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CN104934438A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

一种显示基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

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CN104934438A
CN104934438A CN201510201757.1A CN201510201757A CN104934438A CN 104934438 A CN104934438 A CN 104934438A CN 201510201757 A CN201510201757 A CN 201510201757A CN 104934438 A CN104934438 A CN 104934438A
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BOE Technology Group Co Ltd
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Abstract

本发明提供了一种显示基板，包括：耐弯曲的区域；该区域包括衬底和金属线层，其中，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在该区域还包括位于所述衬底和所述金属线层之间的有机缓冲层，所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。本发明提供了上述显示基板的制作方法。本发明还提供了一种显示装置，包括上述显示基板。本发明通过在显示基板的边框部分预定弯曲的区域形成耐弯曲的结构，以增强其耐弯曲性，提高了柔性显示器的质量。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及半导体制备技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
柔性显示装置是一种基于柔性基底材料形成的显示装置。由于柔性显示装置具有可卷曲、宽视角、便于携带等特点，因此，在便携产品等多数显示应用领域，柔性显示装置具有广阔的应用前景以及良好的市场潜力。
现有技术中，柔性显示装置的边框部分的金属线上层和下层均由无机膜层构成，而无机膜层通常由SiNx或SiOx等材料制作，导致上述无机膜层的韧性较差，则柔性显示装置的边框在弯曲时由于无机膜层的断裂导致金属线更加容易发生断裂，从而对柔性显示器显示质量造成影响。
发明内容
针对现有技术中柔性显示装置的边框在弯曲时由于无机膜层的断裂导致金属线更加容易发生断裂的缺陷，本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置。
第一方面，本发明提供了一种显示基板，包括：耐弯曲的区域；
该区域包括衬底和金属线层，其中，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在该区域还包括位于所述衬底和所述金属线层之间的有机缓冲层，所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
优选地，在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底上还包括无机绝缘层，所述金属线层形成在所述无机绝缘层上。
优选地，所述显示基板还包括显示区域，所述耐弯曲的区域位于所述显示区域两侧的边框区域。
优选地，所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，在所述栅金属层上依次形成有层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
优选地，所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，在所述源漏金属层上依次形成有钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
优选地，在耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，且所述金属线层在耐弯曲的区域的厚度大于所述金属线层在与所述耐弯曲的区域相邻的区域的厚度，使得所述金属线层的上表面平坦。
优选地，所述衬底包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种。
优选地，所述封装层由多个无机层和有机层交替沉积形成。
第二方面，本发明提供了一种显示基板的制作方法，包括：
在衬底上形成无机绝缘层，其中，在预定耐弯曲的区域，去除或不形成无机绝缘层；
形成金属线层，从而在所述预定耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在预定耐弯曲的区域，在所述衬底上形成有机缓冲层，从而所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
优选地，所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，则该方法还包括：
在所述栅金属层上依次形成层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
优选地，所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，则该方法还包括：
在所述源漏金属层上依次形成钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
优选地，形成所述封装层包括：
交替沉积多个无机层和有机层，以形成所述封装层。
第三方面，本发明提供了一种显示装置，包括权利要求1至7任一项所述的显示基板。
由上述技术方案可知，本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，通过在显示基板的边框部分预定弯曲的区域形成耐弯曲的结构，以增强其耐弯曲性，提高了柔性显示器的质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些图获得其他的附图。
图1是本发明一实施例提供的显示基板的俯视图；
图2是本发明一实施例提供的显示基板的侧视图；
图3是本发明实施例1提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图4是本发明实施例2提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图5是本发明实施例3提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图6是本发明实施例4提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图7是本发明实施例5提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图8是本发明实施例6提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图9是本发明实施例7提供的显示基板的部分剖面结构示意图；
图10是本发明实施例8提供的显示基板的制作方法的流程示意图。
图1-9中的附图标记为：1-衬底；2-无机缓冲层；3-栅绝缘层；4-金属线层；5-层间绝缘层；6-钝化层；7-平坦层；8-像素限定层；9-封装层；10-有机缓冲层；12-显示区域；13-耐弯曲的区域；14-显示基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明一实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括：耐弯曲的区域。该区域包括衬底和金属线层，其中，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在该区域还包括位于所述衬底和所述金属线层之间的有机缓冲层，所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
具体来说，耐弯曲的区域中，若金属线层直接形成在衬底上，即金属线层直接与柔性衬底接触，可以避免栅绝缘层和无机缓冲层弯曲时断裂造成金属线层的断裂；而若先在衬底上形成有机缓冲层，再将金属线层直接形成在上述有机缓冲层上，也可以有效的避免该区域弯曲时造成金属线层的断裂。
本实施例中，如图1、图2所示，所述显示基板14还包括显示区域12，所述耐弯曲的区域13位于所述显示区域12两侧的边框区域。
本实施例中，在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底上还包括无机绝缘层，所述金属线层形成在所述无机绝缘层上。
可选地，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，则所述金属线层为栅金属层，在所述栅金属层上依次形成有层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
可选地，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，在所述源漏金属层上依次形成有钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
由此可见，当所述金属线层由栅金属层形成时，无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层；当所述金属线层由源漏金属层形成时，无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层及层间绝缘层。
本实施例中，在耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，且所述金属线层在耐弯曲的区域的厚度大于所述金属线层在与所述耐弯曲的区域相邻的区域的厚度，使得所述金属线层的上表面平坦。可理解的是，所述金属线层在耐弯曲的区域的厚度也可等于所述金属线层在与所述耐弯曲的区域相邻的区域的厚度。
本实施例中，所述衬底包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种。则衬底为柔性衬底。
本实施例中，所述封装层由多个无机层和有机层交替沉积形成。
本发明另一实施例提供了一种显示基板的制作方法，该方法包括如下步骤：
在衬底上形成无机绝缘层，其中，在预定耐弯曲的区域，去除或不形成无机绝缘层；形成金属线层，从而在所述预定耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在预定耐弯曲的区域，在所述衬底上形成有机缓冲层，从而所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
具体来说，在耐弯曲的区域中，金属线层直接形成在衬底上，则金属线层直接与柔性衬底接触，可以避免栅绝缘层和无机缓冲层弯曲时断裂造成金属线层的断裂；而若先在衬底上形成有机缓冲层，再将金属线层直接形成在上述有机缓冲层上，也可以有效的避免该区域弯曲时造成金属线层的断裂。
本实施例提供了一种显示基板的制作方法，通过在显示基板的边框部分预定弯曲的区域形成上述耐弯曲的结构，以增强其耐弯曲性，提高了柔性显示器的质量。
本实施例中，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，则该方法还包括：
在所述栅金属层上依次形成层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
可理解的是，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，则在预定耐弯曲的区域，刻蚀无机缓冲层和栅绝缘层，使得金属线层直接形成在衬底或者有机缓冲层上。
本实施例中，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，则该方法还包括：
在所述源漏金属层上依次形成钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
可理解的是，若所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，则在预定耐弯曲的区域，刻蚀无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，使得金属线层直接形成在衬底或者有机缓冲层上。
本实施例中，形成所述封装层的步骤具体包括：交替沉积多个无机层和有机层，以形成所述封装层。
本发明再一实施例提供了一种显示装置，包括上述的显示基板。该显示装置可为电视机、显示器、平板电脑、移动电话、电子纸、导航仪、数码相框、摄像机、照相机等具有显示功能的产品或部件。
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面提供几个具体的实施例来详细说明。
实施例1
如图3所示，为实施例1提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。应该理解，在图3和下面的图4-9中，表现的是图1的显示基板的耐弯曲区域13及其左右相邻区域的剖面图。
具体地，在耐弯曲的区域，包括衬底1和金属线层4，其中，所述金属线层4直接形成在所述衬底1上。
而在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底1上还包括无机缓冲层2和栅绝缘层3，而金属线层4形成在栅绝缘层3上，金属线层4为栅金属层。
进一步地，在所述金属线层4上依次形成有层间绝缘层5、钝化层6、平坦层7、像素限定层8及封装层9。
如此，在耐弯曲的区域，金属线层4直接形成在衬底1上，即金属线层4可直接与柔性衬底1接触，可以避免栅绝缘层3和无机缓冲层2弯曲时断裂而造成金属线层4的断裂。
实施例2
如图4所示，为实施例2提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
实施例2中的显示基板与实施例1中的显示基板结构的区别在于：
对层间绝缘层5和钝化层6进行了刻蚀，使得在耐弯曲的区域，不包括层间绝缘层5和钝化层6，且平坦层7直接形成在金属线层4上。
实施例2中的显示基板其他部分的结构与实施例1相同，在此不再赘述。
实施例3
如图5所示，为实施例3提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
实施例3中的显示基板与实施例2中的显示基板结构的区别在于：
金属线层4为源漏金属层，则在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底1上包括无机缓冲层2、栅绝缘层3和层间绝缘层5，而金属线层4形成在层间绝缘层5上。
进一步地，在所述金属线层4上依次形成有钝化层6、平坦层7、像素限定层8及封装层9。
实施例3中的显示基板其他部分的结构与实施例2相同，在此不再赘述。
实施例4
如图6所示，为实施例4提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
具体地，在耐弯曲的区域，包括衬底1、金属线层4、及位于所述衬底1和所述金属线层4之间的有机缓冲层10，其中，所述金属线层4直接形成在所述有机缓冲层10上。
而在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底1上还包括无机缓冲层2和栅绝缘层3，而金属线层4形成在栅绝缘层3上，金属线层4为栅金属层。
进一步地，在所述金属线层4上依次形成有层间绝缘层5、钝化层6、平坦层7、像素限定层8及封装层9。
可理解的是，可对层间绝缘层5、钝化层6进行刻蚀，使得在耐弯曲区域中，不包括层间绝缘层5和钝化层6，且平坦层7直接形成在金属线层4上。
如此，在耐弯曲的区域，金属线层4直接形成在有机缓冲层10上，即金属线层4直接与有机缓冲层10接触，在该区域弯曲时，有机缓冲层10不易断裂，则该结构可以有效的避免该区域弯曲时造成金属线层4的断裂。
实施例5
如图7所示，为实施例5提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
实施例5中的显示基板与实施例4中的显示基板结构的区别在于：
金属线层4为源漏金属层，则在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底1上包括无机缓冲层2、栅绝缘层3和层间绝缘层5，而金属线层4形成在层间绝缘层5上。
进一步地，在所述金属线层4上依次形成有钝化层6、平坦层7、像素限定层8及封装层9。
实施例5中的显示基板其他部分的结构与实施例4相同，在此不再赘述。
实施例6
如图8所示，为实施例6提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
实施例6中的显示基板与实施例1中的显示基板结构的区别在于：
在耐弯曲的区域中，增加金属线层4的厚度，使得金属线层4的上表面平坦。
由此可见，在耐弯曲的区域，金属线层4的厚度较大，则在该区域弯曲时，金属线层4不易断裂。
实施例6中的显示基板其他部分的结构与实施例1相同，在此不再赘述。
实施例7
如图9所示，为实施例7提供的一种显示基板的部分剖面结构示意图。
实施例7中的显示基板与实施例6中的显示基板结构的区别在于：
对层间绝缘层5和钝化层6进行了刻蚀，使得在耐弯曲的区域，不包括层间绝缘层5和钝化层6，且平坦层7直接形成在金属线层4上。
实施例7中的显示基板其他部分的结构与实施例6相同，在此不再赘述。
实施例8
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面结合如图3所示的显示基板结构的剖面示意图说明实施例8，如图10所示，该实施例的制作方法可具体包括如下步骤：
S1：在柔性衬底1上依次形成无机缓冲层2、栅绝缘层3；
S2：在预定耐弯曲的区域，完全去除无机缓冲层2和栅绝缘层3；
S3：形成栅金属层，刻蚀所述栅金属层形成金属线层4；
S4：在所述金属线层4上依次形成层间绝缘层5、钝化层6、平坦层7、像素限定层8及封装层9。
可理解的是，可进一步地刻蚀层间绝缘层5和钝化层6，使得在耐弯曲的区域，不包括层间绝缘层5和钝化层6，得到如图4所示的显示基板；可采用源漏金属层形成金属线层4，得到如图5所示的显示基板；可在耐弯曲的区域中，在衬底1和金属线层4之间形成有机缓冲层10，得到图6、图7所示的显示基板；可在耐弯曲的区域中，增加金属线层4的厚度，使得金属线层4的上表面平坦，得到图8、图9所示的显示基板等等，本实施例不对其进行限制，在此不再赘述。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解；其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (13)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：耐弯曲的区域；
该区域包括衬底和金属线层，其中，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在该区域还包括位于所述衬底和所述金属线层之间的有机缓冲层，所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在与所述耐弯曲的区域相邻的区域，所述衬底上还包括无机绝缘层，所述金属线层形成在所述无机绝缘层上。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括显示区域，所述耐弯曲的区域位于所述显示区域两侧的边框区域。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，在所述栅金属层上依次形成有层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，在所述源漏金属层上依次形成有钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，且所述金属线层在耐弯曲的区域的厚度大于所述金属线层在与所述耐弯曲的区域相邻的区域的厚度，使得所述金属线层的上表面平坦。
7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述衬底包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述封装层由多个无机层和有机层交替沉积形成。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成无机绝缘层，其中，在预定耐弯曲的区域，去除或不形成无机绝缘层；
形成金属线层，从而在所述预定耐弯曲的区域，所述金属线层直接形成在所述衬底上，或者，在预定耐弯曲的区域，在所述衬底上形成有机缓冲层，从而所述金属线层直接形成在所述有机缓冲层上。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述无机绝缘层包括无机缓冲层和栅绝缘层，所述金属线层为栅金属层，则该方法还包括：
在所述栅金属层上依次形成层间绝缘层、钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述无机绝缘层包括无机缓冲层、栅绝缘层和层间绝缘层，所述金属线层为源漏金属层，则该方法还包括：
在所述源漏金属层上依次形成钝化层、平坦层、像素限定层及封装层。
12.根据权利要求10或11所述的方法，其特征在于，形成所述封装层包括：
交替沉积多个无机层和有机层，以形成所述封装层。
13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至8任一项所述的显示基板。
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Application publication date: 20150923

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