向)的摩擦轨迹可能不均匀,液晶的配向可能不正常,因此可能导致液晶显示面板的严重缺陷。
因此,在该示例性实施方式中,如图4至图7所示,形成了如下的格状图案的静电吸收图案300,即,该静电吸收图案300形成有包括因设置多个槽而得到的第一方向的第一突出部分510和第二方向的第二突出部分520在内的突出部分400。
因此,在该示例性实施方式中,当沿着静电吸收图案300的第一方向(例如,垂直方向)的第一突出部分510进行摩擦时,与静电吸收图案300的整个表面突出的情况相同地,记忆现象可能产生,但是当沿着静电吸收图案300的第二方向(例如,水平方向)的第二突出部分520进行摩擦时,记忆现象可能被减少或阻止。
参照图7,当摩擦辊通过第二方向的按照由于多个槽410而产生的距离D2彼此间隔开的第二突出部分520摩擦所述第二突出部分520的突出表面时,重复在第二突出部分520处弯曲摩擦辊的布并且在槽410处展开摩擦辊的布的操作,因此恢复原状的力量不被减小。
因此,当摩擦辊的布随着静电吸收图案300摩擦层材料的表面时,摩擦辊的布可以以均匀的强度摩擦层材料的表面。
因此,在配向层材料上存在深度、宽度等均匀的均匀摩擦轨迹,结果,可以进行液晶的正常配向。
参照图7,与这些方面有关地,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的各个宽度W可以等于子像素的宽度Wp或者比Wp窄,所以静电吸收图案300将静电排出到外部并且使记忆现象最小化。
另外,为了减少引发记忆现象的第一方向的线的数量,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的各个距离D1在静电吸收图案300足以将静电排出到外部的外范围内可以尽可能得宽。也就是说,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的数量在静电吸收图案300足以将静电排出到外部的范围内可以尽可能得小。
参照图7,在第二方向(例如,水平方向)上突出的第二突出部分520之间的距离D2可以比在第一方向(例如,垂直方向)上突出的第一突出部分510之间的距离D窄(D2<D1)。
由于上述静电吸收图案300的结构特点,在静电吸收图案300的第一方向(例如,垂直方向)上突出的第一突出部分510的各个宽度等于子像素P的宽度Wp或者比Wp窄,因此当进行摩擦时,由在静电吸收图案300的第一方向(例如,垂直方向)上突出的第一突出部分引发摩擦辊的记忆效应(参见图4)的区域只限于与在所述第一方向上突出的第一突出部分510相对应的子像素。也就是说,尽管摩擦布的一部分由于摩擦布的记忆效应被破坏,但是被破坏的摩擦布相继破坏一条子像素行,因此由于摩擦布导致的水平图案缺陷可以被降到最低。
同时,第二方向(例如,水平方向)上突出的第二突出部分520之间的距离D2的值可以是使得通过静电吸收图案300的第二方向(例如,水平方向)上突出的第二突出部分不引发摩擦辊的记忆效应(参照图14)的设计值。
因此,由于上述静电吸收图案300的结构特点,在降低静电效应的同时顺利地进行摩擦处理,从而可以准确地进行液晶的配向。
同时,在液晶显示装置100的制造期间,当数据集成电路(D-IC)被附接在以玻璃上芯片(COG)的方法形成在第一基板210的非有效显示区域中的数据焊盘上时可能产生静电,并且该静电可以破坏液晶显示装置100的电路构造并造成液晶显示装置100的电路结构的缺陷。
因此,在数据集成电路(D-IC)的附接过程中产生的静电可以严重降低液晶显示装置100的生产量。
根据该示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板110可以包括用于分散在附接数据集成电路(D-IC)的步骤中产生的静电的构造。由于这种静电分散构造,虽然在附接数据集成电路(D-IC)的步骤中会产生静电,但是由于产生的静电而导致的损坏可以被降到最低。
在下文中,将参照图8至图10更加详细地描述根据该示例性实施方式的具有如下构造的液晶显示装置100的液晶显示面板110,即,该构造为分散在附接数据集成电路(D-IC)的步骤中产生的静电的构造(例如连接图案800等)。
图8是例示了根据示例性实施方式的液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域以及进一步形成在该非有效显示区域中的连接图案800的图。
参照图8,在第一基板210中,可以进一步形成将与邻近静电吸收图案300的数据集成电路212a、212b、212c、212d、…与该静电吸收图案300电连接的连接图案800。
该连接图案800使在数据集成电路212a、212b、212c、212d、…中产生的静电向与数据集成电路212a、212b、212c、212d、…连接的静电吸收图案300分散。
参照图8,连接图案800位于各个数据集成电路212a、212b、212c、212d、…中。
将参照图9和图10更加详细地描述通过图8中的连接图案800对数据集成电路212a、212b、212c、212d、…和静电吸收图案300进行连接的连接结构。
图9和图10是示出了图8中的部分C的放大图,是例示了根据示例性实施方式进一步形成在液晶显示装置100的液晶显示面板中的第一基板210的非有效显示区域中的连接图案800的图,以及例示了通过连接图案800连接静电吸收图案300和数据集成电路212c的电连接结构的图。
图9是示出了数据集成电路212c安装在相应的区域1000中的状态的图,图10是示出了在数据集成电路212c安装在相应的区域1000中之前的状态的图。
参照图9和图10,数据集成电路212c的输入端子通过输入侧缓冲器Bi1、Bi2、Bi3、Bi4、…与形成在第一基板210中的输入焊盘Pi1、Pi2、Pi3、Pi4、…连接,数据集成电路212c的输出端子通过输出侧缓冲器Bo1、Bo2、Bo3、Bo4、…与形成在第一基板210中的输出焊盘Po1、Po2、Po3、Po4、…连接,从而数据集成电路212c安装在相应的区域1000上。
参照图9和图10,连接图案800将与静电吸收图案300相邻的数据集成电路212c的特定缓冲器Bo1与所述静电吸收图案300连接。
与连接图案800连接的数据集成电路212c的特定缓冲器Bo1是数据集成电路212c的将与连接图案800连接的接地端子GND与输出焊盘Po1相连接的缓冲器。
也就是,连接图案800可以通过与连接至数据集成电路212c的接地端子GND的输出焊盘Po1的连接而形成。
同时,连接图案800可以包括与像素电极的材料(例如铟锡氧化物(ITO)等)相同的材料。
在上文中描述了根据示例性实施方式的、包括用于分散在摩擦处理以及数据集成电路附接过程中产生的静电的构造的液晶显示装置100及其液晶显示面板110。
在下文中,将参照图11至图17描述一种用于制造液晶显示装置100及其液晶显示面板110的方法。
图11是例示了根据示例性实施方式的用于制造液晶显示装置100的方法的示意性流程图。
参照图11,用于制造液晶显示装置100的方法包括以下步骤:在TFT-阵列基板的母基板上形成TFT-阵列(S1110);展开配向层材料,例如聚酰亚胺等,形成配向层(S1120);通过将在步骤S1120中展开的配向层材料的表面与摩擦布等摩擦,进行在特定的方向上对配向层材料的表面的高分子链进行配向的摩擦处理(S1130);将TFT-阵列基板的母基板与进行滤色处理的滤色器基板的母基板相结合(S1140);针对结合的母基板进行划线处理,将结合的母基板划分成多个单元液晶显示面板110,所述多个单元液晶显示面板包括与TFT-阵列基板相对应的第一基板210和与滤色器基板相对应的第二基板220(S1150);将数据集成电路212和选通集成电路216附接在各个单元液晶显示面板110中的数据焊盘部分211和栅焊盘部分215上(S1160)等等。
同时,在上述的步骤S1110中,可以进一步形成能够分散步骤S1130的摩擦处理期间产生的静电的构造。
也就是说,在步骤S1110中,可以进一步形成利用与连接至TFT的漏极(或源极)的像素电极的材料相同的材料(例如ITO等)形成的静电吸收图案300、发挥接地作用的导向环、以及一端与静电吸收图案300连接并且另一端与所述导向环连接的连接线。
同时,在上述的步骤S1110中,可以进一步形成分散当在步骤S1160中附接集成电路时产生的静电的构造。
也就是说,在步骤S1110中,可以进一步形成将各个静电吸收图案300与邻近该静电吸收图案的数据集成电路212的缓冲器金属电连接的连接图案800。该连接图案800将产生的静电从数据集成电路212向大尺寸的所述静电吸收图案300分散。
在下文中,将参照图12至图17更加详细地描述参照图11所描述的制造的方法的步骤中的主要步骤。
图12至图17是根据示例性实施方式的用于制造液晶显示装置100的方法中各主要过程的图。
图12是例示了图11中的步骤S1110中的TFT-阵列基板的母基板中的数据焊盘部分的图。
参照图12,在TFT-阵列基板的母基板的各个单元液晶显示面板中,多个输入焊盘Pi和多个输出焊盘Po形成在安装有数据集成电路212的区域1000中,柔性印刷电路焊盘Pf形成在安装有柔性印刷电路213的区域中,并且形成有与对应于所述多个输入焊盘Pi的所述柔性印刷电路焊盘Pf相连接的线1210。另外,所述多个输出焊盘Po通过连接线1240与数据线DL相连接。
参照图12,作为能够分散在摩擦处理时产生的静电的构造,可以进一步形成有利用与像素电极的材料相同的材料(例如ITO等)形成的静电吸收图案300、发挥接地的作用的导向环1220、以及一端与静电吸收图案300连接并且另一端与所述导向环连接的至少一个连接线1230。
参照图12,作为能够分散在附接集成电路时产生的静电的构造,可以进一步形成有连接图案800,该连接图案800将在多个输出焊盘Po当中与数据集成电路212的接地端子相对应地的特定缓冲器所连接的输出焊盘Po与静电吸收图案300连接。
图13和图14是例示了摩擦在图11的步骤S1120中在像素电极1420上展开的配向层材料1430的表面的步骤S1130的图。
参照图13、图14A和图14B,例如,在步骤S1110之后移动TFT-阵列基板的母基板,同时转动附接有布1410(例如摩擦布等)的摩擦辊1400。
此时,参照图14B,在静电吸收图案300的突出部分400中,摩擦布等的布1410摩擦第二方向的第二突出部分520,该第二方向与摩擦方向交叉(例如相交叉)。
同时,当针对TFT-阵列基板的母基板的配向层材料的表面进行摩擦处理时,用于分散摩擦处理时以及当集成电路附接在TFT-阵列基板的母基板中时产生的静电的构造(特别地,静电吸收图案300)可能影响摩擦处理和液晶的配向。
因此,在该示例性实施方式中,静电吸收图案300可以形成为使整个表面突出的形状,但是静电吸收图案300也可以形成为具有因设置多个槽410而得到的格状图案的突出部分400。
与图14A和图14B不同,在静电吸收图案300的突出部分400中,与摩擦方向交叉(例如,交叉)的第二方向的第二突出部分520的各个距离D2可以非常狭窄,或者可以使静电吸收图案300的整个表面突出。
在这种情况下,摩擦辊1400上的布1410(例如摩擦布等)被静电吸收图案300的突出表面被弯曲很长一段时间。因此,恢复力,即在摩擦辊1400的布1410被弯曲之后展开布(例如摩擦布1410等)的力量被减小。这种现象被称为“摩擦辊1400的记忆现象”。
当摩擦静电吸收图案300并且摩擦层材料1430的表面时,这种摩擦辊1400的记忆现象接下来可能导致配向层材料1430的表面上的摩擦不均匀的问题。
由于这种不均匀摩擦,第一方向(例如,垂直方向)的摩擦轨迹不均匀,液晶的配向不正常,从而导致液晶显示面板的严重缺陷。
因此,在该示例性实施方式中,如图4至图7所示,形成了如下的格状图案的静电吸收图案300,即,该静电吸收图案300形成有包括因设置多个槽而得到第一方向的第一突出部分510和第二方向的第二突出部分520在内的突出部分400。
因此,在该示例性实施方式中,参照图14A和图14B,当沿着静电吸收图案300的第一方向(例如,垂直方向)的第一突出部分510进行摩擦时,与静电吸收图案300的整个表面突出的情况相同地,记忆现象可能产生,但是当沿着静电吸收图案300的第二方向(例如,水平方向)的第二突出部分520进行摩擦时,记忆现象可能被减少或阻止。
参照图14B,当摩擦辊1400通过第二方向的按照由于多个槽410而产生的距离为D2彼此间隔开的第二突出部分520摩擦所述第二突出部分520的突出表面时,在第二突出部分520处重复弯曲摩擦辊1400的布1410并且在槽410处展开摩擦辊1400的布1410的处理,从而恢复力不被减小。
因此,当摩擦辊1400的布1410随着静电吸收图案300摩擦层材料1430的表面时,摩擦辊1400的布1410可以以均匀的强度摩擦层材料1430的表面。
因此,在配向层材料1430上存在深度、宽度等均匀的均匀摩擦轨迹,结果,可以进行液晶的正常配向。
与这些方面有关地,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的各个宽度W可以等于子像素的宽度Wp或者比Wp窄,以使得静电吸收图案300将静电排出到外部并且使记忆现象最小化。
另外,为了减少引发记忆现象的第一方向的线的数量,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的各个距离D1在静电吸收图案300足以将静电排出到外部的范围内可以尽可能得宽。也就是说,静电吸收图案300的第一方向的第一突出部分510的数量在静电吸收图案300足以将静电排出到外部的范围内可以尽可能得小。
另外,静电吸收图案300的第二方向的第二突出部分520之间的距离D2可以是减少摩擦辊1400的记忆效应的设计值。
图15是关于在图11的步骤S1140中将TFT-阵列基板的母基板与滤色器基板的母基板相结合之后的在图11的步骤S1150中的单元液晶显示面板的划线处理的图。
参照图15,形成有作为用于分散TFT-阵列基板的母基板上的静电的构造而形成的连接线1230和导向环1220的区域不包括在单元液晶显示面板区域中。
根据单元液晶显示面板的大小来确定用于划线处理的切割线1500,并且该切割线应当被定位为不切割与驱动相关的至关重要的结构(焊盘、导线等)。
因此,当用于划线处理的切割线1500被定位为不切割与驱动相关的必要结构(焊盘、导线等)时,可以切割静电吸收图案300的一部分。另外,连接线1230的一部分可以保留下来。
在图11的步骤S1150中在单元液晶显示面板的划线处理之后,完成液晶显示面板110的制造。
接下来,数据集成电路212、柔性印刷电路213等被附接在各个液晶显示面板110上。
接下来,柔性印刷电路213的终端与印刷电路板230连接,并且将其它部件进行装配和包装,以完成液晶显示装置100的制造。
如上所述,根据本发明,具有提供能够减少静电影响的液晶面板110和液晶显示装置100的效果。
另外,根据本发明,具有提供用于制造包括用于将在摩擦处理中产生的静电排出到液晶显示面板的外部的构造(静电吸收图案300等)的液晶显示面板110和液晶显示装置100的方法、以及提供通过所述方法制造所述液晶显示面板110和所述液晶显示装置100的效果。
另外,根据本发明,具有提供用于制造包括用于能够减小当附接集成电路时产生的静电的影响的构造(静电吸收图案300、连接图案800等)的液晶显示面板110和液晶显示装置100的方法、以及提供通过所述方法制造所述液晶显示面板110和所述液晶显示装置100的效果。
另外,根据本发明,具有提供用于制造包括通过平顺地进行摩擦处理减小静电的影响以及对液晶进行准确配向的构造的液晶显示面板和液晶显示装置的方法、以及提供通过所述方法制造所述液晶显示面板110和所述液晶显示装置100的效果。
虽然为说明性目的已经描述了本发明的示例性实施方式,但本领域技术人员将理解在不脱离由所附权利要求所公开的本发明的精神和范围的情况下,可以对本发明进行各种修改、添加和替换。因此,本说明书所公开的本发明的示例性实施方式旨在说明本发明的技术构思的范围,并且本发明的范围不被这些示例性实施方式所限制。本发明的范围应当在所附权利要求的基础上被理解为,包括在与权利要求等同的范围内的所有技术构思都属于本发明。
本申请要求2014年5月27日申请的韩国专利申请No.10-2014-0063376的权益,该韩国专利申请通过引用方式被并入到本文中,如同其全部在本文中陈述一样。
Claims (11)
1.一种液晶显示装置,所述液晶显示装置包括:
第一基板,该第一基板包括有效显示区域和对应于所述有效显示区域的外围区域的非有效显示区域;
形成在所述非有效显示区域中的格状图案的静电吸收图案;以及
第二基板,该第二基板面对所述第一基板,
其中,所述静电吸收图案包括突出部分,该突出部分通过形成多个槽而形成在所述格状图案中,
所述突出部分包括在第一方向上突出且在第二方向上彼此间隔开的第一突出部分,以及与所述第一突出部分交叉、在所述第二方向上突出且在所述第一方向上彼此间隔开的第二突出部分,
其中,所述第一突出部分的各个宽度等于子像素的宽度或者比子像素的宽度窄,并且
其中,所述第二方向与所述第一基板的摩擦方向交叉,并且所述第一方向与所述摩擦方向相同。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,所述液晶显示装置还包括:
多个数据集成电路;和/或
两个或更多个柔性印刷电路;
其中,所述两个或更多个柔性印刷电路和/或所述多个数据集成电路位于所述非有效显示区域中;
其中,所述静电吸收图案形成在所述非有效显示区域中的未设置所述两个或更多个柔性印刷电路和/或所述多个数据集成电路的区域。
3.根据权利要求2所述的液晶显示装置,其中,与属于数据集成电路组的每个数据集成电路组的N个数据集成电路相连接的一个柔性印刷电路位于数据集成电路组的每个数据集成电路组中,在所述第一基板中,所述数据集成电路组的每个数据集成电路组包括所述多个数据集成电路当中的N个分组的数据集成电路,并且
所述静电吸收图案形成在所述第一基板中的设置所述柔性印刷电路的区域的外围区域。
4.根据权利要求3所述的液晶显示装置,其中,所述柔性印刷电路和所述静电吸收图案交替形成在所述第一基板的边缘区域中。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述第二突出部分之间的距离比所述第一突出部分之间的距离窄。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置,所述液晶显示装置还包括至少一个像素电极,其中,所述静电吸收图案包括与所述像素电极的材料相同的材料。
7.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,所述静电吸收图案是电连接断开的浮置图案。
8.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其中,在所述第一基板中还形成有将与所述静电吸收图案相邻的数据集成电路与所述静电吸收图案电连接的连接图案。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置,其中,所述连接图案将与所述静电吸收图案相邻的所述数据集成电路的特定缓冲器与所述静电吸收图案连接起来。
10.根据权利要求9所述的液晶显示装置,其中,与所述连接图案连接的所述数据集成电路的所述特定缓冲器对所述数据集成电路的接地端子和与所述连接图案相连接的输出焊盘进行连接。
11.根据权利要求9所述的液晶显示装置,所述液晶显示装置还包括至少一个像素电极,其中,所述连接图案包括与所述像素电极的材料相同的材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2014-0063376 | 2014-05-27 | ||
KR1020140063376A KR101577667B1 (ko) | 2014-05-27 | 2014-05-27 | 액정표시패널 및 그 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105158981A CN105158981A (zh) | 2015-12-16 |
CN105158981B true CN105158981B (zh) | 2018-09-18 |
Family
ID=51421939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410648694.XA Active CN105158981B (zh) | 2014-05-27 | 2014-11-14 | 液晶显示面板和液晶显示装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9316878B2 (zh) |
EP (1) | EP2950139B1 (zh) |
KR (1) | KR101577667B1 (zh) |
CN (1) | CN105158981B (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102668848B1 (ko) | 2016-08-04 | 2024-05-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
CN107479285B (zh) * | 2017-08-31 | 2020-05-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及显示装置 |
CN108732835A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-02 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板、液晶显示面板及液晶显示面板的光配向方法 |
CN108983520B (zh) * | 2018-09-29 | 2021-04-02 | 武汉华星光电技术有限公司 | 抗静电放电的显示面板 |
KR102755034B1 (ko) * | 2019-01-14 | 2025-01-20 | 주식회사 하이퍼플렉스 | 러빙포 제전 시스템 및 이를 갖는 액정표시장치 제조용 러빙 시스템 |
CN210668370U (zh) * | 2019-12-20 | 2020-06-02 | 北京京东方技术开发有限公司 | 显示面板及显示装置 |
KR102323659B1 (ko) | 2020-01-06 | 2021-11-12 | 차순례 | 천연오일 성분이 함유된 탈모방지 기능성 비누 |
CN111179743B (zh) * | 2020-02-19 | 2022-01-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板和显示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1256763A (zh) * | 1998-02-19 | 2000-06-14 | 精工爱普生株式会社 | 有源矩阵衬底,电光转换装置,有源矩阵衬底的制造方法以及电子仪器 |
JP2009069725A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶パネル |
KR20090046406A (ko) * | 2007-11-06 | 2009-05-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 씨오지 타입 액정표시장치 |
CN103676349A (zh) * | 2012-08-30 | 2014-03-26 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2753549B2 (ja) * | 1994-06-21 | 1998-05-20 | カシオ計算機株式会社 | 液晶表示デバイス |
JP4583052B2 (ja) * | 2004-03-03 | 2010-11-17 | 株式会社 日立ディスプレイズ | アクティブマトリクス型表示装置 |
US20070091218A1 (en) * | 2005-10-25 | 2007-04-26 | Chin-Hai Huang | Electrostatic discharge protection structure and thin film transistor substrate including the same |
US20070146564A1 (en) * | 2005-12-23 | 2007-06-28 | Innolux Display Corp. | ESD protection circuit and driving circuit for LCD |
KR20080011855A (ko) * | 2006-08-01 | 2008-02-11 | 삼성전자주식회사 | 표시 셀의 제조 방법 및 표시 셀 |
US9076362B2 (en) * | 2006-09-22 | 2015-07-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Display substrate and method of manufacturing a motherboard for the same |
TWI334044B (en) * | 2008-04-23 | 2010-12-01 | Au Optronics Corp | Liquid crystal display device having esd protection functionality |
KR101033463B1 (ko) * | 2008-06-13 | 2011-05-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 어레이 기판 |
US8310609B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-11-13 | Sony Corporation | Liquid crystal device, electronic apparatus, and method of manufacturing liquid crystal device |
KR101200258B1 (ko) * | 2008-12-26 | 2012-11-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 모 어레이 기판 |
KR101579853B1 (ko) * | 2009-03-23 | 2015-12-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 정전기 방지 패턴을 가지는 표시 패널 |
KR101910174B1 (ko) * | 2011-11-02 | 2018-10-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시셀 및 이의 제조방법 |
-
2014
- 2014-05-27 KR KR1020140063376A patent/KR101577667B1/ko active Active
- 2014-08-29 EP EP14182774.1A patent/EP2950139B1/en active Active
- 2014-09-26 US US14/498,552 patent/US9316878B2/en active Active
- 2014-11-14 CN CN201410648694.XA patent/CN105158981B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1256763A (zh) * | 1998-02-19 | 2000-06-14 | 精工爱普生株式会社 | 有源矩阵衬底,电光转换装置,有源矩阵衬底的制造方法以及电子仪器 |
JP2009069725A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶パネル |
KR20090046406A (ko) * | 2007-11-06 | 2009-05-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 씨오지 타입 액정표시장치 |
CN103676349A (zh) * | 2012-08-30 | 2014-03-26 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101577667B1 (ko) | 2015-12-16 |
US9316878B2 (en) | 2016-04-19 |
KR20150136629A (ko) | 2015-12-08 |
EP2950139A1 (en) | 2015-12-02 |
US20150346570A1 (en) | 2015-12-03 |
CN105158981A (zh) | 2015-12-16 |
EP2950139B1 (en) | 2018-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105158981B (zh) | 液晶显示面板和液晶显示装置 | |
US10037984B2 (en) | Display device | |
CN101604103B (zh) | 液晶显示器设备的阵列基板 | |
DE102010042473B4 (de) | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit integrierter berührungsempfindlicher Tafel | |
CN103901641B (zh) | 用于显示装置的阵列基板 | |
US8154674B2 (en) | Liquid crystal display, array substrate and mother glass thereof | |
US8786814B2 (en) | Liquid crystal display apparatus | |
KR102203281B1 (ko) | 디스플레이 장치와 이의 제조방법 | |
CN107422509B (zh) | 阵列基板、显示面板及显示器 | |
CN104950537B (zh) | 显示装置的阵列基板 | |
CN104699321A (zh) | 触控显示基板和触控显示装置 | |
CN205428453U (zh) | 显示装置 | |
CN104090436A (zh) | 一种阵列基板的栅极行驱动电路及显示装置 | |
CN105097838B (zh) | 显示面板及薄膜晶体管阵列基板 | |
CN101207138A (zh) | 薄膜晶体管基板及其制造方法 | |
JP5053479B2 (ja) | マトリクスアレイ基板及びその製造方法 | |
US9431438B2 (en) | Display device and method for fabricating the same | |
CN109946894A (zh) | 显示装置 | |
CN103809318A (zh) | 一种阵列基板制造方法、阵列基板及显示设备 | |
CN203217513U (zh) | 一种触控显示屏及触控显示装置 | |
CN107544185A (zh) | 阵列基板、显示面板及显示装置 | |
CN205721693U (zh) | 一种触控显示面板及触控显示装置 | |
US20090231242A1 (en) | Electrode layout for a display | |
US10459298B2 (en) | Display device, array substrate and manufacturing method thereof | |
WO2024046070A1 (zh) | 阵列基板及其检测方法、显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |