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CN105142925A - 转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置 - Google Patents

转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置 Download PDF

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CN105142925A
CN105142925A CN201480022977.1A CN201480022977A CN105142925A CN 105142925 A CN105142925 A CN 105142925A CN 201480022977 A CN201480022977 A CN 201480022977A CN 105142925 A CN105142925 A CN 105142925A
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并河均
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Abstract

本发明提供转印层的转印性良好、并无转印层的剥离、剥离层并未残留于转印层侧且无需显影步骤的转印材料。转印材料依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜，其中在自转印材料剥下上述保护膜时，上述保护膜自上述转印层剥离，且上述转印层残留于上述剥离层侧，将上述转印层转印至上述包含玻璃或者选自三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上，剥离上述临时支撑体时，在所剥离的上述临时支撑体侧具有上述剥离层。

Description

转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置
技术领域
本发明涉及一种转印材料及其制造方法、带有使用转印材料的转印层的基材及其制造方法、包含带有转印层的基材的触摸屏及其制造方法、及包含触摸屏的信息显示装置。
背景技术
在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子机器中，近年来存在有在液晶装置等的表面配置有触摸屏型输入装置的。在触摸屏型输入装置中，一面参照液晶装置的图像显示区域中所表示的指示图像，一面用手指或触摸笔等触碰显示所述指示图像的部位，由此进行与指示图像对应的信息输入。
此种输入装置(触摸屏)存在有电阻膜型或静电电容型等。静电电容型输入装置具有如下的优点：若仅仅在一枚基板上形成透光性导电膜即可。在静电电容型输入装置中，为了使并不由使用者目视到显示装置的引绕电路等，且更加美观，有时在包围用手指或触摸笔等触碰的信息显示部(图像显示部)的框状部位配置装饰材，进行装饰。
在触摸屏的制作以外的技术领域中，已知有使用转印材料，形成所期望的层的方法。例如，在专利文献1中记载了如下方法：将在临时支撑体上设有热塑性树脂层(垫层)、中间层(隔氧层)、着色感光性组合物层，进一步在着色感光性组合物层上设有覆盖片材的感光性转印材料转印至永久支撑体上，在临时支撑体与隔氧层之间剥离而将临时支撑体除去，依序形成永久支撑体、包含着色感光性树脂组合物的层及隔氧层，在曝光后进行显影处理将热塑性树脂层与中间层除去，在永久支撑体上形成有色材料层。
而且，在专利文献2中揭示了包含临时支撑体与剥离层的脱模膜。在专利文献2中记载了构成在脱模膜的剥离层的面具有图案层及接着层等装饰层的转印膜的方法。然而，在专利文献2中并无制造转印膜的例子，并无使用转印膜转印装饰层等的例子，作为转印法，设想为成形同时转印法(在模内转印后，将临时支撑体剥离的方法)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2011-095716号公报
专利文献2：日本专利特开2012-121969号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明人欲在触摸屏的制造中使用转印材料而形成装饰层等，结果可知若使用专利文献1中所记载的在临时支撑体上具有垫层或隔氧层的转印材料，则在转印转印层后剥离覆盖片材时，存在垫层或隔氧层残存于转印层侧的问题。在专利文献1中，虽然通过显影将这些垫层或隔氧层除去，但自减低制造成本的观点考虑要求加以改善。
而且，可知若使用在临时支撑体上并未设置垫层或隔氧层而设有转印层的转印材料，则在转印转印层后剥离临时支撑体时，存在转印层的一部分残存于临时支撑体上，转印层在内部破断的问题。
可知在转印层上并未设置保护膜的情况下，在以卷状保管转印材料时，所述转印层的一部分接着于临时支撑体的背面而变得无法转印，存在转印性变差的问题。而且，可知即使在转印层上设置保护膜，若不调整与其他层的剥离力，则在剥离保护膜时，转印层的一部分接着于所述保护膜侧而变得无法转印，也存在转印性变差的问题。
本发明所欲解决的课题是提供转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥离残留得到抑制的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置。
解决问题的技术手段
本发明人为了解决上述课题而反复进行努力研究，结果发现通过设为依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的构成，以使各层间的剥离力的大小满足特定关系的方式进行控制，可获得转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥离残留得到抑制的转印材料。
也即，发现根据以下所示的构成的本发明可解决上述课题，从而完成本发明。
[1]一种转印材料，其是依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的转印材料，其特征在于：
在自转印材料剥下保护膜的情况下，保护膜自转印层剥离，且上述转印层残留于上述剥离层侧，
将转印层转印至包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素(TriacetylCellulose，TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate，PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或环烯烃聚合物(CycloOlefinPolymer，COP)的膜的被转印基材上之后，剥下临时支撑体的情况下，将剥离层与临时支撑体一同剥离。
[2]根据[1]所述的转印材料，其中，优选的是自转印材料剥下保护膜时的保护膜与转印层间的剥离力是10mN/m～200mN/m。
[3]根据[1]或[2]所述的转印材料，其中，优选的是自转印至被转印基材上的转印层剥离剥离层及临时支撑体的层叠体时的剥离力为40mN/m～400mN/m。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含消光剂，消光剂自剥离层隆起150nm～500nm。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、及烯烃树脂的聚合物。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物及烯烃树脂的聚合物。
[7]根据[1]～[6]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少一层以上，转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种。
[8]根据[1]～[7]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少两层，
转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种，
转印层中的其他层包含粘合树脂。
[9]根据[7]或[8]所述的转印材料，其中，优选的是转印层中的至少一层中所含的上述粘合树脂具有硅氧烷键。
[10]根据[7]～[9]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层中的至少一层包含选自黑色颜料、黑色染料、及白色颜料的至少一种颜料或染料作为颜料或染料。
[11]根据[1]～[10]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少两层，
转印层中的与剥离层邻接的层包含至少一种选自黑色颜料及黑色染料的颜料或染料，
与上述保护膜邻接的层包含白色颜料。
[12]根据[1]～[11]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含至少两层，
转印层中，越是剥离层侧的转印层，光学密度越大于上述保护膜侧的转印层的光学密度。
[13]根据[1]～[12]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是转印层包含至少两层，
转印层中的与剥离层邻接的层的光学密度为1.0～6.0。
[14]根据[1]～[13]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含至少两层，
转印层中的与剥离层邻接的层的膜厚为0.5μm～3.0μm。
[15]根据[1]～[14]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是上述转印层包含至少两层，
转印层中的与保护膜层邻接的层的膜厚为5.0μm～50.0μm。
[16]根据[1]～[15]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是临时支撑体包含选自聚酯树脂、三酰基纤维素(triacylcellulose)树脂、及环烯烃树脂的树脂。
[17]根据[1]～[16]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是保护膜是聚烯烃膜。
[18]根据[1]～[17]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是被转印基材包含玻璃。
[19]根据[1]～[17]中任一项所述的转印材料，其中，优选的是被转印基材包含环烯烃聚合物膜。
[20]一种转印材料的制造方法，其是根据[1]～[19]中任一项所述的转印材料的制造方法，包含以下的(1)～(3)的步骤：
(1)准备具有剥离层的临时支撑体；
(2)在临时支撑体的剥离层侧形成转印层；
(3)在转印层侧贴合保护膜。
[21]一种带有转印层的基材的制造方法，其使用根据[1]～[19]中任一项所述的转印材料，包含以下的步骤：
(11)自转印材料剥离保护膜；
(12)将转印材料的转印层侧转印至上述包含玻璃的被转印基材、或包含选自TAC、PET、PC或COP的膜的被转印基材上；
(13)自转印层同时剥离剥离层与临时支撑体。
[22]根据[21]所述的带有转印层的基材的制造方法，其中，优选的是将转印层转印至被转印基材上时的被转印基材的温度为40℃～150℃。
[23]一种带有转印层的基材，其利用根据[21]或[22]所述的带有转印层的基材的制造方法而制造。
[24]根据[23]所述的带有转印层的基材，其中，优选的是25℃下的转印层的表面电阻为1.0×1010Ω/□以上。
[25]一种触摸屏的制造方法，其特征在于：使用根据[23]或[24]所述的带有转印层的基材，包含以下的步骤：
(21)在带有转印层的基材的转印层侧形成导电层；
(22)将导电层的一部分除去，形成电极图案。
[26]一种触摸屏，其特征在于：包含根据[23]或[24]所述的带有转印层的基材。
[27]一种信息显示装置，其特征在于：包含根据[26]所述的触摸屏。
发明的效果
根据本发明可提供转印层的转印性良好、且在所转印的转印层上的剥离残留得到抑制的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置。
附图说明
图1A是表示本发明的触摸屏的一例的构成的剖面概略图。
图1B是表示本发明的触摸屏的另外一例的构成的剖面概略图。
图2是表示触摸屏的前面板的一例的说明图。
图3是表示第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。
图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。
图5是表示形成有白色层及遮光层的前面板的一例的俯视图。
图6是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图7是表示形成有第一透明电极图案及第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。
图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板的一例的俯视图。
图9是表示转印材料的剖面的一例的概略图。
图10是表示自转印材料剥离保护膜时的剖面的一例的概略图。
图11是表示将转印材料的转印层转印至被转印基材时的剖面的一例的概略图。
图12是表示将转印材料的转印层转印至被转印基材上之后，同时剥离临时支撑体与剥离层时的剖面的概略图。
图13是表示半切穿方法的一例的概略图。
具体实施方式
以下，对本发明的转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置加以详细说明。
以下所记载的构成要件的说明是基于本发明的代表性实施方式而成的。本发明并不限定于以下的实施方式。在本说明书中，使用“～”而表示的数值范围表示包含“～”前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。
[转印材料]
转印材料是依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜的转印材料，其特征在于：在自转印材料剥下所述保护膜时，保护膜自转印层剥离，且转印层残留于剥离层侧，将转印层转印至包含玻璃、或选自TAC、PET、PC或COP的膜的被转印基材上之后，剥下临时支撑体时，在所剥离的临时支撑体侧存在有剥离层。
根据此种构成，转印层的转印性良好，并无转印层的剥离，变得剥离层并不残留于转印层侧且无需显影步骤。
在作为具有开口部8(参照图2)的静电电容型输入装置的触摸屏10中，若使用转印材料20(参照图9)而形成白色层2a或遮光层2b等(参照图1A及图1B)，则在具有开口部8的作为被转印基材的前面板1中，抑制抗蚀剂成分自所述开口部8的部分漏出。特别是在需要形成遮光图案直至前面板1的最边界的白色层2a或遮光层2b中，抑制抗蚀剂成分自玻璃端渗出。因此，变得可并不污染前面板的背面侧地利用简略的步骤而制造具有薄层及轻量化的优点的触摸屏10。
作为被转印基材的前面板1，包含玻璃基材101a(盖玻璃)及膜基材101b中的至少任意的。在图1A中，前面板1包含玻璃基材101a。在图1B中，前面板1包含玻璃基材101a及膜基材101b。膜基材101b例如包含选自TAC(三乙酰纤维素)或PET(聚对苯二甲酸乙二酯)、PC(聚碳酸酯)、COP(环烯烃聚合物)等的膜。
以下，对本发明的转印材料的优选形态加以说明。
＜构成＞
首先，对转印材料20的构成加以说明。
在图9中表示本发明的转印材料的优选形态的一例。转印材料20依序包含：临时支撑体11、剥离层12、包含遮光层2b及白色层2a的转印层2、保护膜13。转印材料20是依序层叠这些临时支撑体11、剥离层12、转印层2及保护膜13而构成。
通过设为此种构成，转印材料20在将转印层2转印至玻璃基材101a、或选自TAC、PET、PC或COP的膜基材101b上，剥离临时支撑体11时，在所剥离的临时支撑体11侧具有剥离层12。
＜层间的剥离力＞
优选的是保护膜13与转印层2之间的剥离力小于转印层2与剥离层12之间的剥离力。也即，相对于转印层2而言，保护膜13比剥离层12更容易剥离。在剥离力的关系相反的情况下，变得在转印层2与剥离层12之间剥离，无法获得理想的形态。
保护膜13与转印层2之间的剥离力优选的是10mN/m～200mN/m的范围。在所述剥离力不足10mN/m的情况下，在操作中保护膜13变得容易自转印材料20没必要地剥离而欠佳。而且，在大于200mN/m的情况下，剥下保护膜13时，在转印层2与剥离层12之间剥离，或者转印层2由于凝聚破坏而粘在保护膜13上，从而欠佳。
保护膜13与转印层2之间的剥离力更优选的是15mN/m～150mN/m，进一步更优选的是20mN/m～100mN/m，特别优选的是30mN/m～60mN/m。
自转印至被转印基材上的转印层2剥离剥离层12及临时支撑体11的层叠体时的剥离力优选的是40mN/m～400mN/m，更优选的是50mN/m～300mN/m，特别优选的是60mN/m～250mN/m。在剥离力处于所述范围的情况下，将转印层2转印至玻璃基材101a、或膜基材101b上，剥离临时支撑体11时，变得容易在所剥离的临时支撑体11侧存在剥离层12。
＜临时支撑体＞
转印材料20包含临时支撑体11。
优选的是临时支撑体11具有可挠性。而且，优选的是临时支撑体11即使在加压下、或加压及加热下，也不产生显著的变形、收缩或延伸。临时支撑体11例如可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等。临时支撑体11优选的是包含选自聚酯树脂、三酰基纤维素树脂、环烯烃树脂的树脂，其中特别优选的是包含2轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
临时支撑体11的厚度并无特别限定，优选的是5μm～300μm，更优选的是20μm～200μm。
临时支撑体11也可透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。
可利用日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等而对临时支撑体11赋予导电性。
＜剥离层＞
转印材料20包含剥离层12。
优选的是剥离层12包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、烯烃树脂的聚合物。
烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物优选的是聚烯烃多元醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物。聚烯烃多元醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物可使用日本专利特开2012-162625号公报、日本专利特开2011-94096号公报中所记载的。
聚烯烃多元醇优选的是以下的。
艾波鲁(Epol)(出光兴产股份有限公司制造)、尤尼斯特鲁(Unistole)P-801(三井化学股份有限公司制造)。
2官能以上的异氰酸酯优选的是以下的。
科罗奈特(CORONATE)L、科罗奈特(CORONATE)HL、密里奈特(MILLIONATE)MT(以上由日本聚氨酯工业股份有限公司制造)、塔格耐德(Takenate)D110N(三井化学股份有限公司制造)。
烯烃树脂优选的是以下的。
塔夫玛(TAFMER)P-0080K、塔夫玛(TAFMER)P-0280、塔夫玛(TAFMER)A-35070S、塔夫玛(TAFMER)P-0680、塔夫玛(TAFMER)A-1070S、塔夫玛(TAFMER)A-4085S、路康特(LUCANT)HC-2000(以上由三井化学股份有限公司制造)、恩盖智(Engage)8180(陶氏化学(DowChemical)股份有限公司制造)。
酸改性聚烯烃树脂可使用日本专利特开2011-126043号、日本专利特开2012-152965号、日本专利特开2012-171153号中所记载的，优选的是以下的。
酸改性聚烯烃树脂优选的是以下的。
保利威斯特(polyvest)OC800S(赢创德固赛(EvonikDegussa)公司制造)、库拉普伦(Kuraplene)LIR-403、LIR-410(以上由可乐丽(Kuraray)公司制造)、邦达因(BONDINE)LX-4110、HX-8210、HX-8290(以上由阿克玛(Arkema)公司制造)。利用马来酸酐对威斯特普拉斯特(VESTOPLAST)708、威斯特普拉斯特(VESTOPLAST)408(以上由惠而斯日本(HUELSjapan)公司制造)进行改性而成的。
转印材料20也可使用在临时支撑体11的至少单面形成有剥离层12的“剥离膜”作为临时支撑体11及剥离层12。
剥离膜中所使用的剥离层12优选的是含有选自硅酮树脂及氟树脂中的一种以上作为主成分。
硅酮树脂可使用一般在脱模剂中所利用的硅酮树脂。硅酮树脂例如可自“硅酮材料手册”(东丽道康宁编、1993.8)等中所记载的在所述领域中所一般使用的硅酮树脂中选择使用。一般情况下使用热硬化型硅酮树脂或电离射线硬化型硅酮树脂(包含树脂及树脂组合物)。热硬化型硅酮树脂例如可使用缩合反应型及加成反应型的硅酮树脂，电离射线硬化型硅酮树脂可使用紫外线或电子束硬化型的硅酮树脂等。将这些涂布于作为基材的膜上，通过进行干燥或硬化而形成剥离层。
上述硬化型硅酮树脂优选的是其硬化后的聚合度为50～20万左右、特别优选的是1000～10万左右，这些的具体例可列举如下的树脂：信越化学工业股份有限公司制造的KS-718、KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-830、KS-835、KS-837、KS-838、KS-839、KS-841、KS-843、KS-847、KS-847H、X-62-2418、X-62-2422、X-62-2125、X-62-2492、X-62-2494、X-62-5048、X-62-470、X-62-2366、X-62-630、X-92-140、X-92-128、KS-723A·B、KS-705F、KS-708A、KS-883、KS-709、KS-719；东芝硅股份有限公司制造的TPR-6701、TPR-6702、TPR-6703、TPR-3704、TPR-6705、TPR-6721、TPR-6722、TPR-6700、XSR-7029、YSR-3022、YR-3286；道康宁股份有限公司制造的DK-Q3-202、DK-Q3-203、DK-Q3-204、DK-Q3-205、DK-Q3-210、DK-Q3-240、DK-Q3-3003、DK-Q3-3057、SFXF-2560；东丽道康宁硅酮股份有限公司制造的SD-7226、SD-7229、SD-7320、BY-24-900、BY-24-171、BY-24-312、BY-24-374、SRX-375、SYL-OFF23、SRX-244、SEX-290；ICI日本(ICIJapan)股份有限公司制造的思路库埃塞(SILCOLEASE)425等。另外，也可使用日本专利特开昭47-34447号公报、日本专利特公昭52-40918号公报等中所记载的硅酮树脂。这些硬化型硅酮树脂可单独使用一种，也可并用两种以上。
氟树脂可使用一般在脱模剂中所利用的氟树脂。氟树脂例如可列举如下的树脂，所述树脂是由含有氟的乙烯基聚合性单体而成的聚合物(包含寡聚物)或其共聚物、含有氟的乙烯基聚合性单体与不含氟原子的乙烯基聚合性单体的共聚物、或这些的混合物，且含有5mol％～80mol％的氟原子。
包含临时支撑体11及剥离层12的剥离膜的市售品可优选地使用尤尼匹鲁(Unipeel)TR4、TR6、TR9(以上由尤尼吉可(Unitika)股份有限公司制造)、6501、6502(以上由琳得科(LINTEC)股份有限公司制造)、塞拉匹鲁(Cerapeel)BLK(东丽膜加工股份有限公司制造)、HP-A3、HP-A5(以上由富士夸(Fujiko)股份有限公司制造)、NSD(藤森工业股份有限公司制造)、TN110(东洋纺绩股份有限公司制造)等。
在剥离层12中，除了上述树脂以外，也可在不损及本发明的效果的范围内含有所述领域中所通常使用的添加剂。添加剂例如可列举消光剂、消泡剂、涂布性改良剂、增粘剂、抗静电剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、磁化剂、染料等。
剥离层12为了防止卷形态下的粘连(blocking)而可包含消光剂。消光剂可选择包含(甲基)丙烯酸系聚合物的、包含二氧化硅的等适合本发明的消光剂。消光剂优选的是平均粒径为100nm～1000nm。在平均粒径小的情况下，存在粘连防止效果并不充分的可能性，在大的情况下，存在于转印层2中残留其痕迹而成为转印材料20的品质差的原因的可能性。
剥离层12包含消光剂，优选的是消光剂自所述剥离层12隆起150nm～500nm，更优选的是隆起200nm～400nm，进一步更优选的是隆起200nm～350nm，特别优选的是隆起200nm～300nm。若为所述范围，则可获得上述的粘连防止效果或消光剂在转印层2中并无痕迹的转印材料20。
消光剂自剥离层12隆起的量可根据利用光学计测器“智高新视野(ZygoNewView)6200”而测定的剥离层12的表面凹凸的值而求出。后述的实施例中的消光剂自剥离层隆起的高度也利用所述方法而测定。
＜转印层＞
(层构成)
转印材料20可含有包含仅仅一层的转印层2，也可含有包含至少两层的转印层2。也即，转印层2可包含一层，也可包含两层以上。
优选的是转印层2中的至少一层包含粘合树脂、以及颜料及染料中的至少一种。也将转印层2中包含颜料及染料中的至少一种的层称为“有色材料层”。
更优选的是转印层2包含至少两层，其中至少一层包含粘合树脂、以及颜料及染料中的至少一种，其他层包含粘合树脂。
特别优选的是转印层2中的至少一层包含选自黑色颜料、黑色染料及白色颜料的至少一种作为颜料或染料。
进一步特别优选的是转印层2包含至少两层，剥离层12侧的层包含选自黑色颜料及黑色染料的至少一种，保护膜13侧的层2包含白色颜料。
以下，对转印层2包含有色材料层的情况加以说明，但本发明并不限定于转印层2包含有色材料层的情况。
优选的是转印材料20至少包含遮光层2b及白色层2a(以下总称为“有色材料层”)中的至少一种。
通过将转印材料20中所含的遮光层2b及白色层2a转印至前面板1，可形成“带有转印层的基材”的装饰层(遮光层2b及白色层2a)。
(有色材料层的材料)
有色材料层2a包含有色材料、用以将所述有色材料形成为有色材料层的粘合树脂材。而且，优选的是根据所使用的环境、用途，有色材料层进一步包含聚合性化合物及聚合引发剂。另外，有色材料层可包含抗氧化剂、聚合抑制剂。
优选的是转印材料20包含遮光层2b及白色层2a作为转印层2。优选的是转印材料20中的遮光层2b及白色层2a与带有转印层的基材中的装饰层中所含的遮光层2b及白色层2a为相同组成。然而，转印材料20中的遮光层2b及白色层2a可根据转印至前面板1后的制造步骤而为不同组成。例如，在转印材料20中的遮光层2b及白色层2a包含聚合性化合物的情况下，在带有转印层的基材中的装饰层中所含的遮光层2b及白色层2a中，聚合性化合物的含有比例也可变化。
有色材料：-保护膜侧的转印层、白色层-
更优选的是白色层2a包含白色颜料。
白色层2特别容易显得美观，因此优选的是使用以下的白色层2a用有色材料。白色层2a用有色材料优选的是颜料，更优选的是白色无机颜料。
白色无机颜料可使用日本专利特开2005-7765公报的段落[0015]或段落[0114]中所记载的白色颜料。
具体而言，白色无机颜料优选的是氧化钛、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳、氧化铝、氢氧化铝及硫酸钡，更优选的是氧化钛及氧化锌。白色层2a优选的是氧化钛，其中更优选的是金红石型或锐钛矿型氧化钛，特别优选的是金红石型氧化钛。
氧化钛的表面可通过二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理、有机物处理及将这些并用而进行处理。
由此可抑制氧化钛的催化剂活性，可改善耐热性、褪光性等。
自抑制加热后的白色层2a的b值的观点考虑，氧化钛的表面处理优选的是氧化铝处理或氧化锆处理，特别优选的是并用氧化铝及氧化锆的处理。
白色层2a的白色无机颜料相对于所有固体成分的含有率优选的是20质量％～75质量％，更优选的是25质量％～60质量％，进一步更优选的是30质量％～50质量％。在白色无机颜料的含量在所述范围内的情况下，进行与利用溅镀而蒸镀导电性层时同等程度的加热后的良好亮度及白度(b值小)成为良好的范围，可形成同时满足其他所要求的特性的装饰材。
所谓“所有固体成分”是表示自白色层2a中除去溶剂等的不挥发成分的总质量。
白色无机颜料(另外，关于遮光层2b中所使用的其他颜料也同样)理想的是制成分散液而使用。所述分散液可通过如下方式而制备：将白色无机颜料与颜料分散剂预先混合而所得的组合物添加于有机溶剂(或媒剂)中使其分散。所谓“媒剂”在涂料为液体状态的情况下是指使颜料分散的媒质的部分，包含为液状且与颜料结合而形成涂膜的成分(粘合剂)、对其进行溶解稀释的成分(有机溶剂)。
使白色无机颜料分散的分散机并无特别限制，例如可列举朝仓邦造著、《颜料百科》、第一版、朝仓书店、2000年、第438项中所记载的捏合机、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合机、砂磨机等公知的分散机。另外，也可利用所述文献第310页中所记载的机械磨碎，利用摩擦力对白色无机颜料进行微粉碎。
自分散稳定性及遮蔽能力的观点考虑，白色无机颜料(白色层用有色材料)的一次粒子的平均粒径优选的是0.16μm～0.3μm，更优选的是0.18μm～0.27μm，特别优选的是0.19μm～0.25μm。若一次粒子的平均粒径为0.16μm以上，则遮蔽能力高，变得难以看到遮光层2b的基底，难以引起粘度上升。另一方面，若一次粒子的平均粒径为0.3μm以下，则白度足够高，同时遮蔽能力高，且进行涂布时的面状变良好。
所谓“一次粒子的平均粒径”是指将粒子的电子显微镜相片图像设为同面积的圆时的直径。所谓“数量平均粒径”是指对多个粒子求出一次粒子的平均粒径，其中100个的平均值。
在测定分散液或涂布液中的平均粒径的情况下，可使用激光散射堀场(HORIBA)H(堀场先进技术股份有限公司制造)。
-剥离层侧的转印层、遮光层-
遮光层2b用有色材料优选的是包含染料或颜料，更优选的是包含颜料，进一步更优选的是黑色颜料。黑色颜料例如可列举碳黑、钛黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等。在带有转印层的基材中，优选的是遮光层2b包含氧化钛及碳黑中的至少一种，更优选的是包含碳黑。
粘合树脂：
转印层2用粘合树脂并无特别限制，可使用公知的。
转印材料20优选的是转印层2的至少一层中所含的粘合树脂具有硅氧烷键，更优选的是包含在主链具有硅氧烷键的树脂。
根据此种构成，转印材料20的高温处理后的白色层2a的b值变小。在主链具有硅氧烷键的树脂即使在高温处理后(例如在280℃下处理30分钟)也难以分解。因此，使用在主链具有硅氧烷键的树脂的白色层2a及遮光层2b即使在高温处理后也难以产生分解等，b值小。特别是与仅仅白色层2a自身包含在主链具有硅氧烷键的树脂的情况相比而言，白色层2a及遮光层2b均包含在主链具有硅氧烷键的树脂的情况更可使高温处理后的b值变小。
在主链具有硅氧烷键的树脂并无特别限制，优选的是硅酮系树脂。
硅酮系树脂可使用公知的。可使用甲基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂、丙烯酸树脂改性硅酮树脂、聚酯树脂改性硅酮树脂、环氧树脂改性硅酮树脂、醇酸树脂、改性硅酮树脂及橡胶系的硅酮树脂等。
更优选的是甲基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂及丙烯酸树脂改性硅酮树脂，特别优选的是甲基系线性硅酮树脂及甲基苯基系线性硅酮树脂。
在主链具有硅氧烷键的树脂可仅仅使用一种，也可将两种以上混合使用。也可通过以任意比率将这些混合而控制膜物性。
在主链具有硅氧烷键的树脂可使用溶解于有机溶剂等中的，例如可使用溶解于二甲苯溶液中的。
而且，自提高硬化性的观点考虑，优选的是在于主链具有硅氧烷键的树脂中添加公知的化合物作为聚合催化剂，更优选的是添加锌系聚合催化剂。
其中，只要不违反本发明的主旨，则转印层2中的“包含上述粘合树脂的层”也可包含“其他粘合树脂”。
其他粘合树脂例如可列举(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸丁酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸环己酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸异冰片酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物等。
其中，在避免加热压接时混入气泡的方面而言，优选的是(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物及(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物。
其他粘合树脂的玻璃化温度Tg(b)优选的是70℃～140℃的范围，更优选的是80℃～110℃的范围。若Tg(b)为70℃以上，则可抑制加热压接(层压)时的空气(气泡)的卷入，若为140℃以下，则加热压接时的空气(气泡)的卷入变充分，也良好地进行显影。
其他粘合树脂的重量平均分子量Mw(b)优选的是10,000～50,000的范围，更优选的是15,000～40,000的范围。若Mw(b)为10,000以上，则可抑制加热压接时的空气(气泡)的卷入，若为50,000以下，则加热压接时的空气(气泡)的卷入变充分，也良好地进行显影。
作为转印层2中的“包含上述粘合树脂的层”中的其他粘合树脂的含量，相对于所述“包含上述粘合树脂的层”的所有固体成分而言优选的是30质量％以上。若其他粘合树脂的量为上述范围内，则可将加热压接时的遮光层的熔融粘度维持为层并不过于变软的程度，可保持某种程度的硬度而有效地抑制压接时的气泡的混入。
其他粘合树脂的含量更优选的是10质量％～40质量％，进一步更优选的是20质量％～35质量％。
抗氧化剂：
在转印层2中也可添加抗氧化剂。特别是转印层2的白色层2a优选的是添加有抗氧化剂。抗氧化剂可使用受阻酚系、半受阻酚系、磷酸系、在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂。
受阻酚系化合物可列举艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60(艾迪科(ADEKA)公司制造)。
自抑制着色的观点考虑，抗氧化剂优选的是磷酸系抗氧化剂，例如易璐佛斯(IRGAFOS)168(巴斯夫(BASF)公司制造)。
溶剂：
利用涂布制造转印层2时的溶剂可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]～段落[0044]中所记载的溶剂。
添加剂：
在转印层2中也可使用其他添加剂。添加剂例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]～段落[0071]中所记载的表面活性剂或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂，另外可列举日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]～段落[0071]中所记载的其他添加剂。
-保护膜侧的转印层、白色层-
白色层2a中可含的颜料以外的成分并无特别限制，除了公知的粘合树脂、或在主链具有硅氧烷键的树脂以外，可使用公知的颜料分散稳定剂、公知的涂布助剂等。其中，理想的是白色层2a的色调并未变化、或变为理想的色调的。
自获得本发明的效果的观点考虑，白色层2a中的“在主链具有硅氧烷键的树脂”相对于“颜料以外的成分”的比例优选的是80质量％以上，更优选的是90质量％以上。
在白色层2a中，相对于白色层2a的所有固体成分而言，“在主链具有硅氧烷键的树脂及颜料以外”的成分的含量优选的是30质量％以上。若“在主链具有硅氧烷键的树脂及颜料以外的成分的含量”为上述范围内，则可对白色层2a的色调造成优选的影响。
在白色层2a中，“在主链具有硅氧烷键的树脂及颜料以外”的成分的含量更优选的是30质量％～60质量％，进一步更优选的是35质量％～55质量％，进一步特别优选的是40质量％～50质量％。
-剥离层侧的转印层、遮光层-
遮光层2b中所可使用的“在主链具有硅氧烷键的树脂或颜料以外”的成分与白色层2a中所可使用的分别相同。
自获得本发明的效果的观点考虑，遮光层2b中，“在主链具有硅氧烷键的树脂”相对于“颜料以外的成分”的比例优选的是60质量％以上，更优选的是70质量％以上。
带有转印层的基材优选的是在白色层2a中，“在主链具有硅氧烷键的树脂”相对于“颜料以外的成分”的比例为90质量％以上，且在遮光层2b中，“在主链具有硅氧烷键的树脂”相对于“颜料以外的成分”的比例为70质量％以上。在这种情况下的更优选的范围与白色层2a或遮光层2b中的进一步特别优选的范围、进一步更特别优选的范围相同。
(有色材料层的特性)
-保护膜侧的转印层、白色层-
自用以提高白色层2a的遮蔽能力的观点考虑，优选的是保护膜13侧的转印层2的膜厚为10μm～40μm。
白色层2a的厚度更优选的是15μm～40μm，特别优选的是20μm～38μm。
自用以提高白色层2a的遮蔽能力的观点考虑，白色层2a的光学密度(OpticalDensity，也称为OD)优选的是0.5以上，特别优选的是1.0以上。
-剥离层侧的转印层、遮光层-
转印材料20优选的是转印层2包含至少两层，转印层2中的剥离层12侧的层的光学密度大于保护膜13侧的层的光学密度。转印材料20更优选的是在转印层2中，越是剥离层12侧的层光学密度越大。
自提高上述遮光层的遮蔽能力的观点考虑，转印材料20优选的是转印层2包含至少两层，转印层2中的剥离层12侧的层的光学密度为1.0～6.0，更优选的是3.5～6.0，特别优选的是4.0～6.0。
转印材料20优选的是转印层2包含至少两层，转印层2中的剥离层12侧的层的膜厚为0.5μm～3.0μm，更优选的是1.0μm～3.0μm，特别优选的是1.5μm～3.0μm。
触摸屏10的制造方法中所使用的带有转印层的基材的转印材料20自所述转印材料20的附近朝向基材形成配线或透明导电层，因此优选的是具有充分的表面电阻。具体而言，使用转印材料20而所得的带有转印层的基材的转印层2的表面电阻优选的是1.0×1010Ω/□以上，更优选的是1.0×1011Ω/□以上，进一步更优选的是1.0×1012Ω/□以上，特别优选的是1.0×1013Ω/□以上。
＜保护膜＞
在转印材料20中，为了免受储存时的污染或损伤的影响，优选的是以覆盖有色材料层2a的方式设置保护膜13(也称为覆盖膜)。保护膜13可与临时支撑体11相同或包含类似的材料，但需要比较容易自有色材料层2a分离。作为保护膜13的材料，例如适当的是硅酮纸、聚烯烃膜、聚四氟乙烯片材等。
自更有效地抑制有色材料层2a在显影后产生空白(void)的观点考虑，保护膜13的雾度的最大值优选的是3.0％以下，更优选的是2.5％以下，进一步更优选的是2.0％以下，特别优选的是1.0％以下。
保护膜13的厚度优选的是1μm～100μm，更优选的是5μm～50μm，特别优选的是10μm～30μm。若所述厚度为1μm以上，则保护膜13的强度充分，因此在将所述保护膜13贴合于感光性树脂层上时，保护膜13难以破断。若为100μm以下，则保护膜13的价格并不高，而且在层压保护膜13时难以产生皱褶。
至于此种保护膜13，市售的例如可列举王子制纸股份有限公司制造的阿尔凡(ALPHAN)MA-410、E-200C、E-501、信越膜股份有限公司制造等的聚丙烯膜、帝人股份有限公司制造的PS-25等PS系列等聚对苯二甲酸乙二酯膜等。另外，保护膜13并不限定于这些。而且，保护膜13也可通过对市售的膜进行喷砂加工而制造。
保护膜13可优选地使用聚乙烯膜等聚烯烃膜。通常情况下，用作保护膜13的聚烯烃膜可对原材料进行热熔融，通过混练、挤出、双轴延伸、浇铸或膨胀法而制造。
保护膜13优选的是聚丙烯膜。
以上，对转印材料20进行了说明，所述转印材料20可视需要为负型材料或正型材料。
[转印材料的制造方法]
转印材料20的制造方法包含以下的(1)～(3)的步骤。
(1)准备具有剥离层12的临时支撑体11。
(2)在临时支撑体11的剥离层12侧形成转印层2。
(3)在转印层2侧贴合保护膜13(贴合)。
作为制造转印材料20的方法，除了包含上述(1)～(3)的步骤以外并无特别限定，例如可通过日本专利特开2005-3861号公报的段落[0064]～段落[0066]中所记载的步骤而制造。而且，转印材料20例如也可利用日本专利特开2009-116078号公报中所记载的方法而制成。
(1)准备具有剥离层12的临时支撑体的步骤
转印材料20的制造方法包含(1)准备具有剥离层12的临时支撑体11的步骤。
准备具有剥离层12的临时支撑体11的方法并无特别限制，也可商业性获得公知的带有剥离层12的临时支撑体11。
(2)在临时支撑体11的剥离层12侧形成转印层2的步骤
转印材料20的制造方法包含(2)在临时支撑体11的剥离层12侧形成转印层2的步骤。
作为在临时支撑体11的剥离层12侧形成转印层2的步骤的一例，可列举在具有剥离层12的临时支撑体1上涂布树脂组合物，使其干燥而形成转印层2的步骤。
转印材料20也可至少形成白色层2a及遮光层2b这两层而作为转印层2。在这种情况下，转印材料20也可使用在临时支撑体11上依序层叠剥离层12、白色层2a及遮光层2b而成的。根据所述形态，将转印材料20转印至被转印基材上，由此可在所述被转印基材上同时设置作为白色装饰材的白色层2a与作为遮光材的遮光层2b，因此在步骤上而言优选。
或者，也可使用形成白色层2a及遮光层2b中的至少一层作为转印层2的。在这种情况下，将包含临时支撑体11、剥离层12及白色层2a的转印材料20转印至被转印基材上之后，将所述临时支撑体11除去，在所述白色层2a上转印包含临时支撑体11及遮光层2b的转印材料20。
只要不违反本发明的主旨，则转印材料20也可进一步形成其他层。
在临时支撑体11上涂布转印层2形成用组合物的方法可使用公知的涂布方法。例如可通过使用旋转器、旋转机(whirler)、辊涂机、帘幕式涂布机、刮刀涂布机、线棒涂布机、挤压机等涂布机，涂布这些涂液，使其干燥而形成。
-溶剂-
用以形成转印材料20的转印层2的感光性组合物可使用所述感光性组合物中所含的各成分以及溶剂而适宜地制备。
溶剂可列举：
酯类，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、乙酸异丁酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、烷基酯类、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、以及3-氧基丙酸甲酯及3-氧基丙酸乙酯等3-氧基丙酸烷基酯类(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯)、以及2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、及2-氧基丙酸丙酯等2-氧基丙酸烷基酯类(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯)、以及丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；
醚类，例如二乙二醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；
酮类，例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等；
芳香族烃类，例如甲苯、二甲苯；
等。
这些中，优选的是甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二甲苯、环己酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯等。
溶剂可单独使用，也可将两种以上组合使用。
(3)在转印层2侧贴合保护膜13的步骤
转印材料20的制造方法包含(3)在转印层2侧贴合保护膜13的步骤。
利用保护膜13覆盖转印层2的方法并无特别限定，可使用在临时支撑体11上的转印层2上重叠保护膜13，进行压接的方法。
压接可使用层压机、真空层压机、及可进一步提高生产性的自动切割层压机等公知的层压机。
压接的条件优选的是环境温度为40℃～130℃、线压为1000N/m～10000N/m。在环境温度及线压中的至少任意的低于上述范围的情况下，存在层压时所卷入的空气未能自被转印基材与转印层2之间充分地挤出的可能性。而且，在环境温度高于上述范围的情况下，存在转印层2由于热而硬化，从而成为欠佳的形态的可能性。在线压高于上述范围的情况下，存在转印层2变形的可能性。
[带有转印层的基材、带有转印层的基材的制造方法]
带有转印层的基材的制造方法的特征在于使用转印材料20，且包含以下步骤。
(11)自转印材料20剥离保护膜13。
(12)将转印材料20的转印层2侧转印至玻璃基材101a、或膜基材101b上。
(13)自转印层2同时剥离剥离层12与临时支撑体11。
以下，对带有转印层的基材及其制造方法的优选形态加以说明。
＜带有转印层的基材的特性＞
带有转印层的基材中的“装饰材”是表示白色层2a与遮光层2b的层叠体。在仅仅将白色层2a转印至被转印基材上的情况下，光学密度低。因此，在将此种形态的带有转印层的基材用作显示装置的基材时，存在发现显示装置漏光或看见电路透出的情况。在带有转印层的基材中，可通过设为自基材(膜或玻璃)侧依序包含白色层2a及遮光层2b的构成而抑制漏光等。
带有转印层的基材的光学密度优选的是3.5～6.5，更优选的是4.0～6.0，特别优选的是4.5～5.5。另外，光学密度可以各层的合计的形式求出。在超过可利用光学密度计而测定的光学密度的上限的情况下，将遮光层2b的光学密度与白色层2a的光学密度合计而作为带有转印层的基材的光学密度。例如，在利用光学密度计而仅仅测定至6.0的情况下，分别测定遮光层单独部分为5.5的光学密度、白色层单独部分为1.0的光学密度，将两者的光学密度的合计6.5作为带有转印层的基材的光学密度。
＜被转印基材＞
带有转印层的基材中所使用的被转印基材包含玻璃、或选自TAC、PET、PC或COP的膜。所述被转印基材优选的是膜基材101b，更优选的是使用并不光学应变的、或透明度高的。在带有转印层的基材中，被转印基材优选的是总透光率为80％以上。
膜基材101b的具体的原材料可列举聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯(PC)、三乙酰纤维素(TAC)、环烯烃聚合物(COP)等。
被转印基材也可为玻璃基材101a。
在带有转印层的基材中，被转印基材优选的是玻璃、或包含COP的膜。
也可对被转印基材的表面附加各种功能。具体而言可列举：抗反射层、防眩层、相位差层、视角提高层、耐伤层、自我修复层、抗静电层、防污层、防电磁波层、导电性层等。
在带有转印层的基材中，被转印基材优选的是在所述被转印基材表面具有导电性层。导电性层可优选地使用日本专利特表2009-505358号公报中所记载的。
优选的是被转印基材进一步至少包含耐伤层及防眩层中的至少一个。
在带有转印层的基材中，被转印基材的膜厚优选的是40μm～200μm，更优选的是40μm～150μm，特别优选的是50μm～120μm。
而且，为了提高利用转印步骤中的层压的转印层2的密接性，可预先对被转印基材(前面板)的非接触面实施表面处理。表面处理优选的是实施使用硅烷化合物的表面处理(硅烷偶合处理)。硅烷偶合剂优选的是具有与感光性树脂相互作用的官能基。例如，通过喷淋而吹附硅烷偶合液(N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名：KBM603、信越化学股份有限公司制造)20秒，进行纯水喷淋清洗。其后，通过加热使其反应。也可使用加热槽，也可使用层压机的被转印基材预热而促进反应。
-将转印材料形成为所期望的形状的步骤-
带有转印层的基材的制造方法也可在(11)自转印材料20剥离保护膜13的步骤之前包含将转印材料20形成为所期望的形状的步骤。作为将转印材料20形成为所期望的形状的方法，并无特别限制，优选的是相对于包含临时支撑体11、剥离层12及转印层2的转印材料20而言，切出至少在厚度方向上贯通转印层2的深度、且在面内方向具有直线部分的切口。切口的深度并无特别限制。
优选的是以在面内方向上具有4处以上直线部分(本说明书中，“直线部分”表示直线状的部分，与线段同义)的方式切出转印材料20上的切口。另外，转印材料20上的切口也可由“大半径的圆弧”或“正弦波”而构成，但本发明的制造方法特别是在切出具有直线部分的切口时有用。
本发明的制造方法中，切出转印材料20中的切口的方法并无特别限制，优选的是利用选自汤姆生刀(Thomsonblade)加工或激光光加工的方法切出。
作为转印材料20中的切口的深度，可以(A-1)切出转印材料20中的切口直至在厚度方向上贯通转印材料20的所有层的深度，也可以(A-2)切出贯通着色层，且并不贯通临时支撑体11的深度的切口。
也将(A-1)切出转印材料20中的切口直至在厚度方向上贯通转印材料20的所有层的深度称为冲裁。另外，在通过(A)步骤而进行冲裁的情况下，优选的是与后述的(B)自转印材料20的面内方向的一部分区域切除直至切口深度的转印层2的步骤同时进行。另外，也将同时进行冲裁与转印层的除去称为“截去”。
另一方面，也将(A-2)切出贯通着色层，且并不贯通临时支撑体11的深度的切口称为半切穿。
这些中优选的是(A-1)切出转印材料20中的切口直至在厚度方向上贯通转印材料20的所有层的深度。
(冲裁方法)
转印材料20的冲裁可使用公知的方法。
机械式冲裁方法例如可列举利用汤姆生刀的平切、利用模切辊的旋切。
光学式冲裁方法可列举CO2激光切割器。
而且，可为单片式也可为连续式(卷对卷式)。
机械式冲裁方法中所使用的装置例如可列举库莱姆产品(CLIMBPRODUCTS)股份有限公司制造的L-CPNC550等。
(半切穿方法)
在半切穿方法中，切出切口的方法并无特别限制，可利用刀、激光等任意方法而切出切口。半切穿方法优选的是利用刀切出切口。而且，刀的结构并无特别限定。
例如，可如图13所示那样，使用刀30或激光，自保护膜13之上切出贯穿所述保护膜13、转印层2及剥离层12，直至临时支撑体11的一部分的切口，由此将所转印的转印层2(图像部)与未转印的转印层2(非图像部)之间分离。
-(11)自转印材料20剥离保护膜13的步骤-
带有转印层的基材的制造方法包含自转印材料20剥离保护膜13的步骤。
在图11中表示自转印材料20剥离保护膜13的方法。剥离保护膜13的具体的方法并无特别限制。转印材料20在自所述转印材料20剥离保护膜13的步骤中，自转印材料20剥下保护膜13时，所述保护膜13自转印层2剥离，且转印层2残留于剥离层12侧。
-(12)将转印材料20的转印层2侧转印至前面板1上的步骤-
带有转印层的基材的制造方法包含将转印材料20的转印层2侧转印至被转印基材(玻璃基材101a或膜基材101b)上的步骤。所谓“转印材料20的转印层2侧”是表示自转印材料20剥离保护膜13之后，在所述转印材料20的表面所露出的转印层2侧。
在图12中表示由转印材料20，将转印层2(白色层2a)侧转印至前面板1上的方法。
带有转印层的基材的制造方法优选的是将至少包含临时支撑体11、剥离层12、遮光层2b及白色层2a的转印材料20转印至前面板1上。
带有转印层的基材的制造方法也可将两个转印材料20转印至前面板1上。例如，也可通过将包含临时支撑体11、剥离层12及遮光层2b的转印材料20，与依序包含临时支撑体11、剥离层12及白色层2a的转印材料20转印至前面板1上，而形成白色层2a及遮光层2b。
或者，也可将包含临时支撑体11、剥离层12及白色层2a的转印材料20转印至前面板1上，然后将所述临时支撑体11除去，其次将包含临时支撑体11、剥离层12及遮光层2b的转印材料20转印至白色层2a上，由此而形成白色层2a及遮光层2b。
自维持转印层2的形态的观点考虑，将所述转印层2转印至前面板1上时所述前面板1的温度优选的是40℃～130℃，更优选的是40℃～110℃，特别优选的是40℃～100℃。
转印层2在前面板1表面的转印(贴合)优选的是通过如下方式而进行：将所述转印层2重叠于前面板1的表面上，进行加压及加热。贴合可使用层压机、真空层压机、及可进一步提高生产性的自动切割层压机等公知的层压机。
层压方法是将冲裁的转印材料20转印至前面板1上。因此，自精度良好、在前面板1与转印材料20之间并不进入气泡，提高收率的观点考虑，优选的是单片式。
将转印层2转印至前面板1的表面的方法优选的是真空层压机。
层压(连续式及单片式)中所使用的装置例如可列举库莱姆产品(CLIMBPRODUCTS)股份有限公司制造的V-SE340aaH等。
真空层压机装置例如可列举高野精机有限公司制造的装置、或大成层压机股份有限公司制造的FVJ-540R、FV700等。
自抑制在层压时浸入气泡的观点考虑，优选的是进一步包含在将转印材料20贴附于前面板1上之前，在临时支撑体11的与转印层2的相反侧层叠支撑体的步骤。此时所使用的支撑体并无特别限制，例如可列举以下的。
聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素、环烯烃聚合物。
而且，膜厚可在50μm～200μm的范围内选择。
-(13)自转印层2同时剥离剥离层12与临时支撑体11的步骤-
带有转印层的基材的制造方法包含自转印层2同时(同步)剥离剥离层12与临时支撑体11的步骤。通过剥下临时支撑体11而所述临时支撑体11及剥离层12自转印层2剥离。
在图12中表示自转印层2的遮光层2b同时剥离剥离层12与临时支撑体11的步骤。
层压后，自转印材料20剥离剥离膜的剥离力(自转印层2剥离剥离层12的剥离力)优选的是400mN/m以下。若为400mN/m以下，则在剥下剥离膜时，在所述剥离膜上贴附粘着带，将剥离膜连同粘着带一起剥下，由此而不对转印层2产生无用的影响。
在超过400mN/m的情况下，在剥下剥离膜时，例如需要在转印层2与剥离膜之间插入薄的刀具或冶具而剥下，此时，存在损伤转印层2的可能性。而且，存在如下现象：在转印层2附有粘附(sticking)等的痕迹，对转印层2的品质造成欠佳的影响。
-后烘烤步骤-
优选的是在转印步骤后包含后烘烤步骤。
自兼顾白度与生产性的观点考虑，转印材料20的制造方法优选的是将转印材料20的白色层2a及遮光层2b在0.08atm～1.2atm的环境下加热至180℃～300℃而形成。
后烘烤的加热更优选的是在0.5atm以上的环境下进行，进而优选的是在1.1atm以下的环境下进行，特别优选的是在1.0atm以下的环境下进行。自并不使用特别的减压装置而可减低制造成本的观点考虑，进一步特别优选的是在约1atm(大气压)环境下进行。现在，在通过加热而硬化形成白色层2a及遮光层2b的情况下，在压力非常低的减压环境下进行，使氧浓度变低，由此维持烘烤后的白度。相对于此，通过使用转印材料20，即使在上述压力的范围内进行烘烤后，也可改善带有转印层的基材的白色层2a及遮光层2b的色调(使b值变小)，提高白度。
后烘烤的温度更优选的是200℃～280℃，特别优选的是220℃～260℃。
后烘烤的时间更优选的是20分钟～150分钟，特别优选的是30分钟～100分钟。
后烘烤可在空气环境下进行，也可在氮气置换环境下进行。自可并不使用特别的减压装置而减低制造成本的观点考虑，特别优选的是在空气环境下进行后烘烤。
-其他步骤-
转印材料20的制造方法也可包含后曝光步骤等其他步骤。
在转印层2包含光硬化性树脂的情形下，优选的是在形成白色层2a及遮光层2b时包含后曝光步骤。后曝光步骤可仅仅自白色层2a及遮光层2b的与基材相接的侧的表面方向进行，也可仅仅自并不与前面板1相接的侧的表面方向进行，也可自两个面的方向进行。
另外，作为曝光步骤及其他步骤的例子，也可将日本专利特开2006-23696号公报的段落编号[0035]～段落编号[0051]中所记载的方法适宜地用于本发明中。
[触摸屏、触摸屏的制造方法]
触摸屏10包含带有转印层的基材。
触摸屏10优选的是静电电容型输入装置。
触摸屏10的制造方法的特征在于使用带有转印层的基材，包含以下的步骤。
(21)在带有转印层的基材的转印层2侧形成导电性层。
(22)将导电性层的一部分除去，形成电极图案。
(21)在带有转印层的基材的转印层2侧形成导电性层的步骤
带有转印层的基材优选的是在遮光层2b上进一步包含导电性层。
导电性层可优选地使用日本专利特表2009-505358号公报中所记载的。
(22)将导电性层的一部分除去，形成电极图案的步骤
关于导电性层的构成、将所述导电性层的一部分除去而形成电极图案的步骤、将导电性层的一部分除去而形成的电极图案形状，作为第一透明电极图案3、第二电极图案4及第三导电性层6的说明而后述。
带有转印层的基材优选的是导电性层包含铟(包含氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)或铟合金等含有铟的化合物)。
带有转印层的基材在高温处理后的白色层2a的b值小的情况下，即使在利用溅镀而蒸镀形成导电层的情况下，也可使所得的带有装饰的基材的白色层2a的b值变小。
《触摸屏10、及包含触摸屏10作为构成要素的信息输入装置》
触摸屏10优选的是包含带有转印层的基材，上述带有转印层的基材包含作为前面板1的前面板，在所述前面板的非接触侧(在图1A及图1B中为上侧)至少包含下述(31)～(34)的要素。
(31)包含遮光层2b及白色层2a的装饰材
(32)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸所形成的多个第一导电性层(第一透明电极图案3)
(33)与第一透明电极图案3电绝缘，在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二导电性层(第二电极图案4)
(34)使第一透明电极图案3与第二电极图案4电绝缘的绝缘层5
第二电极图案4也可为透明电极图案。
触摸屏10还可进一步包含下述(35)。
(35)与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个电性连接，与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的导电性要素即第三导电性层6(以下，有时简称为“导电性要素6”)
触摸屏10更优选的是包含带有转印层的基材，上述带有转印层的基材是包含前面板、(31)包含遮光层2b及白色层2a的装饰材、作为导电性层的(32)、(33)及(35)中的至少一个电极图案的层叠体。
＜触摸屏10的构成＞
首先，对触摸屏10的构成加以说明。图1A及图1B是表示触摸屏10的优选构成的剖面图。在图1A中，触摸屏10包含玻璃基材101a、白色层2a、遮光层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、透明保护层7。
优选的是前面板包含透光性基材。透光性基材可使用在玻璃基材101a上设有装饰材的构成(参照图1A)、或依序层叠玻璃基材101a、膜基材101b，在所述膜基材101b上设有装饰材的构成(参照图1B)的任意构成。自触摸屏10的薄型化的观点考虑，优选的是在玻璃基材101a上设有装饰材的构成。自触摸屏10的生产性的观点考虑，优选的是在膜基材101b上设置装饰材，将其贴合于盖玻璃101a上的构成。
在膜基材101b的电极的相反侧还可进一步设置玻璃基材101a。玻璃基材101a可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。而且，将相对于前面板1而设有各要素的侧(在图1A及图1B中为上侧)称为“非接触面1a”。在触摸屏10中，通过使手指等与前面板1的接触面(非接触面1a的相反的面，在图1A及图1B中为下侧)接触而输入规定的指示。
在前面板1的非接触面1a上设有白色层2a与遮光层2b作为装饰材。装饰材是在触摸屏10的前面板的非接触侧所形成的显示区域周围的边框状的图案。以看不到引绕配线等为目的、或以装饰为目的而形成装饰材。
在触摸屏10上也可设置配线取出口(未图示)。在使用装饰材形成用液体抗蚀剂或丝网印刷墨水而形成装饰材的情况下，存在如下现象：产生抗蚀剂成分自配线取出部漏出、或抗蚀剂成分自装饰材的玻璃端渗出，从而污染前面板1的背面侧。相对于此，在使用转印材料20而形成装饰材的情况下，可抑制抗蚀剂成分的漏出或渗出，防止基材背面侧的污染。
在前面板1的非接触面1a上形成有多个第一透明电极图案3、多个第二电极图案4、绝缘层5。第一透明电极图案3是多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成。第二透明电极图案4与第一透明电极图案3电绝缘，包含在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的多个垫部分。绝缘层5使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘。
第一透明电极图案3、第二电极图案4、导电性要素6例如可利用氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)或氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)等透光性导电性金属氧化膜而制作。此种金属膜可列举ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等金属膜；SiO2等金属氧化膜等。
各要素的膜厚可设为10nm～200nm。进行煅烧使非晶形的ITO膜成为多结晶的ITO膜，由此也可减低电阻。而且，第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、导电性要素6也可使用包含利用导电性纤维的光硬化树脂层的转印膜而制造。其他，利用ITO等形成第一导电性图案等的情况下，可以日本专利第4506785号公报的段落[0014]～段落[0016]等为参考。
第一透明电极图案3及第二电极图案4的至少一个可横跨前面板1的非接触面1a、及遮光层2b的非接触侧(在图1A及图1B中为上侧)的面、这两个区域而设置。
在图1A及图1B中，横跨前面板1的非接触面1a、及遮光层2b的非接触侧的面、这两个区域而设置第二电极图案4，第二透明电极图案4覆盖白色层2a的侧面。
也可使白色层2a的宽度比遮光层2b的宽度窄。在这种情况下，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个可横跨前面板1的非接触面1a、白色层2a及遮光层2b的非接触侧的面的区域而设置。
如上所述，即使在横跨需要一定厚度的包含白色层2a及遮光层2b的装饰材、前面板1的背面而层压转印膜的情况下，通过使用转印材料20(特别是包含后述的热塑性树脂层的转印材料)，即使不使用真空层压机等昂贵的设备，也可通过简单的步骤而抑制在装饰材的部分边界产生泡。
-热塑性树脂层-
导电性层等的形成中所使用的转印膜可包含至少一层热塑性树脂层。优选的是将热塑性树脂层设于临时支撑体与光硬化树脂层之间。也即，优选的是上述转印膜依序包含临时支撑体、热塑性树脂层及光硬化树脂层。
作为热塑性树脂层中所使用的成分，优选的是日本专利特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质，特别优选的是选自维卡(Vicat)法(具体而言为美国材料试验法ASTMD1235的聚合物软化点测定法)的软化点为约80℃以下的有机高分子物质。
作为热塑性树脂层中所使用的成分，具体而言可列举聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物这样的乙烯系共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物、聚氯乙烯、氯乙烯与乙酸乙烯酯及其皂化物这样的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物这样的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯或其皂化物这样的乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙这样的聚酰胺树脂等有机高分子。
热塑性树脂层的厚度优选的是6μm～100μm，更优选的是6μm～50μm。若热塑性树脂层的厚度为6μm～100μm的范围，则即使在基材上存在凹凸的情况下，也可吸收所述凹凸。
-中间层-
导电性层等的形成中所使用的转印膜可根据防止涂布多个涂布层时、及涂布后的保存时的成分混合的目的而包含至少一层中间层。中间层优选的是设于临时支撑体与有色材料层之间(在包含热塑性树脂层的情况下，设于热塑性树脂层与光硬化树脂层之间)。也即，优选的是上述转印材料依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、中间层及光硬化树脂层。
作为中间层，优选的是使用在日本专利特开平5-72724号公报中记载为“分离层”的具有隔氧功能的隔氧膜，在这种情况下，曝光时感度提高，曝光机的时间负载减低，生产性提高。
隔氧膜优选的是显示低的透氧性，分散或溶解于水或碱性水溶液的，可自公知的中适宜选择。这些中特别优选的是聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮的组合。
中间层的厚度优选的是0.1μm～5.0μm，更优选的是0.5μm～2.0μm。若为0.1μm～5.0μm的范围，则隔氧能力并不降低，且显影时或除去中间层时并不过度花费时间。
-除去热塑性树脂层的步骤、除去中间层的步骤-
另外，在导电性层等的形成中所使用的转印膜包含热塑性树脂层或中间层的情况下，优选的是包含将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。
将热塑性树脂层与中间层除去的步骤一般可使用光刻方式中所使用的碱性显影液而进行。碱性显影液并无特别制约，可使用日本专利特开平5-72724号公报中所记载的等公知的显影液。显影液优选的是进行装饰材溶解型的显影举动的，例如优选的是以0.05mol/L～5mol/L的浓度包含pKa＝7～13的化合物的。在显影液中还可进一步添加少量与水具有混合性的有机溶剂。与水具有混合性的有机溶剂可列举甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。所述有机溶剂的浓度优选的是0.1质量％～30质量％。
而且，在上述碱性显影液中可进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选的是0.01质量％～10质量％。
作为将热塑性树脂层与中间层除去的步骤的方式，可为覆液、喷淋、喷淋&旋涂、浸渍等的任意的。通过喷淋而吹附显影液，由此可将热塑性树脂层或中间层除去。而且，优选的是在显影后，通过喷淋吹附清洗剂等，一面用刷子等进行擦拭，一面将残渣除去。液体温度优选的是20℃～40℃，而且，pH优选的是8～13。
在图1A及图1B中，在遮光层2b的非接触侧的面设置有导电性要素6。导电性要素6与第一透明电极图案3及第二电极图案4的至少一个电性连接，是与第一透明电极图案3及第二电极图案4不同的要素。在图1A及图1B中，导电性要素6与第二电极图案4连接。
在图1A及图1B中，以覆盖各构成要素整体的方式设置透明保护层7。也可以仅仅覆盖各构成要素的一部分的方式设置透明保护层7。透明保护层7与绝缘层5可为同一材料，也可为不同材料。构成透明保护层7与绝缘层5的材料优选的是表面硬度、耐热性高的，可使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。
触摸屏10、及包含所述触摸屏10作为构成要素的信息输入装置可应用《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行，科技时代(TechnoTimes)股份有限公司)、三谷雄二主编、《触摸屏的技术与开发》、CMC出版(2004，12)、2009年国际平面显示器论坛(FPDInternational2009Forum)T-11讲座教材、赛普拉斯半导体公司(CypressSemiconductorCorporation)应用注解AN2292等中所揭示的构成。
[信息显示装置]
信息显示装置包含触摸屏10。
使用触摸屏10的信息显示装置优选的是移动机器，例如可列举以下的信息显示装置。
爱疯(iPhone)4、艾派德(iPad)(以上由美国苹果公司制造)、索爱(Xperia)(SO-01B)(索尼爱立信移动通讯公司制造)、盖世(Galaxy)S(SC-02B)、盖世泰博(GalaxyTab)(SC-01C)(以上由韩国三星电子公司制造)、黑莓(BlackBerry)8707h(加拿大移动研究公司(ResearchInMotion)制造)、刊德(Kindle)(美国亚马逊公司制造)、库伯塔奇(KoboTouch)(乐天股份有限公司制造)。
[实施例]
以下，列举实施例对本发明加以更具体的说明。下述实施例中所示的材料、试剂、比例、机器、操作等只要不偏离本发明的范围则可以加以适宜变更。本发明并不限定于以下所示的实施例。另外，在下述实施例中，只要无特别说明，则“％”及“份”均是质量基准，分子量表示重量平均分子量。
[实施例1～实施例8及比较例2]
＜黑色着色液及白色着色液的制备＞
制备黑色着色液1、黑色着色液2及白色着色液1～白色着色液3。将黑色着色液1、黑色着色液2及白色着色液1～白色着色液3的组成表示于下述表1中。
[表1]
黑色着色液1 黑色着色液2 白色着色液1 白色着色液2 白色着色液3
黑色分散液1 252 194
白色分散液 167 145 314
硅酮树脂用液1 89.7
硅酮树脂用液2 74.8
硅酮树脂用液3 786 786
硅酮树脂用液4 17.5 17.5
聚合催化剂 13.0 6.99 7.24
抗氧化剂 0.30 0.29
涂布助剂 0.24 0.48 1.20 1.16 2.00
丙烯酸系树脂溶液 88.7 358
丙烯酸系单体溶液 39.0 112
光聚合引发剂 0.44 11.2
聚合抑制剂 0.05 0.15
有机溶剂1 245 326
有机溶剂2 325 263 20.6 13.8 203
有机溶剂3 87.9
干燥膜厚 2.0 2.0 34 34 35
光学密度 4.5 4.5 1.1 1.1 1.0
·黑色分散液(GB4016、山阳色素股份有限公司制造、下述组成)
黑色颜料(碳黑)25.0质量％
分散助剂9.5质量％
分散溶剂(丙二醇单甲醚乙酸酯)65.5质量％
·白色分散液(FP白(FPWhite)B422、山阳色素股份有限公司制造、下述组成)
白色颜料(二氧化钛)70.0质量％
分散助剂3.5质量％
分散溶剂(甲基乙基酮)26.5质量％
·硅酮树脂溶液1(KR300、信越硅利光股份有限公司制造、下述组成)
硅酮树脂的二甲苯溶液(固体成分为50质量％)
·硅酮树脂溶液2(KR311、信越硅利光股份有限公司制造、下述组成)
硅酮树脂的二甲苯溶液(固体成分为60质量％)
·硅酮树脂溶液3(KR251、信越硅利光股份有限公司制造、下述组成)
硅酮树脂的二甲苯溶液(固体成分为20质量％)
·硅酮树脂溶液4(X-40-9246、信越硅利光股份有限公司制造、下述组成)硅酮树脂(固体成分为100质量％)
·聚合催化剂(D-15、信越化学股份有限公司制造、下述组成)
含有锌的催化剂的二甲苯溶液(固体成分为50质量％)
·抗氧化剂(易璐佛斯(IRGAFOS)168、巴斯夫公司制造、下述化合物)
[化1]
·涂布助剂(美佳法(Megafac)F-780F、迪爱生(DIC)股份有限公司制造、下述组成)
表而活性剂30质量％
甲基乙基酮70质量％
·丙烯酸系树脂溶液(下述组成)
甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸无规共聚物
(摩尔比为78/22、重量平均分子量为38,000)27质量％
丙二醇单甲醚乙酸酯73质量％
·丙烯酸系单体溶液(日本化薬股份有限公司制造、下述组成)
二季戊四醇六丙烯酸酯76质量％
丙二醇单甲醚乙酸酯24质量％
·聚合引发剂(IRGACUREOXE01、巴斯夫公司制造、下述化合物)
[化2]
·聚合抑制剂(吩噻嗪、下述化合物)
[化3]
·有机溶剂1(丙二醇单甲醚乙酸酯)
·有机溶剂2(甲基乙基酮)
·有机溶剂3(环己酮)
＜剥离膜的准备＞
作为带有剥离层的临时支撑体，准备以下的剥离膜。
·尤尼匹鲁(Unipeel)TR6(尤尼吉可股份有限公司制造、在厚度为75μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起200nm的烯烃系剥离层)
·6502(琳得科股份有限公司制造、在厚度为50μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起320nm的非硅酮系剥离层)
·塞拉匹鲁(Cerapeel)BLK(东丽膜加工股份有限公司制造、在厚度为50μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起200nm的非硅酮系剥离层)
·HP-A5(富士夸股份有限公司、在厚度为75μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起400nm的非硅酮系剥离层)
·费穆巴纳(FILMBYNA)NSD(藤森工业股份有限公司、在厚度为50μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起270nm的非硅酮系剥离层)
·东洋纺酯膜TN110(东洋纺绩股份有限公司制造、在厚度为75μm的PET膜上包含消光剂自剥离层隆起320nm的硅酮系剥离层)
＜保护膜的准备＞
其次，准备以下的保护膜。
·阿尔凡(ALPHAN)E-501(王子艾弗泰克斯(F-Tex)股份有限公司制造、厚度为12μm的聚丙烯膜)
＜在临时支撑体上制作有色材料层(包含遮光层及白色层的转印层)＞
使用E型涂布机，在带有剥离层的临时支撑体的剥离层上，以干燥厚度成为2.0μm的方式涂布用以形成遮光层的上述表1中所记载的黑色着色液1或黑色着色液2，使其干燥。
在遮光层上，以干燥厚度成为32.0μm的方式涂布用以形成白色层的上述表1中所记载的白色着色液1～白色着色液3的任意的，使其干燥。
在白色层上压接上述保护膜，制作临时支撑体宽度为260mm、转印层为240mm、涂布长度为20m的转印材料。具体的层的构成如下述表2所示。将所得的转印材料作为实施例1～实施例8及比较例2的转印材料。
＜利用膜转印法制作带有转印层的基材＞
对如图2所示的形成有开口部8(15mmΦ)的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)一面通过喷淋吹附20秒调整为25℃的玻璃清洗剂液，一面用具有尼龙毛的旋转刷进行清洗。将所述玻璃基板在基材预热装置中、90℃下进行2分钟的预热。
将实施例1～实施例8及比较例2的转印材料成形为与玻璃基板的四个边对应的尺寸的边框状后，转印至上述玻璃基板上。详细如下所示。
以一边成为98mm、另外边框宽度成为10mm的方式对转印材料进行冲裁。准备一边为120mm、厚度为100μm的PET片材。以所述PET片材的中心为基准，以一边成为90mm的方式涂布粘着剂SK-达因(SK-Dyne)1604N(综研化学股份有限公司)，形成粘着膜。继而，在所述PET片材上贴附所冲裁的转印材料的临时支撑体侧。与其分开地准备一边为70mm、厚度为50μm的PET片材，以粘着膜的粘着剂并不影响贴附转印材料的范围外的方式贴附所述PET片材。其次，自转印材料除去保护膜。其次，准备一边为100mm的玻璃基板。使用层压装置，自贴附有转印材料的PET片材侧，将所述转印材料连同粘着膜转印至玻璃基板上。将转印材料转印至玻璃基板上时的玻璃基板的温度为40℃。其次，将临时支撑体连同粘着片自玻璃片材除去。
如上所述而获得带有转印层的玻璃基板。
＜带有转印层的基材的制作＞
其次，进行假设为ITO溅镀的280℃、30分钟的加热，获得依序层叠有玻璃基板、白色层、遮光层的实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材。
＜剥离力的测定＞
(1)自转印层剥离保护膜的步骤
利用以下方法测定保护膜与转印层(白色层)之间的剥离力。将其结果记载于下述表2中。
准备一边为100mm的玻璃基板。将一边为90mm的转印材料以保护膜成为空气侧的方式，使用双面接着带No.5610(日东电工股份有限公司制造)而将临时支撑体侧贴附于玻璃基板上。将保护膜的一部分剥离，使用数字负载机/拉伸压缩试验机SV-55(今田制作所股份有限公司制造)测定剥离力。
(2)将转印层转印至被转印基材(玻璃基板)上，剥离临时支撑体的步骤
利用以下方法测定被转印基材(玻璃基板)与转印层(白色层)之间的剥离力。将其结果记载于下述表2中。
准备一边为100mm的玻璃基板。准备一边为90mm的转印材料。自转印材料剥下保护膜后，将转印层设为玻璃基板侧，层压在40℃的玻璃基板上。自层压的转印材料将临时支撑体的一部分剥离，使用滕喜龙(TENSILON)万能试验机RTG-1210(A&D股份有限公司制造)而测定剥离力。
＜评价＞
(遮光层的品质)
关于所得的实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材，将有色材料层转印至基材上，通过目视评价将保护膜及剥离层剥离后的遮光层的品质。
将有色材料层的转印性良好，并无有色材料层的剥离，且剥离层并不残留于有色材料层侧(无需显影步骤)的情况评价为“良好”。
另一方面，有色材料层的转印性存在问题、或有色材料层剥离、剥离层残留于有色材料层侧的情况(需要显影步骤的情况)的任意情况均在实用上存在问题。
将评价的结果表示于下述表2中。
(光学密度)
使用阪田油墨(SakataInx)股份有限公司制造的BMT-1测定上述所制作的实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材的转印层(遮光层与白色层)与被转印基材的层叠体的光学密度。
将评价的结果表示于下述表2中。
(遮光层上的表面电阻)
使用爱德万测试(Advantest)股份有限公司制造的R8340A超高电阻计(ULTRAHIGHRESISTANCEMETER)测定上述所制作的实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材的遮光层上的表面电阻。
可知实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材的遮光层的表面电阻在25℃下为1.0×1013Ω/□以上。
(表面元素分析)
为了确认在上述所制作的实施例1～实施例8及比较例2的带有转印层的基材的遮光层上并未残留剥离层，对于转印材料的状态下的剥离层的表面、与转印层剥离后的剥离层的表面，使用X射线光电子分光分析装置(AXIS-HSi、岛津制作所股份有限公司制造)而进行元素分析。
将结果表示于下述表2中。
另外，在实施例1中，在转印材料的状态(剥离前)的剥离层的表面确认到O、N、C，在剥离转印层后的剥离层的表面确认到O、N、C、Si。这表示在将转印层剥离后，剥离层处于临时支撑体侧。
如后所述，在未具有的剥离层的比较例1中，在转印材料的状态下确认临时支撑体的表面元素，在剥离转印层后确认临时支撑体的表面，结果在剥离转印层后，在临时支撑体的表面确认到N、Si。这表示在剥离临时支撑体时，遮光层剥离。
[比较例1]
在并无剥离层的临时支撑体(使用尤尼匹鲁(Unipeel)TR6的并无剥离层的侧的PET)上制作有色材料层(包含遮光层及白色层的转印层)代替剥离膜，除此以外与实施例1同样地进行而制作比较例1的转印材料及带有转印层的基材。
关于所得的转印材料及带有转印层的基材，与实施例1同样地进行各剥离力的测定、与带有转印层的基材的评价。将所得的结果表示于下述表2中。
在下述表2中，比较例1的转印层与被转印基材的光学密度表示由于遮光层剥离而产生光学密度低的部分。
[比较例3及比较例5]
＜带有热塑性树脂层与中间层的临时支撑体的制作＞
利用以下方法而在临时支撑体上形成热塑性树脂层与中间层。
在厚度为75μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜临时支撑体上，使用狭缝状喷嘴涂布包含下述配方H1的热塑性树脂层用涂布液而使其干燥。其次，涂布包含下述配方P1的中间层用涂布液而使其干燥。
(热塑性树脂层用涂布液：配方H1)
·甲醇：11.1质量份
·丙二醇单甲醚乙酸酯：6.36质量份
·甲基乙基酮：52.4质量份
·甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)＝55/11.7/4.5/28.8、分子量＝10万、)：5.83质量份
·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚组成比(摩尔比)＝63/37、重量平均分子量＝1万、)：13.6质量份
·单体1(商品名：BPE-500、新中村化学工业股份有限公司制造)：9.1质量份
·涂布助剂：0.54质量份
另外，热塑性树脂层用涂布液H1的除去溶剂后的120℃的粘度为1500Pa·sec。
(中间层用涂布液：配方P1)
·聚乙烯醇：32.2质量份
(商品名：PVA205、可乐丽股份有限公司制造、皂化度＝88％、聚合度为550)
·聚乙烯吡咯烷酮：14.9质量份
(商品名：K-30、ISP日本股份有限公司制造)
·蒸馏水：524质量份
·甲醇：429质量份
＜转印材料的制作＞
在所得的带有热塑性树脂层与中间层的临时支撑体的中间层上制作有色材料层代替剥离膜，除此以外与实施例1同样地进行而制作比较例3的转印材料及带有转印层的基材。
而且，变更黑色着色液及白色着色液，除此以外与比较例3同样地进行而制作比较例5的转印材料及带有转印层的基材。
关于所得的转印材料及带有转印层的基材，与实施例1同样地进行各剥离力的测定、与带有转印层的基材的评价。将所得的结果表示于下述表2中。
[比较例4]
相对于实施例1而言，设为并无保护膜，除此以外与实施例1同样地进行而制作比较例4的转印材料及带有转印层的基材。
关于所得的转印材料及带有转印层的基材，与实施例1同样地进行各剥离力的测定、与带有转印层的基材的评价。将所得的结果表示于下述表2中。
[表2]
根据上述表2可知：实施例1～实施例8的转印材料的有色材料层的转印性良好，将转印层转印至基材(玻璃基板)上之后自所述基材剥离临时支撑体时并无有色材料层的剥离，且剥离层并不残留于有色材料层侧(在转印层侧并未附着剥离层，临时支撑体与剥离层一体地剥离)。在产生在转印层上的剥离层的剥离残留的情况下(剥离层的一部分并不自转印层剥离而残留于所述转印层的表面的情况下)，变得需要除去所述剥离残留的步骤(例如显影步骤)。相对于此，根据本实施例1～实施例8的转印材料，可抑制剥离层的剥离残留，因此变得无需将所述剥离残留除去的步骤。
另一方面，根据比较例1可知：若使用临时支撑体相对于转印材料(临时支撑体与遮光层之间)的剥离力超出规定的上限值的转印材料，则在剥离临时支撑体时，遮光层自白色层剥离。
根据比较例2可知：若使用剥离层与转印层(遮光层)之间的剥离力小于保护膜与转印层(白色层)之间的剥离力的转印材料，则在保护膜上附有白色层，无法进行所期望的转印。
根据比较例3及比较例5可知：若使用临时支撑体与剥离层之间的剥离力小于剥离层与转印层(遮光层)之间的剥离力的转印材料，则在剥离临时支撑体时，剥离层残留于遮光层上(变得需要显影步骤)。
根据比较例4可知：在未使用保护膜的情况下(无保护膜的情况下)，在临时支撑体的反涂布面附有白色层，无法进行所期望的转印。具体而言，由于不存在保护膜，因此在将比较例4的转印材料制成卷状的情况下，成为转印至被转印基材上的白色层与临时支撑体接触的状态。因此，在转印之前的阶段，白色层的表面变得容易受到来自外部的影响。因此，比较例4的转印材料对于被转印基材的转印变得不良。
[实施例101：触摸屏的制作]
《第一透明电极图案的形成》
＜透明电极层的形成＞
将实施例1～实施例8的带有转印层的基材导入至真空腔室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟∶锡＝95∶5(摩尔比))，利用DC磁控溅镀(条件：基材的温度为250℃、氩气压为0.13Pa、氧气压为0.01Pa)而形成厚度为40nm的ITO薄膜，获得形成有透明电极层的前面板(前面板A)。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。
＜蚀刻用转印膜E1的制备＞
在比较例5的转印材料的制备中，将黑色着色液1替换为包含下述配方E1的蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液，未使用白色着色液1，除此以外与所述比较例5的转印材料的制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、蚀刻用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的蚀刻用转印膜E1。蚀刻用光硬化性树脂层的膜厚为2.0μm。
(蚀刻用光硬化性树脂层用涂布液：配方E1)
·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物
(共聚物组成(质量％)：31/40/29、质量平均分子量为60000、
酸值为163mgKOH/g)：16质量份
·单体1(商品名：BPE-500、新中村化学工业股份有限公司制造)：5.6质量份
·六亚甲基二异氰酸酯的四环氧乙烷单
甲基丙烯酸酯0.5摩尔加成物：7质量份
·在分子中具有1个聚合性基的化合物的环己烷二
甲醇单丙烯酸酯：2.8质量份
·2-氯-N-丁基吖啶酮：0.42质量份
·2，2-双(邻氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基
联咪唑：2.17质量份
·隐色结晶紫：0.26质量份
·吩噻嗪：0.013质量份
·表面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨股份有限公司制造)：0.03质量份
·甲基乙基酮：40质量份
·1-甲氧基-2-丙醇：20质量份
＜第一透明电极图案的形成＞
对上述前面板A进行清洗，层压除去了保护膜的蚀刻用转印膜E1(基材温度：130℃、橡胶辊温度为120℃、线压为100N/cm、搬送速度为2.2m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为200μm，以50mJ/cm2(i射线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％、利用纯水将商品名：T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)而在25℃下进行100秒处理，使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名：T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)而在33℃下进行20秒的处理，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行热塑性树脂层与中间层的残渣除去。继而，进行130℃、30分钟的后烘烤处理，获得形成有白色层、遮光层、透明电极层、及蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(前面板B)。
将前面板B浸渍于放入有ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液。液温为30℃)的蚀刻槽中，进行100秒的处理，将未被蚀刻用光硬化性树脂层覆盖的所露出的区域的透明电极层溶解除去。如上所述而获得带有白色层、遮光层及蚀刻用光硬化性树脂层图案的带有透明电极层图案的前面板(前面板C)。
其次，将前面板C浸渍于放入有抗蚀剂剥离液(N-甲基-2-吡咯烷酮、单乙醇胺、表面活性剂(商品名：萨非诺尔(Surfynol)465、空气产品公司(AirProducts)制造)液温为45℃)的抗蚀剂剥离槽中，进行200秒的处理，将蚀刻用光硬化性树脂层除去。如上所述而获得形成有白色层、遮光层、横跨前面板的非接触面及遮光层的非接触面侧的面的双方区域而设置的第一透明电极图案(参照图1A)的前面板(前面板D)。
《绝缘层的形成》
＜绝缘层形成用转印膜W1的制备＞
在比较例5的转印材料的制备中，将黑色着色液1替换为包含下述配方W1的绝缘层形成用涂布液，未使用白色着色液1，除此以外与所述比较例5同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层(隔氧膜)、绝缘层用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的绝缘层形成用转印膜W1。绝缘层用光硬化性树脂层的膜厚为1.4μm。
(绝缘层形成用涂布液：配方W1)
·粘合剂3(甲基丙烯酸环己酯(a)/甲基丙烯酸甲酯(b)/甲基丙烯酸共聚物(c)的甲基丙烯酸缩水甘油酯加成物(d)(组成(质量％)：a/b/c/d＝46/1/10/43、质量平均分子量：36000、酸值为66mgKOH/g)的1-甲氧基-2-丙醇、甲基乙基酮溶液(固体成分：45％))：12.5质量份
·DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药股份有限公司制造)的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液(76质量％)：1.4质量份
·氨基甲酸酯系单体(商品名：NK欧力高(NKOligo)UA-32P、新中村化学股份有限公司制造；不挥发成分为75％、丙二醇单甲醚乙酸酯：25％)：0.68质量份
·三季戊四醇八丙烯酸酯(商品名：V#802、大阪有机化学工业股份有限公司制造)：1.8质量份
·二乙基噻吨酮：0.17质量份
·2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：艳佳固(Irgacure)379、巴斯夫制造)：0.17质量份
·分散剂(商品名：素司潘斯(Solsperse)20000、阿维西亚(Avecia)制造)：0.19质量份
·表面活性剂(商品名：美佳法(Megafac)F-780F、大日本油墨制造)：0.05质量份
·甲基乙基酮：23.3质量份
·MMPGAc(大赛璐化学股份有限公司制造)：59.8质量份
另外，绝缘层形成用涂布液W1的除去溶剂后的100℃的粘度为4000Pa·sec。
对前面板D进行清洗，层压除去了保护膜的绝缘层形成用转印膜W1(基材温度：100℃、橡胶辊温度为120℃、线压为100N/cm、搬送速度为2.3m/min)。将临时支撑体剥离后，将曝光掩模(具有绝缘层用图案的石英曝光掩模)面与所述蚀刻用光硬化性树脂层之间的距离设定为100μm，以30mJ/cm2(i射线)的曝光量进行图案曝光。
其次，使用三乙醇胺系显影液(含有三乙醇胺30质量％、利用纯水将商品名：T-PD2(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)而在33℃下进行60秒的处理，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液(利用纯水将商品名：T-CD1(富士胶片股份有限公司制造)稀释5倍而成的液体)而在25℃下进行50秒的处理，使用含有表面活性剂的清洗液(利用纯水将商品名：T-SD3(富士胶片股份有限公司制造)稀释10倍而成的液体)而在33℃下进行20秒的处理，利用旋转刷、超高压清洗喷嘴进行残渣除去。其次，进行230℃、60分钟的后烘烤处理，获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案及绝缘层图案的前面板(前面板E)。
《第二透明电极图案的形成》
＜透明电极层的形成＞
与第一透明电极图案的形成同样地进行，对前面板E进行DC磁控溅镀处理(条件：基材的温度为50℃、氩气压为0.13Pa、氧气压为0.01Pa)而形成厚度为80nm的ITO薄膜，获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案及透明电极层的前面板(前面板F)。ITO薄膜的表面电阻为110Ω/□。
与第一透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜E1而获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、透明电极层及蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(前面板G)。在130℃下进行30分钟的后烘烤处理。
进一步与第一透明电极图案的形成同样地进行，进行蚀刻(30℃、50秒)而将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒)。如上所述地进行而获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、横跨前面板的非接触面及遮光层的非接触面侧的面的双方区域而设置的第二透明电极图案(参照图1A)的前面板(前面板H)。
《与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的形成》
与第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，对前面板H进行DC磁控溅镀处理，获得形成有厚度为200nm的铝(Al)薄膜的前面板(前面板I)。
与第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行，使用蚀刻用转印膜E1而获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、铝薄膜及蚀刻用光硬化性树脂层图案的前面板(前面板J)(后烘烤处理；130℃、30分钟)。
进一步与第一透明电极图案的形成同样地进行，进行蚀刻(30℃、50秒)，将蚀刻用光硬化性树脂层除去(45℃、200秒)，由此获得形成有白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、及导电性要素的前面板(前面板K)。
《透明保护层的形成》
与绝缘层的形成同样地进行，在前面板K上层压除去了保护膜的绝缘层形成用转印膜W1，将临时支撑体剥离后，未介隔曝光掩模而以50mJ/cm2(i射线)的曝光量进行前曝光，进行显影、后曝光(1000mJ/cm2)、后烘烤处理。如上所述地进行而获得以覆盖白色层、遮光层、第一透明电极图案、绝缘层图案、第二透明电极图案、及导电性要素的全部的方式层叠有绝缘层(透明保护层)的前面板(前面板L)(参照图1A)。将所得的前面板L作为实施例1～实施例8的触摸屏。
《信息显示装置的制作》
在利用日本专利特开2009-47936公报中所记载的方法而制造的液晶显示元件上贴合前面板L(实施例1～实施例8的触摸屏)，利用公知的方法制作包含触摸屏作为构成要素的实施例1～实施例8的信息显示装置。
《前面板及信息显示装置的整体评价》
前面板L(实施例1～实施例8的触摸屏)在开口部、及背面并无污垢，容易清洗，且并无其他构件的污染。
而且，在白色层中并无针孔，且白度、不均也无问题。在遮光层中同样地无针孔，遮光性优异。
而且，第一透明电极图案、第二透明电极图案、及导电性要素的各自的导电性中也无问题。而且，在第一透明电极图案与第二电极图案之间具有绝缘性。
另外，在透明保护层中也无气泡等缺陷，获得显示特性优异的信息显示装置。
符号的说明
1：前面板
1a：非接触面
2：转印层(装饰材)
2a：白色层
2b：遮光层
3：第一透明电极图案
4：第二电极图案
5：绝缘层
6：导电性要素
7：透明保护层
8：开口部
10：触摸屏
11：临时支撑体
12：剥离层
13：保护膜
20：转印材料
30：刀
101a：玻璃基材
101b：膜基材

Claims (27)

1.一种转印材料，其特征在于：依序包含临时支撑体、剥离层、转印层及保护膜，
在自所述转印材料剥下所述保护膜的情况下，所述保护膜自所述转印层剥离，且所述转印层残留于所述剥离层侧，
在将所述转印层转印至包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上之后，剥下所述临时支撑体的情况下，所述剥离层与所述临时支撑体一同剥离。
2.根据权利要求1所述的转印材料，其中，自所述转印材料剥下所述保护膜时的所述保护膜与所述转印层间的剥离力是10mN/m～200mN/m。
3.根据权利要求1或2所述的转印材料，其中，自转印至所述被转印基材上的所述转印层剥离所述剥离层及所述临时支撑体的层叠体时的剥离力为40mN/m～400mN/m。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含消光剂，所述消光剂自所述剥离层隆起150nm～500nm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物、硅酮树脂、及烯烃树脂的聚合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印材料，其中，所述剥离层包含选自烷二醇与2官能以上的异氰酸酯的缩聚物及烯烃树脂的聚合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少一层以上，
所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中的至少一层包含粘合树脂、并且包含颜料及染料中的至少一种，
所述转印层中的其他层包含粘合树脂。
9.根据权利要求7或8所述的转印材料，其中，所述转印层中的至少一层中所含的所述粘合树脂具有硅氧烷键。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层中的至少一层包含选自黑色颜料、黑色染料、及白色颜料的至少一种颜料或染料作为所述颜料或染料。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中的与所述剥离层邻接的层包含至少一种选自黑色颜料及黑色染料的颜料或染料，
所述转印层中的与所述保护膜邻接的层包含白色颜料。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中，越是所述剥离层侧的层光学密度越大。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的光学密度为1.0～6.0。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中的与所述剥离层邻接的层的膜厚为0.5μm～3.0μm。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的转印材料，其中，所述转印层包含至少两层，
所述转印层中的与所述保护膜层邻接的层的膜厚为5.0μm～50.0μm。
16.根据权利要求1至15中任一项所述的转印材料，其中，所述临时支撑体包含选自聚酯树脂、三酰基纤维素树脂、及环烯烃树脂的树脂。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的转印材料，其中，所述保护膜是聚烯烃膜。
18.根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料，其中，所述被转印基材包含玻璃。
19.根据权利要求1至17中任一项所述的转印材料，其中，所述被转印基材包含环烯烃聚合物膜。
20.一种转印材料的制造方法，其是根据权利要求1至19中任一项所述的转印材料的制造方法，包含以下的(1)～(3)的步骤：
(1)准备具有所述剥离层的所述临时支撑体；
(2)在所述临时支撑体的所述剥离层侧形成所述转印层；
(3)在所述转印层侧贴合所述保护膜。
21.一种带有转印层的基材的制造方法，其使用根据权利要求1至19中任一项所述的转印材料，并且包含以下的步骤：
(11)自所述转印材料剥离所述保护膜；
(12)将所述转印材料的所述转印层侧转印至所述包含玻璃的被转印基材、或包含选自三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或环烯烃聚合物的膜的被转印基材上；
(13)自所述转印层同时剥离所述剥离层与所述临时支撑体。
22.根据权利要求21所述的带有转印层的基材的制造方法，其中，将所述转印层转印至所述被转印基材上时的所述被转印基材的温度为40℃～150℃。
23.一种带有转印层的基材，其是利用根据权利要求21或22所述的带有转印层的基材的制造方法而制造。
24.根据权利要求23所述的带有转印层的基材，其中，25℃下的所述转印层的表面电阻为1.0×1010Ω/□以上。
25.一种触摸屏的制造方法，其使用根据权利要求23或24所述的带有转印层的基材，并且包含以下的步骤：
(21)在所述带有转印层的基材的所述转印层侧形成导电层；
(22)将所述导电层的一部分除去，形成电极图案。
26.一种触摸屏，其包含根据权利要求23或24所述的带有转印层的基材。
27.一种信息显示装置，其包含根据权利要求26所述的触摸屏。
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