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CN105045011B - 阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置 - Google Patents

阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置 Download PDF

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CN105045011B
CN105045011B CN201510543473.0A CN201510543473A CN105045011B CN 105045011 B CN105045011 B CN 105045011B CN 201510543473 A CN201510543473 A CN 201510543473A CN 105045011 B CN105045011 B CN 105045011B
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Abstract

一种阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置。该阵列基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。该阵列基板不用制备黑矩阵，从而可减少工艺，降低成本，且可达到较好的遮光效果。

Description

阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置
技术领域
本发明的实施例涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)以及有机电致发光显示器(OrganicLight Emitting Display，OLED)等显示器件已经成为人们生活中的必需品并悄悄地改变着人们的生活。人们对显示器件的分辨率、色域、亮度等品质的要求也越来越高。最近已有公司开发出500PPI(Pixels Per Inch，PPI)、600PPI的产品。
例如，通常将阵列基板和滤色片基板进行成盒工艺粘贴在一起来制备LCD。然而，在成盒时，阵列基板和滤色片基板之间会存在一定的偏差。该偏差会导致LCD开口率降低，漏光等问题。并且，LCD的PPI越高，开口率的降低越严重。与此同时，产品的亮度、色域等性能都会有所降低，并且LCD的能耗会有所增加。
为了消除阵列基板和滤色片基板之间的偏差，提高开口率，降低成本，面板厂商开发了一种彩色滤色片和黑矩阵位于阵列基板的技术，也就是COA(Color on Array)技术。COA技术通过将彩色滤色片和黑矩阵设置在阵列基板上，其能够减少成盒时阵列基板和滤色片基板的偏差，能够提高开口率，降低成本，提高产品显示品质。
发明内容
本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板以及显示装置。该阵列基板无需形成黑矩阵，能够减少形成黑矩阵的工艺，简化制造工艺，降低成本。
本发明至少一个实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，所述彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元；至少两种不同颜色的滤光图案在对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，所述层叠的部分配置来分隔各所述滤光单元，且对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，对应所述多条数据线的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述光透过率最低的滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述多种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案和红色滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，至少三种不同颜色的滤光图案在对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述至少三种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述彩膜层位于所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的上方。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板中，所述多条数据线和所述多条栅线交叉限定出多个呈阵列排列的像素单元，每个所述像素单元对应一个所述滤光单元，且包括至少一个所述薄膜晶体管。
例如，本发明一实施例提供的阵列基板还包括平坦层，其中，所述平坦层位于所述彩膜层的上方，所述平坦层具有平坦或基本平坦的表面。
本发明至少一个实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；
其中，所述彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元；
至少两种不同颜色的滤光图案在对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分，所述层叠的部分配置来分隔各所述滤光单元，且对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，在本发明一实施例提供的阵列基板的制备方法中，对应所述多条数据线的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述光透过率最低的滤光图案。
本发明至少一个实施例还提供一种显示面板，包括上述任一项的阵列基板。
本发明至少一个实施例还提供一种显示装置，包括上述的显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1a为本发明一实施例提供的一种阵列基板的截面示意图；
图1b为本发明一实施例提供的一种阵列基板中的彩膜层示意图；
图2为本发明一实施例提供的一种阵列基板的彩膜层的形成工艺的流程示意图一；
图3为本发明一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中A-A’向的剖视图一；
图4为本发明一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中B-B’向的剖视图一；
图5为本发明一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中C-C’向的剖视图一；
图6为本发明另一实施例提供的一种阵列基板的彩膜层的形成工艺的流程示意图二；
图7为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中A-A’向的剖视图二；
图8为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中B-B’向的剖视图二；
图9为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中C-C’向的剖视图二；
图10为本发明另一实施例提供的一种阵列基板中的彩膜层的形成工艺的流程示意图三；
图11为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中A-A’向的剖视图三；
图12为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中B-B’向的剖视图三；
图13为本发明另一实施例提供的一种阵列基板沿图1a中C-C’向的剖视图三；
图14为不同颜色的滤光图案能透过的光的波长范围。
附图标记：
101-衬底基板；102-栅线；103-栅极；104-栅极绝缘层；105-有源层；106-源极；107-数据线；108-漏极；109-绝缘层；110-绿色滤光图案；1101-绿色第一延伸部分；1102-绿色主体部分；1103-绿色侧边延伸部分；1104-绿色第三延伸部分；111-红色滤光图案；1111-红色第一延伸部分；1112-红色主体部分；1113-红色侧边延伸部分；112-蓝色滤光图案；1121-蓝色第一延伸部分；1122-蓝色主体部分；1123-蓝色侧边延伸部分；1124-蓝色第三延伸部分；113-平坦层；114-公共电极；115-钝化层；116-像素电极；117-薄膜晶体管；118-彩膜层；119-像素单元；121-滤光单元；122-层叠的部分；124-过孔。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明至少一实施例提供的阵列基板，包括衬底基板以及位于衬底基板上的彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线。彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
本发明至少一实施例提供的阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
本发明至少一实施例提供的阵列基板及其制备方法可以不用另外设置黑矩阵，从而可以减少制备过程中形成黑矩阵的工艺，节省形成黑矩阵的掩模板(Mask)，节省材料，降低成本。并且，对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案，从而可以达到优异的遮光效果。
下面通过例举几个实施例作进一步的说明。
实施例一
本实施例提供一种阵列基板，如图1a、1b、图2-图5所示，该阵列基板包括衬底基板101以及位于衬底基板101上的彩膜层118、多个薄膜晶体管117、多条数据线107和多条栅线102。
例如，如图1a所示，多条数据线107和多条栅线102彼此交叉设置且互相绝缘，由此限定出多个呈阵列排列的像素单元119。
例如，如图1b所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元121。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元121。例如，层叠的部分121配置来分隔多种不同颜色的滤光图案中的各滤光单元121。围绕各滤光单元121的周边区域即为分隔各滤光单元121的层叠的部分，即至少两种不同颜色的滤光图案形成的层叠的部分122。层叠的部分122对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处。层叠的部分122配置来(用以)分隔各滤光单元121。该图中，用虚线表示设置在衬底基板上的多条数据线107、多条栅线102以及像素单元119。
例如，彩膜层118中，除了上述对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处的层叠的部分122外，还可设置其他层叠的部分，本发明对此不作限定。
需要说明的是，分隔各滤光单元包括分隔同一颜色的滤光图案中的相邻的各滤光单元以及分隔不同颜色的滤光图案中相邻的各滤光单元。
如图2所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，例如包括绿色滤光图案110、红色滤光图案111和蓝色滤光图案112。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元。并且，对应多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，图3是图1a中沿A-A’向剖视图，图4是图1a中沿B-B’向剖视图，图5是图1a中沿C-C’向剖视图。如图3所示，在彩膜层中，红色滤光图案111和蓝色滤光图案112在对应薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分。如图4所示，红色滤光图案111和蓝色滤光图案112在对应栅线102的位置处具有彼此层叠的部分。如图5所示，蓝色滤光图案112和红色滤光图案111在对应数据线107的位置处具有彼此层叠的部分。对应多条数据线107、多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。例如，光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案112。层叠的部分例如是指在垂直于衬底基板的方向上，至少两种不同颜色的滤光图案交叠的部分。
例如，如图3所示，该阵列基板包括薄膜晶体管117和像素电极116。该阵列基板中，在衬底基板101上设置有栅极103。在栅极103所在的层之上设置栅极绝缘层104。在栅极绝缘层104上设置有源层(半导体层)105。在有源层105上设置源极106和漏极108，源极106和漏极108均与有源层105相连，源极106和漏极108分设在有源层105的两侧。源极106和漏极108之间具有间隔以界定沟道区域。在源极106和漏极108所在的层之上设置绝缘层109。在绝缘层109上设置彩膜层118。在彩膜层118上设置平坦层113。平坦层113具有平坦或基本平坦的表面。在平坦层113上设置像素电极116。像素电极116通过过孔124与薄膜晶体管的漏极108相连。
例如，如图3所示，彩膜层118位于薄膜晶体管117的上方。此时，可采用如图3所示的底栅结构的薄膜晶体管。彩膜层中的层叠的部分覆盖多个薄膜晶体管，从而可避免有源层被来自顶部的前光源(例如自然光)的照射，底栅结构的薄膜晶体管的栅极可避免有源层被来自底部的背光源的照射。如图4-5所示，彩膜层118位于多条数据线107和多条栅线102的上方。
需要说明的是，本发明实施例的薄膜晶体管还可以是顶栅结构的薄膜晶体管，在此不做限定。例如，薄膜晶体管采用顶栅结构的情况下，彩膜层118可位于多个薄膜晶体管117的下方。但不限于此。
例如，薄膜晶体管117的栅极103与相应的栅线102电连接或一体形成，源极106与相应的数据线107电连接或一体形成。
例如，多条栅线102和/或多条数据线107的材质为金属。例如，可为铝，铝合金，铜，铜合金，钼等中的任一的单层或其中几种的叠层。
例如，图2是上述彩膜层形成工艺的流程示意图。如图2所示，该彩膜层包括三种不同颜色的滤光图案。彩膜层的形成工艺包括以下步骤。
(1)首先形成红色滤光图案111。红色滤光图案111具有沿栅线方向延伸的红色第一延伸部分1111，沿数据线方向延伸的红色主体部分1112，配置在红色主体部分1112两侧且对应数据线位置处的红色侧边延伸部分1113，以及配置在绿色滤光图案110与蓝色滤光图案112之间的对应数据线位置处的第三延伸部分1114。例如，沿栅线方向延伸的红色第一延伸部分1111的长度大于或等于两个像素单元沿栅线方向的长度。
(2)随后形成蓝色滤光图案112，其具有沿栅线方向延伸的蓝色第一延伸部分1121，沿数据线方向延伸的蓝色主体部分1122，配置在蓝色主体部分1122两侧且对应数据线位置处的蓝色侧边延伸部分1123，以及配置在绿色滤光图案110与红色滤光图案111之间的对应数据线位置处的蓝色第三延伸部分1124。该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121和蓝色主体部分1122在对应栅线和薄膜晶体管的位置处与红色滤光图案111的红色第一延伸部分1111层叠。从而彩膜层中，两种不同颜色的滤光图案(红色滤光图案111和蓝色滤光图案112)在对应栅线和薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112的蓝色侧边延伸部分1123在对应数据线位置处与红色第三延伸部分1114和红色侧边延伸部分1113层叠。该蓝色滤光图案112的蓝色第三延伸部分1124在对应数据线位置处与红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113层叠。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖数据线在衬底基板101上的正投影，以此来遮光。从而，蓝色滤光图案112和红色滤光图案111在数据线位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖对应数据线在衬底基板101上的正投影。
(3)最后形成绿色滤光图案110。该绿色滤光图案仅包括绿色主体部分。该绿色主体部分形成绿色滤光单元。蓝色滤光图案112为上述三种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
本实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。彩膜层中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，该阵列基板的制备方法中，彩膜层的形成工艺可如上所述。
综上，在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元。在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元。
例如，每个像素单元对应一个绿色滤光图案110、红色滤光图案111、或蓝色滤光图案112的滤光单元。例如，每个像素单元包括至少一个薄膜晶体管。
需要说明的是，图3-图5只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层叠情况。
例如，本发明实施例中的平坦层113可以包括有机绝缘材料，该有机绝缘材料包括亚克力树脂或聚酰亚胺树脂。
例如，该平坦层113可以对彩膜层118进行平坦化处理，并具有较低的介电常数，例如，介电常数＜5。平坦层具有平坦或基本平坦的表面。
例如，每种不同颜色的彩色滤光图案可采用对应的彩色树脂形成。
例如，彩膜层中的层叠的部分起到遮光的效果。从而可以不用设置黑矩阵。以下各实施例与此相同。
需要说明的是，本发明实施例的各彩色滤光图案并不限于上述的形成次序。对各彩色滤光图案的形成次序不做限定。并且，每种颜色的滤光图案均可通过一个掩膜版形成。将其区分为多个部分只是为了更好的理解各个层叠的部分的情况。本发明实施例的各彩色滤光图案的形成亦不限于给出的形成工艺。
实施例二
本实施例提供一种阵列基板，如图1a、1b、图6-图9所示，该阵列基板包括衬底基板101以及位于衬底基板101上的彩膜层118、多个薄膜晶体管117、多条数据线107和多条栅线102。
例如，如图1a所示，多条数据线107和多条栅线102彼此交叉设置且互相绝缘，由此限定出多个呈阵列排列的像素单元119。每个像素单元包括作为开关元件的薄膜晶体管117和用于控制液晶偏转与开关元件电连接的像素电极116。本发明实施例的彩色滤光图案可对应上述像素单元设置。
例如，如图1b所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元121。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分122，层叠的部分122配置来分隔各滤光单元121。围绕各滤光单元121的周边区域即为分隔各滤光单元121的层叠的部分122。即至少两种不同颜色的滤光图案层叠形成的分隔各滤光单元121的层叠的部分122。层叠的部分122对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处。该图中，用虚线表示出了设置在衬底基板上的多条数据线107、多条栅线102以及像素单元119。
例如，如图1b所示，在彩膜层118中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元。并且，对应多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
如图6所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案。例如包括绿色滤光图案110、红色滤光图案111和蓝色滤光图案112。则光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案112。
例如，图7是图1a中沿A-A’向剖视图，图8是图1a中沿B-B’向剖视图，图9是图1a中沿C-C’向剖视图。如图7所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分。如图8所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应栅线102的位置处具有彼此层叠的部分。如图7和图9所示，红色滤光图案111和绿色滤光图案110在对应数据线107的位置处具有彼此层叠的部分。层叠的部分配置来分隔各滤光单元。
需要说明的是，图7-图9只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层叠情况。
例如，如图7所示，该阵列基板中，在衬底基板101上设置有栅极103。在栅极103所在的层之上设置栅极绝缘层104。在栅极绝缘层104上设置有源层(半导体层)105。在有源层105上设置源极106和漏极108，源极106和漏极108均与有源层105相接触，源极106和漏极108分设在有源层105的两侧，例如分别与相应的数据线107和相应的像素电极116电连接。源极106和漏极108之间具有间隔以界定沟道区域。在源极106和漏极108所在的层之上设置绝缘层109。在绝缘层109上设置彩膜层118。在彩膜层118上设置平坦层113。在平坦层113上设置公共电极114。在公共电极114所在的层之上设置钝化层115。在钝化层115上设置像素电极116。像素电极116通过过孔与薄膜晶体管的漏极108相连。
需要说明的是，本发明的实施例以狭缝状的像素电极在上，面状的公共电极在下为例进行说明。本发明实施例的公共电极还可以位于像素电极上方，位于上方的公共电极为狭缝状电极。在此不做限定。
例如，薄膜晶体管117的栅极103与相应的栅线102电连接或一体形成，源极106与相应的数据线107电连接或一体形成。
例如，多条栅线102和/或多条数据线107的材质为金属，例如，可为铝、铝合金、铜、铜合金、钼等中的任一的单层或其中几种的叠层。
例如，平坦层113材质可采用绝缘材料，可以包括有机绝缘材料，该有机绝缘材料例如包括亚克力树脂、聚酰亚胺树脂等。
例如，该平坦层113可以对彩膜层118进行平坦化处理，并具有较低的介电常数。
例如，如图6所示，给出一种彩膜层形成工艺的流程示意图。该彩膜层包括三种不同颜色的滤光图案，形成工艺包括以下步骤。
(1)首先形成绿色滤光图案110。绿色滤光图案110具有沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101，沿数据线方向延伸的绿色主体部分1102，以及配置在绿色主体部分1102两侧且对应数据线位置处的绿色侧边延伸部分1103。绿色第一延伸部分1101的长度大于或等于一个像素单元沿栅线方向的长度。
(2)其后形成红色滤光图案111。红色滤光图案111具有沿数据线方向延伸的红色主体部分1112以及配置在红色主体部分1112两侧且对应数据线位置处的红色侧边延伸部分1113。该红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103层叠。红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113以及绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分为红色滤光图案和绿色滤光图案在对应数据线位置处具有的层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖数据线在该衬底基板101上的正投影，以此来遮光。
(3)最后形成蓝色滤光图案112。蓝色滤光图案112具有沿数据线方向延伸的蓝色主体部分1122、配置在蓝色主体部分1122两侧且对应数据线位置处的蓝色侧边延伸部分1123、以及沿栅线方向延伸的蓝色第一延伸部分1121。蓝色第一延伸部分1121的长度大于或等于两个像素单元沿栅线方向的长度。
该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121在对应栅线和薄膜晶体管的位置处与对应的红色滤光图案111和绿色滤光图案110的主体部分层叠，蓝色主体部分1122与绿色第一延伸部分1101在对应栅线和薄膜晶体管的位置处层叠。从而彩膜层中，两种不同颜色的滤光图案在对应栅线和薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在该衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112的蓝色侧边延伸部分1123在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103以及相邻的红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113层叠。即，两种不同颜色的滤光图案在对应数据线位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖数据线在该衬底基板101上的正投影，以此来遮光。该蓝色滤光图案112为上述三种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
本实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，该阵列基板的制备方法中，彩膜层的形成工艺可如上所述。
综上，在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。即，红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处。从而，两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在衬底基板101上的正投影。在彩膜层中，红色滤光图案和绿色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分，蓝色滤光图案和红色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分。即，红色滤光图案和绿色滤光图案具有的彼此层叠的部分、绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分、以及蓝色滤光图案和红色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条数据线的位置处。从而，两种不同颜色的滤光图案在对应多条数据线的位置处具有层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖对应数据线在衬底基板101上的正投影。层叠的部分配置来分隔各滤光单元。
实施例三
本实施例提供一种阵列基板，如图1a、1b、图10-图13所示，该阵列基板包括衬底基板101以及位于衬底基板101上的彩膜层118、多个薄膜晶体管117、多条数据线107和多条栅线102。
例如，如图1a所示，多条数据线107和多条栅线102彼此交叉设置且互相绝缘，由此限定出多个呈阵列排列的像素单元119。
例如，如图1b所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元121。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元121。围绕各滤光单元121的周边区域即为至少两种不同颜色的滤光图案具有的层叠的部分122。层叠的部分122对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处。层叠的部分122配置来分隔各滤光单元121。该图中，用虚线表示出了设置在衬底基板上的多条数据线107、多条栅线102以及像素单元119。
如图10所示，彩膜层118包括多种不同颜色的滤光图案，例如包括绿色滤光图案110、红色滤光图案111和蓝色滤光图案112。
在彩膜层中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线102、多条数据线107和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠的部分层叠的部分配置来分隔各滤光单元121。并且，对应多条栅线102和多个薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，图11是图1a中沿A-A’向剖视图，图12是图1a中沿B-B’向剖视图，图13是图1a中沿C-C’向剖视图。如图11所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应薄膜晶体管117的位置处具有彼此层叠设置的部分。如图12所示，绿色滤光图案110和蓝色滤光图案112在对应栅线102的位置处具有彼此层叠设置的部分。如图13所示，红色滤光图案111和蓝色滤光图案112在对应数据线107的位置处具有彼此层叠设置的部分，蓝色滤光图案112和绿色滤光图案110在对应数据线107的位置处具有彼此层叠设置的部分。从而，对应数据线的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为光透过率最低的滤光图案。例如，光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案112。
需要说明的是，图11-图13只是例举相应剖切线位置处的彩膜层中滤光图案的层叠情况。
例如，如图11所示，该阵列基板包括薄膜晶体管117和像素电极116；该薄膜晶体管117包括栅极103、栅极绝缘层104、有源层105、源极106以及漏极108。
例如，薄膜晶体管117的栅极103与相应的栅线102电连接或一体形成，源极106与相应的数据线107电连接或一体形成。
例如，多条栅线102和/或多条数据线107的材质为金属，例如，为铝，铝合金，铜，铜合金，钼等中的任一的单层或其中几种的叠层。
例如，如图10所示，给出一种彩膜层形成工艺的流程示意图。该彩膜层包括三种不同颜色的滤光图案，形成工艺包括如下步骤。
(1)首先形成绿色滤光图案110，绿色滤光图案110具有沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101，沿数据线方向延伸的绿色主体部分1102，以及配置在绿色主体部分1102两侧且对应数据线位置处的绿色侧边延伸部分1103。沿栅线方向延伸的绿色第一延伸部分1101的长度大于或等于一个像素单元沿栅线方向的长度。
(2)其后形成红色滤光图案111。红色滤光图案111具有沿数据线方向延伸的红色主体部分1112以及配置在红色主体部分1112两侧且对应数据线位置处的红色侧边延伸部分1113，红色侧边延伸部分1113与绿色侧边延伸部分1103相接。
(3)最后形成蓝色滤光图案112。蓝色滤光图案112具有沿栅线方向延伸的蓝色第一延伸部分1121，沿数据线方向延伸的蓝色主体部分1122，配置在蓝色主体部分1122两侧且对应数据线位置处的蓝色侧边延伸部分1123，以及配置在绿色滤光图案110与红色滤光图案111之间的对应数据线位置处的蓝色第三延伸部分1124。该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121的长度大于或等于两个像素单元沿栅线方向的长度。该蓝色滤光图案112的蓝色第一延伸部分1121在对应栅线和薄膜晶体管位置处与对应的红色滤光图案111和绿色滤光图案110的主体部分1112、1102层叠，蓝色主体部分1122与绿色第一延伸部分1101在对应栅线和薄膜晶体管的位置处层叠。从而彩膜层中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应栅线和薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖栅线和薄膜晶体管在衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112的蓝色侧边延伸部分1123在对应数据线位置处与相邻的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1103以及相邻的红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1113层叠。该蓝色滤光图案112的蓝色第三延伸部分1124在绿色滤光图案110与红色滤光图案111之间的对应数据线位置处与相接的绿色滤光图案110的绿色侧边延伸部分1102和红色滤光图案111的红色侧边延伸部分1112层叠。从而彩膜层中，两种不同颜色的滤光图案在对应数据线位置处具有彼此层叠的部分。例如，该层叠的部分在衬底基板101上的正投影完全覆盖对应数据线在衬底基板101上的正投影。该蓝色滤光图案112为上述三种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
综上，在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。即，红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分、绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处。在彩膜层中，红色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案在对应多条数据线的位置处具有彼此层叠的部分。即，红色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分，绿色滤光图案和蓝色滤光图案具有的彼此层叠的部分对应多条数据线的位置处。
本实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；其中，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。
例如，该阵列基板的制备方法中，彩膜层的形成工艺可如上所述。
需要说明的是，本发明实施例的各彩色滤光图案并不限于上述的形成次序。本发明实施例的各彩色滤光图案的形成亦不限于给出的形成工艺。阵列基板中的其余结构及描述可参见实施例一。
需要说明的是，彩膜层中的层叠的部分的设置情况不限于上述实施例中给出的情形。只要是在彩膜层中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案即可。例如，至少三种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分。例如，至少三种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案。
需要说明的是，本发明的像素单元和/或滤光单元并不限于本发明实施例中所绘制的形式，还可以是其他排布方式。例如，“品”字形排布。同样地，本发明实施例采用的是本领域常见的RGB(红绿蓝)彩色滤光图案为例进行说明。本发明的实施例也可以使用其他颜色的滤光图案，例如，品红色、黄色、青色构成的三基色。
本发明实施例提供的阵列基板及其制备方法通过在彩膜层中，至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案。当光通过其中一种颜色的滤光图案时(例如为红色)，只有该种颜色的光能通过该颜色的滤光图案。当光再通过另一种颜色的滤光图案(例如为蓝色)时，因两种滤光图案能通过的光的波长不同，则当至少两种颜色的滤光图案重叠(层叠)时，可使透过彩膜层层叠的部分的光大为减少。则当对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案时，因其低的光透过率以及与其他颜色的滤光图案可通过的光的波长的较大差异，可使得透过彩膜层层叠的部分的光进一步减少。从而达到遮光的效果，起到类似于黑矩阵的效果。例如，不同颜色的滤光图案能透过的光的波长范围如图14所示。要达到最佳的遮光效果，需要两种滤光图案的透过波长最好没有重叠。例如采用红色滤光图案和蓝色滤光图案叠加可达到较好的效果。由此，本发明实施例提供的阵列基板可以不用另外设置黑矩阵，从而可以减少制备过程中形成黑矩阵的工艺，节省形成黑矩阵的掩模板(Mask)，节省材料，降低成本。并且，由于蓝色滤光图案的光透过率最低，与其他两种滤光图案层叠后可以达到优异的遮光效果。
实施例四
本实施例提供一种显示面板，包括本发明任一实施例的阵列基板，而不限于上面结合附图所述的阵列基板。该显示面板还包括与阵列基板相对置的对置基板，对置基板上不设置黑矩阵和彩膜层。对置基板与阵列基板相对设置，对置基板和阵列基板分别为显示面板的上下两个基板，通常在阵列基板上形成薄膜晶体管阵列等显示结构。
例如，该显示面板可以是多种类型的液晶显示面板，例如扭曲向列(TN)模式，垂直配向(VA)模式，面内开关(IPS)模式，边缘场开关(FFS)模式等。本发明实施例不限于具体的模式。根据显示面板模式的不同，与像素电极协作产生驱动液晶的电场的公共电极可以形成在阵列基板上，也可以形成在对置基板上。
本发明实施例提供的显示面板由于彩膜层形成在阵列基板上，能够减少成盒时阵列基板和对置基板的偏差，能够提高开口率，降低成本，提高产品显示品质。同时，由于本发明实施例提供的显示面板的阵列基板可以不用另外设置黑矩阵，从而可以减少制备过程中形成黑矩阵的工艺，节省形成黑矩阵的掩模板(Mask)，节省材料，降低成本。
实施例五
本实施例提供一种显示装置，包括上述任一显示面板。
综上，本发明至少一实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该阵列基板包括彩膜层，彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案。且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元。至少两种不同颜色的滤光图案在对应多条栅线、多条数据线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，层叠的部分配置来分隔各滤光单元，且对应多条栅线和多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案，以此来达到遮光的效果。由此，本发明实施例提供的阵列基板可以不用另外设置黑矩阵，从而可以减少制备过程中形成黑矩阵的工艺，节省形成黑矩阵的掩模板(Mask)，节省材料，降低成本。并且，光透过率最低的滤光图案，与其他至少一种滤光图案层叠后可以达到优异的遮光效果。
有以下几点需要说明：
(1)除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。
(2)本发明实施例附图中，只涉及到与本发明实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(3)为了清晰起见，在用于描述本发明的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(4)在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种阵列基板，包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；
其中，所述彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元；
至少两种不同颜色的滤光图案在对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，所述层叠的部分配置来分隔各所述滤光单元，且对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案；
所述多种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案；
对应所述多条数据线的位置处，至少两种不同颜色的滤光图案的层叠的部分包括蓝色滤光图案和红色滤光图案，且不包括绿色滤光图案。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，对应所述多条数据线的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述光透过率最低的滤光图案。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案和红色滤光图案，且不包括绿色滤光图案。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述光透过率最低的滤光图案为蓝色滤光图案。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述彩膜层位于所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的上方。
6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其中，所述多条数据线和所述多条栅线交叉限定出多个呈阵列排列的像素单元，每个所述像素单元对应一个所述滤光单元，且包括至少一个所述薄膜晶体管。
7.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，还包括平坦层，其中，所述平坦层位于所述彩膜层的上方，所述平坦层具有平坦或基本平坦的表面。
8.一种阵列基板的制备方法，包括在衬底基板上形成彩膜层、多个薄膜晶体管、多条数据线和多条栅线；
其中，所述彩膜层包括多种不同颜色的滤光图案，且每种颜色的滤光图案均包括多个滤光单元；
至少两种不同颜色的滤光图案在对应所述多条栅线、所述多条数据线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠的部分，所述层叠的部分配置来分隔各所述滤光单元，且对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案中之一为所述多种不同颜色的滤光图案中光透过率最低的滤光图案；
所述多种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案、红色滤光图案和绿色滤光图案；
对应所述多条数据线的位置处，至少两种不同颜色的滤光图案的层叠的部分包括蓝色滤光图案和红色滤光图案，且不包括绿色滤光图案。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制备方法，其中，所述对应所述多条栅线和所述多个薄膜晶体管的位置处具有彼此层叠设置的部分的至少两种不同颜色的滤光图案包括蓝色滤光图案和红色滤光图案，且不包括绿色滤光图案。
10.一种显示面板，包括权利要求1-7任一项所述的阵列基板。
11.一种显示装置，包括权利要求10所述的显示面板。
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