CN105118398A - 一种柔性显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种柔性显示装置及其制造方法，该装置包括：柔性显示面板；偏光片层，形成于柔性显示面板上；触摸层，形成于偏光片层上；光学补偿层，形成于触摸层上，光学补偿层的折射率范围为0.5至3；支撑层，形成于光学补偿层上；以及抗反射层，形成于支撑层上，抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。制造方法包括：提供柔性显示装置；于柔性显示面板上形成偏光片层；于偏光片层上形成触摸层；湿法涂布或者溅镀光学补偿层于触摸层上；激光转印支撑层于光学补偿层上；以及激光转印抗反射层于支撑层上。本发明的柔性显示装置及其制造方法在屏幕发光强度不变或降低的情况下，同时提高柔性显示装置的对比度和硬度，降低柔性显示屏的功耗。

Description

一种柔性显示装置及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性显示装置及其制造方法。

背景技术

AMOLED显示屏具有轻薄、主动发光、高清晰、高亮度、高对比度、响应快速、能耗低、使用温度范围广、抗震能力强等优点，可实现柔软显示。

AMOLED为主动式发光，即在任一背景下并不是屏幕上所有的像素都在发光，虽然在很大的程度上节省了电量，但AMOLED屏幕由于失去了背光的支持，屏幕的亮度仅可通过自发光的像素来提供，在室外环境下AMOLED屏幕的表现一般。

如图1所示，为一种传统的柔性显示装置，至少包括自下而上依次层叠的绝缘层1’(例如聚酰亚胺树脂，polyimide，简称PI)、薄膜晶体管层2’(ThinFilmTransistor，简称TFT)、有机发光二极管层3’(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)、薄膜封装层4’(例如四氟乙烯，Polytetrafluoroethylene，简称PTFE)、偏光片层5’(polarizer，简称POL)以及触摸层6’(touchpanel，简称TP)。

其中，屏幕的对比度＝发光时的亮度(发光亮度)/不发光时的亮度(反射亮度)。柔性AMOLED显示屏可以清晰显示，不受周围光线的影响，屏幕应具有足够的对比度。不发光时的亮度与屏幕反射系数成正比。由上式可知，为提升柔性AMOLED显示屏在阳光下的可视度，其解决方法主要有两种：一是提高AMOLED显示屏的发光亮度，另一种是降低屏幕的反射系数，即反射亮度。

提高AMOLED显示屏的发光亮度会增加显示屏的功耗，需要更改OLED器件结构及材料，需要进行较多的OLED器件内部变更及资金。

降低屏幕表面的反射系数，在屏幕发光强度不变或降低的情况下，即可保证有较高的对比度。

一般说来，屏幕的对比度应在10左右，人眼才会有一个比较舒适的感觉。

有鉴于此，需要提供了一种高对比度、高硬度的柔性显示装置。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的在于提供一种柔性显示装置及其制造方法，克服现有技术的困难，在屏幕发光强度不变或降低的情况下，保证有较高的对比度，提升对比度的同时，提升柔性显示屏的硬度，降低柔性显示屏的功耗。

根据本发明的一个方面，提供一种柔性显示装置，包括：

一柔性显示面板；

一偏光片层，形成于所述柔性显示面板上；

一触摸层，形成于所述偏光片层上；

一光学补偿层，形成于所述触摸层上，所述光学补偿层的折射率范围为0.5至3；

一支撑层，形成于所述光学补偿层上；以及

一抗反射层，形成于所述支撑层上，所述抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。

优选地，所述光学补偿层是有机膜。

优选地，所述光学补偿层是由金属氧化物组成的无机膜。

优选地，所述光学补偿层的厚度为100nm至300nm。

优选地，所述支撑层的硬度范围为2H至15H。

优选地，所述支撑层是有机膜。

优选地，所述支撑层的厚度为20um至80um。

优选地，所述抗反射层是由金属氧化物组成的无机复合膜。

优选地，所述抗反射层是由硅氧化物组成的无机复合膜。

优选地，所述抗反射层的厚度为100nm至300nm。

优选地，所述柔性显示面板包括自下而上依次层叠的绝缘层、薄膜晶体管层、有机发光二极管层以及薄膜封装层。

根据本发明的另一个方面，还提供一种上述的柔性显示装置的制造方法，包括以下步骤：

提供一柔性显示面板；

于所述柔性显示面板上形成一偏光片层；

于所述偏光片层上形成一触摸层；

湿法涂布或者溅镀一光学补偿层于所述触摸层上，所述光学补偿层的折射率范围为0.5至3；

激光转印一支撑层于所述光学补偿层上；以及

激光转印一抗反射层于所述支撑层上，所述抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。

有鉴于此，本发明的柔性显示装置及其制造方法在屏幕发光强度不变或降低的情况下，同时提高柔性显示装置的对比度和硬度，降低柔性显示屏的功耗。本发明的屏幕的对比度可以在10左右，光反射系数小于等于1.5％。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为现有技术的显示装置的剖视图；

图2为本发明的柔性显示装置的剖视图；以及

图3为本发明的柔性显示装置的制造方法的流程图。

附图标记

1’绝缘层

2’薄膜晶体管层

3’有机发光二极管层

4’薄膜封装层

5’偏光片层

6’触摸层

1绝缘层

2薄膜晶体管层

3有机发光二极管层

4薄膜封装层

5偏光片层

6触摸层

7光学补偿层

8支撑层

9抗反射层

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。

所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员应意识到，没有特定细节中的一个或更多，或者采用其它的方法、组元、材料等，也可以实践本发明的技术方案。在某些情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明。

如图2所示，本发明的第一实施例提供了一种柔性显示装置，包括：一柔性显示面板、一偏光片层5(polarizer，简称POL)、一触摸层6(touchpanel，简称TP)、一光学补偿层7、一支撑层8以及一抗反射层9。其中，柔性显示面板可以包括自下而上依次层叠的绝缘层1(例如聚酰亚胺树脂，polyimide，简称PI)、薄膜晶体管层2、有机发光二极管层3(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)以及薄膜封装层4(例如四氟乙烯，Polytetrafluoroethylene，简称PTFE)，但不以此为限，本发明中的柔性显示面板也可以是其他结构的柔性显示面板。本发明的发明目的主要是通过在柔性显示面板上依次增加一偏光片层5、一触摸层6、一光学补偿层7、一支撑层8以及一抗反射层9来实现的。

光学补偿层7通过溅镀的方式形成于柔性显示装置的触摸层6上，但不以此为限。光学补偿层7主要作用为调节光学特性及提升附着性。光学补偿层7的折射率范围为0.5至3，但不以此为限。光学补偿层7是有机膜，或者是由金属氧化物组成的无机膜。光学补偿层7的材料可以是碲氧化物(TeOx)和/或钼氧化物(MoOx)等，但不以此为限。光学补偿层7的厚度为100nm至300nm，但不以此为限。

支撑层8可以采用湿法涂布的方式形成，并且转印到光学补偿层7上，但不以此为限。支撑层8主要作用为提升硬度，保护其下的柔性结构。支撑层8的硬度范围为2H至15H。支撑层8是有机膜。支撑层8的厚度为20um至80um，但不以此为限。

抗反射层9可以采用湿法涂布或者溅射的方式形成，并且转印到支撑层8上，主要作用为降低显示屏的反射系数，抗反射层9的折射率范围为0.5至3.5。抗反射层9是由金属氧化物(例如：TiOx等)组成的无机复合膜，或者是由硅氧化物组成的无机复合膜，且不以此为限。抗反射层9的厚度为100nm至300nm，但不以此为限。

本发明的柔性显示装置主要通过增设调节光学特性的光学补偿层7、支撑层8以及降低显示屏的反射系数的抗反射层9的组合，在不改变OLED器件结构材料、以及不增加显示屏的功耗的前提下，降低屏幕表面的反射系数，提升AMOLED显示屏的发光亮度，从而以结构简单、成本低廉的方式保证有较高的对比度。

如图3所示，本发明还提供一种柔性显示装置的制造方法，用来制造上述柔性显示装置，可以包括以下步骤：

本实施例中，支撑层和抗反射层都是可以预先制得的。支撑层可以预先通过真空蒸镀、旋涂或丝网涂敷等方式沉积在离型材料上，并保证支撑层的两面都贴合离型材料(第一离型材料和第二离型材料)来封存，然后转印到光学补偿层上，但不以此为限。(支撑层也可以是在光学补偿层上直接制作)抗反射层也可以预先通过真空蒸镀、旋涂或丝网涂敷等方式沉积在离型材料上，并保证抗反射层的两面都贴合离型材料(第一离型材料和第二离型材料)来封存，然后转印到支撑层上，但不以此为限。(抗反射层也可以是在支撑层上直接制作)

首先，提供一柔性显示面板。其中，柔性显示面板可以包括自下而上依次层叠的绝缘层1(例如聚酰亚胺树脂，polyimide，简称PI)、薄膜晶体管层2、有机发光二极管层3(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)以及薄膜封装层4(例如四氟乙烯，Polytetrafluoroethylene，简称PTFE)，但不以此为限。

其次，在柔性显示面板上形成偏光片层5。偏光片层5可以偏转柔性显示面板发出的光线。

其次，在偏光片层5上形成触摸层6。触摸层6可以识别用户手指的触控信号。

其次，通过湿法涂布或者溅镀一光学补偿层7于触摸层6上，光学补偿层7的折射率范围为0.5至3。光学补偿层7是有机膜。光学补偿层7是由金属氧化物组成的无机膜。

其次，激光转印一支撑层8于光学补偿层7上。支撑层8的硬度范围为2H至15H。支撑层8是有机膜。可以先将光学透明胶(OCA，OpticallyClearAdhesive)贴附于光学补偿层7的上表面，然后剥离支撑层8第一面的第一离型材料，将支撑层8覆盖在光学补偿层7上并用激光束对支撑层8第二面的第二离型材料进行照射，使得第二离型材料上被激光照射部分的支撑层8就被转印到光学补偿层7，转印完成后，最后将第二离型材料剥离，这样在光学补偿层7上就得到了完整的支撑层8。其中，光学透明胶(OCA，OpticallyClearAdhesive)是通常用于胶结透明光学元件(如镜头等)的特种粘胶剂。要求具有无色透明、光透过率在90％以上、胶结强度良好，可在室温或中温下固化，且有固化收缩小等特点。

其次，激光转印一抗反射层9于支撑层8上，抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。抗反射层9是由金属氧化物组成的无机复合膜或抗反射层9是由硅氧化物组成的无机复合膜。继续采用激光转印方式转印抗反射层。先将光学透明胶(OCA，OpticallyClearAdhesive)胶贴附于支撑层8的上表面，然后剥离抗反射层9第一面的第一离型材料，将抗反射层9覆盖在支撑层8上并用激光束对抗反射层9第二面的第二离型材料进行照射，使得第二离型材料上被激光照射部分的抗反射层9就被转印到支撑层8，转印完成后，最后将第二离型材料剥离，这样在支撑层8上就得到了完整的抗反射层9，以此得到本发明的柔性显示装置。

综上可知，本发明的柔性显示装置及其制造方法在屏幕发光强度不变或降低的情况下，同时提高柔性显示装置的对比度和硬度，降低柔性显示屏的功耗。本发明的屏幕的对比度可以在10左右，光反射系数小于等于1.5％。

以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改，这并不影响本发明的实质内容。

Claims (12)

1.一种柔性显示装置，其特征在于，包括：

一柔性显示面板；

一偏光片层，形成于所述柔性显示面板上；

一触摸层，形成于所述偏光片层上；

一光学补偿层，形成于所述触摸层上，所述光学补偿层的折射率范围为0.5至3；

一支撑层，形成于所述光学补偿层上；以及

一抗反射层，形成于所述支撑层上，所述抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。

2.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述光学补偿层是有机膜。

3.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述光学补偿层是由金属氧化物组成的无机膜。

4.如权利要求2或3所述的柔性显示装置，其特征在于，所述光学补偿层的厚度为100nm至300nm。

5.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述支撑层的硬度范围为2H至15H。

6.如权利要求5所述的柔性显示装置，其特征在于，所述支撑层是有机膜。

7.如权利要求5或6所述的柔性显示装置，其特征在于，所述支撑层的厚度为20um至80um。

8.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述抗反射层是由金属氧化物组成的无机复合膜。

9.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述抗反射层是由硅氧化物组成的无机复合膜。

10.如权利要求8或9所述的柔性显示装置，其特征在于，所述抗反射层的厚度为100nm至300nm。

11.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述柔性显示面板包括自下而上依次层叠的绝缘层、薄膜晶体管层、有机发光二极管层以及薄膜封装层。

12.一种如权利要求1至11中任意一项所述的柔性显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一柔性显示面板；

于所述柔性显示面板上形成一偏光片层；

于所述偏光片层上形成一触摸层；

湿法涂布或者溅镀一光学补偿层于所述触摸层上，所述光学补偿层的折射率范围为0.5至3；

激光转印一支撑层于所述光学补偿层上；以及

激光转印一抗反射层于所述支撑层上，所述抗反射层的折射率范围为0.5至3.5。