CN105093847B - 曝光机 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种曝光机，包括一光源、透镜组、一蝇眼、一光纤变换单元、一通路开关、一光通狭缝以及一放大光路，光源发出的入射光依次经过透镜组、蝇眼到达光线变换单元，入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光。通过上述方式，本发明曝光机的入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光，可大幅度提高曝光时的照度且减少光照到光通狭缝的非有效区域所导致的温度升高，另外还可以通过调节光通狭缝的宽度来调节照度，提高机台光源的使用效率。
Description
技术领域
本发明涉及曝光装置，特别是涉及一种能够提高照度的曝光机。
背景技术
曝光机在曝光时为保持各点光程一致需要使用光通狭缝将原本方形光遮挡成弧形光，其中光通狭缝为弧形。传统的曝光机中，光源发射出的入射光经过光积分器后形成均匀的方形光，经过平面镜反射后通过光通狭缝的遮挡形成弧形光，其被遮挡部分的光线会被浪费，从而影响曝光机曝光时的照度，并且这部分被遮挡的光线会照射在光通狭缝的非有效区域上产生热量，给曝光机的温控系统造成负担。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种能提高曝光时的照度并减小机台温控负担的曝光机。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种曝光机，包括一光源、透镜组、一蝇眼、一光纤变换单元、一通路开关、一光通狭缝以及一放大光路，光源发出的入射光依次经过透镜组、蝇眼到达光纤变换单元，光纤变换单元的接收端朝向蝇眼以接收入射光，光纤变换单元的输出端朝向通路开关，入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光，出射光经通路开关、光通狭缝射出至放大光路。
其中，光纤变换单元的接收端为方形，光纤变换单元的输出端为弧形。
其中，放大光路包括第一凹面镜、第二凹面镜及反射镜，进入放大光路的出射光依次经过第一凹面镜、反射镜和第二凹面镜后从放大光路出射，光纤变换单元的输出端的弧形的曲率与第一凹面镜的曲率一致。
其中，光纤变化单元的输出端的弧形宽度大于光通狭缝的宽度。
其中，曝光机还包括一照度传感器，照度传感器位于光纤变换单元的输出端与通路开关之间，照度传感器监测光纤变化单元的输出端的光强。
其中，曝光机还包括设于光纤变换单元的输出端的一准直器及一准直透镜，准直器及准直透镜监测出射光的平行度。
其中，透镜组包括依次间隔排列的一滤光镜、一延迟透镜以及第一聚光镜。
其中，蝇眼与光纤变换单元的接收端之间还设有一第二聚光镜。
其中，曝光机还包括一设于光源前方的滤光片以及一反射镜，光源发出的入射光经滤光片入射至反射镜，反射镜将光线反射至透镜组。
其中，入射光为方形，出射光为弧形。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供的曝光机的入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光，可大幅度提高曝光时的照度且减少光照到光通狭缝的非有效区域所导致的温度升高，另外还可以通过调节光通狭缝的宽度来调节照度，提高机台光源的使用效率。
附图说明
图1是本发明曝光机的内部结构简化示意图；
图2是本发明曝光机的放大光路的光路示意图；
图3是本发明曝光机的光纤变换单元的立体图；
图4是本发明曝光机的光纤变换单元的接收端及输出端的光纤分布图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
参阅图1，本发明提供一种曝光机100，所述曝光机100包括一光源10、滤光片20、平面镜30、透镜组40、一蝇眼50、一光纤变换单元60、一通路开关70、一光通狭缝80以及一放大光路90。其中，透镜组40包括依次间隔排列的一滤光镜42、一延迟透镜44以及第一聚光镜46，该曝光机100还包括一位于蝇眼50及光纤变换单元60之间的第二聚光镜55。上述透镜组40及第二聚光镜55均为本领域习知技术，在此不再赘述。
该光源10包括一功率为8kw的汞灯(图未示)及一聚光凹面镜12。光源10发出的入射光经位于光源10前方的滤光片20过滤后将远紫外光入射至平面镜30，平面镜30将入射光反射至透镜组40并射入蝇眼50。请一并参照图4所示，入射光经过蝇眼50形成均匀的方形光后射出至光纤变化单元60的接收端62，入射光经该光纤变换单元60的输出端64输出弧形的出射光。出射光依次经通路开关70、光通狭缝80射出至放大光路90后输出。
请参照图2，该放大光路90包括第一凹面镜92、第二凹面镜94及两反射镜96，该第一凹面镜92与第二凹面镜94曲率相同，第一凹面镜92的半径小于该第二凹面镜94的半径。该光纤变换单元60的输出端64的弧形的曲率与第一凹面镜92的曲率一致。该放大光路90将经过光通狭缝80的出射光的宽度放大一倍，形成背光。例如，在本实施方式中，光通狭缝80的宽度为7mm，经过该放大光路90后的出射光宽度为14mm。
请参照图3及图4，光纤变化单元60的接收端62为方形，接收端62中用于接收入射光的光纤排列方式如602所示。应理解，光纤变化单元60的接收端62不限于方形，其可根据受光的大小及范围来设计，以保证所有的光都能进入接收端62的光纤入口。光纤变换单元60的输出端64为弧形，该输出端64的光纤排列方式如604所示。该光纤变化单元60的输出端64的弧形宽度大于光通狭缝80的宽度。该光纤变换单元的输出端64设有一准直器66及一准直透镜68以保证出射光为平行光。在其他实施方式中，光纤变化单元60的输出端64还可以是其他形状，如圆形等。
该光纤变换单元60的输出端64与通路开关70之间还设有一照度传感器65，该照度传感器65用于监测光纤变化单元60的输出端64输出的出射光的光强。
与现有技术相比，本发明提供的曝光机的入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光，可大幅度提高曝光时的照度且减少光照到光通狭缝的非有效区域所导致的温度升高，另外还可以通过调节光通狭缝的宽度来调节照度，提高机台光源的使用效率。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种曝光机，包括一光源、透镜组、一蝇眼、一光纤变换单元、一通路开关、一光通狭缝以及一放大光路，所述光源发出的入射光依次经过所述透镜组、所述蝇眼到达所述光纤变换单元，所述光纤变换单元的接收端朝向所述蝇眼以接收所述入射光，所述光纤变换单元的输出端朝向所述通路开关，所述入射光经光纤变换单元转换成曝光需要的任意形状的出射光，通路开关打开，所述出射光经所述光通狭缝射出至所述放大光路；所述光纤变换单元的接收端为方形，所述光纤变换单元的输出端为弧形。
2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述放大光路包括第一凹面镜、第二凹面镜及反射镜，进入所述放大光路的所述出射光依次经过所述第一凹面镜、所述反射镜和所述第二凹面镜后从所述放大光路出射，所述光纤变换单元的输出端的弧形的曲率与所述第一凹面镜的曲率一致。
3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述光纤变化单元的输出端的弧形宽度大于所述光通狭缝的宽度。
4.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述曝光机还包括一照度传感器，所述照度传感器位于所述光纤变换单元的输出端与所述通路开关之间，所述照度传感器监测所述光纤变化单元的输出端的光强。
5.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述曝光机还包括设于所述光纤变换单元的输出端的一准直器及一准直透镜，所述准直器及准直透镜监测所述出射光的平行度。
6.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述透镜组包括依次间隔排列的一滤光镜、一延迟透镜以及第一聚光镜。
7.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于：所述蝇眼与所述光纤变换单元的接收端之间还设有一第二聚光镜。
8.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述曝光机还包括 一设于光源前方的滤光片以及一反射镜，所述光源发出的入射光经滤光片入射至所述反射镜，所述反射镜将所述光反射至所述透镜组。
9.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于：所述入射光为方形，所述出射光为弧形。
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Citations (1)
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