CN104801472B - 一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法，涉及机械设备技术领域，为解决现有技术中基板支撑结构容易造成基板划伤、基板品质降低以及亮度不均匀的问题。该基板支撑结构包括支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端。本发明公开的一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法用于支撑基板。

Description

一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法

技术领域

本发明涉及机械设备技术领域，尤其涉及一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法。

背景技术

在液晶显示器的生产过程中，需要将经过涂布工艺后带有膜层的基板进行真空干燥以及烘烤，在对基板进行真空干燥或烘烤时，需要通过机械手将基板放置在支撑结构上，机械手在放置基板时，基板的一部分区域会先接触到支撑结构，随着机械手的下降，基板可完全放置在支撑结构上，当基板的其他区域与支撑结构接触时，先接触到支撑结构的区域会相对于支撑结构滑动，由于支撑机构顶端很尖，容易将基板的底部划伤，另外，机械手在下降过程中的震动及偏移也会造成基板底部划伤。

为避免上述问题，如图1所示，现有技术中的基板支撑结构包括支撑销01，支撑销01的顶端设置有支撑盘02，支撑盘02用于支撑基板。

由于支撑盘02的面积较大，在支撑基板时容易接触到像素区，导致基板的品质降低，另外，在烘烤时支撑盘02与基板接触也容易使基板产生印记，导致亮度不均匀。

发明内容

本发明的实施例提供一种基板支撑结构、真空干燥设备以及真空干燥的方法，解决现有技术中基板支撑结构容易造成基板划伤、基板品质降低以及亮度不均匀的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供了一种基板支撑结构，包括：

支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；

辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端。

优选地，所述支撑销内部设有空腔，所述驱动装置设置于所述空腔内，所述支撑销的侧壁设有沿径向贯穿所述支撑销的侧壁且沿轴向延伸的长槽，所述支撑杆的下端与所述驱动装置连接，所述支撑杆的顶端经由所述长槽伸出所述空腔外设置。

进一步地，所述支撑杆包括一个主杆和多个支杆，所述主杆的下端与所述驱动装置连接，所述主杆的上端与多个所述支杆的下端连接，所述支撑销的侧壁对应多个所述支杆的位置开设有多个所述长槽，多个所述支杆的顶端分别经由多个所述长槽伸出所述空腔外设置，多个所述支杆的顶端位于同一平面，所述支撑盘为多个，多个所述支撑盘一一对应设置于多个所述支杆的顶端。

可选地，多个所述支杆沿所述主杆的周向均匀分布。

优选地，所述支撑盘为真空吸盘，所述真空吸盘连接有真空发生器，当所述真空吸盘的吸附面与基板表面贴合时，所述真空发生器可抽出真空吸盘的吸附面与基板表面之间的气体，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间产生真空，并且可向真空吸盘的吸附面与基板表面之间充气，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间的真空解除。

进一步地，所述柔性材料包括橡胶。

可选地，所述支撑销的顶端为圆锥形结构。

可选地，还包括控制系统，所述控制系统和所述驱动装置连接，所述控制系统可控制所述驱动装置，使所述驱动装置带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向向上或向下移动。

本发明实施例提供的一种基板支撑结构，由于设置辅助支撑组件，当需要将基板放置在支撑销顶端时，驱动装置带动支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，直至支撑盘高于支撑销的顶端，此时，将基板放置于支撑盘上，由于支撑盘由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，驱动装置带动支撑杆反方向移动，当支撑盘与支撑销的顶端位于同一水平面时，基板可平稳的与支撑销的顶端接触，从而防止基板相对支撑销的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置继续带动支撑销移动，直至支撑盘低于支撑销的顶端，可防止在真空干燥或烘烤时支撑盘与基板接触，从而避免了支撑盘接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生；当需要将基板取出时，驱动装置带动支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，当支撑盘与支撑销的顶端位于同一水平面时，支撑盘与基板接触，并使基板平稳的离开支撑销的顶端，防止基板相对支撑销的顶端滑动，从而防止基板的划伤。因此，本发明实施例提供的基板支撑结构不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。

本发明实施例还提供了一种真空干燥设备，包括支撑平台，所述支撑平台的表面设有多个上述任一技术方案中的基板支撑结构。

本发明实施例还提供了一种利用上述的真空干燥设备对基板进行真空干燥的方法，包括以下步骤：

控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面高于各支撑销顶端形成的平面；

将待真空干燥的基板放置于支撑盘形成的平面上；

控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向下移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面低于各支撑销顶端形成的平面，从而使得待真空干燥的基板落入各支撑销顶端形成的平面上；

启动真空干燥设备对位于支撑销顶端形成的平面上的基板进行真空干燥。

本发明实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，由于设置多个基板支撑结构，当需要对基板进行真空干燥时，控制驱动装置带动多个支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面高于各支撑销顶端形成的平面时，将基板放置于各支撑盘形成的平面上，由于支撑盘由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，控制驱动装置带动各支撑杆向下移动相同的距离，当各支撑盘形成的平面与各支撑销的顶端形成的平面平齐时，基板可平稳的与各支撑销的顶端接触，从而防止基板相对支撑销的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置继续带动各支撑销向下移动，直至各支撑盘形成的平面低于各支撑销的顶端形成的平面，防止在真空干燥时各支撑盘与基板接触，从而避免了支撑盘接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生。因此，本发明实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。

附图说明

图1为现有技术中基板支撑结构的示意图；

图2为本发明实施例基板支撑结构的示意图；

图3为本发明实施例基板支撑结构的剖视图；

图4为本发明实施例基板支撑结构中驱动装置和控制系统的连接示意图；

附图标记：

1-支撑销； 11-空腔； 12-长槽；

2-驱动装置； 3-支撑杆； 31-主杆；

32-支杆； 4-支撑盘； 5-控制系统。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

本发明实施例提供了一种基板支撑结构，如图2所示，包括支撑销1，支撑销1的顶端用于支撑基板；辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置2，驱动装置2连接有支撑杆3，支撑杆3的顶端设有支撑盘4，支撑盘4由柔性材料制作，驱动装置2可带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向移动，随着支撑杆3的移动，支撑盘4可高于或低于支撑销1的顶端。

本发明实施例提供的一种基板支撑结构，由于设置辅助支撑组件，当需要将基板放置在支撑销1顶端时，驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向移动，直至支撑盘4高于支撑销1的顶端，此时，将基板放置于支撑盘4上，由于支撑盘4由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘4滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，驱动装置2带动支撑杆3反方向移动，当支撑盘4与支撑销1的顶端位于同一水平面时，基板可平稳的与支撑销1的顶端接触，从而防止基板相对支撑销1的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置2继续带动支撑销1移动，直至支撑盘4低于支撑销1的顶端，可防止在真空干燥或烘烤时支撑盘4与基板接触，从而避免了支撑盘4接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生；当需要将基板取出时，驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向移动，当支撑盘4与支撑销1的顶端位于同一水平面时，支撑盘4与基板接触，并使基板平稳的离开支撑销1的顶端，防止基板相对支撑销1的顶端滑动，从而防止基板的划伤。因此，本发明实施例提供的基板支撑结构不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。

为了提高基板支撑结构的紧凑性，参照图2和图3，支撑销1内部设有空腔11，驱动装置2设置于空腔11内，支撑销1的侧壁设有沿径向贯穿支撑销1的侧壁且沿轴向延伸的长槽12，支撑杆3的下端与驱动装置2连接，支撑杆3的顶端经由长槽12伸出空腔11外设置，由此，将支撑销1的内部空间合理利用，从而提高了基板支撑结构的紧凑性，节省了占用空间。

进一步的，参照图2，支撑杆3包括一个主杆31和多个支杆32，主杆31的下端与驱动装置2连接，主杆31的上端与多个支杆32的下端连接，支撑销1的侧壁对应多个支杆32的位置开设有多个长槽12，多个支杆32的顶端分别经由多个长槽12伸出空腔11外设置，多个支杆32的顶端位于同一平面，支撑盘4为多个，多个支撑盘4一一对应设置于多个支杆32的顶端，由此，通过多个支撑盘4对基板进行支撑，使基板在移动过程中更平稳，当基板与支撑销1的顶端接触时，可防止基板相对支撑销1的顶端滑动，从而防止基板被划伤。

在上述实施例的基础上，多个支杆32沿主杆31的周向均匀分布，由此，使基板所受的支撑力更均匀，从而进一步提高了基板在移动过程中的稳定性。

为了防止基板在跟随支撑盘4移动的过程中滑落，支撑盘4为真空吸盘，所述真空吸盘连接有真空发生器(图中未示出)，当基板放置于真空吸盘上时，所述真空吸盘的吸附面与基板表面贴合，此时，通过所述真空发生器可抽出真空吸盘的吸附面与基板表面之间的气体，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间产生真空，从而防止基板在跟随支撑盘4移动的过程中滑落，当需要将基板取出时，通过真空发生器向真空吸盘的吸附面与基板表面之间充气，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间的真空解除，从而方便将基板取出。

为了降低基板支撑结构的制造成本，在本发明实施例中，所述柔性材料包括橡胶，橡胶材料较柔软，与基板接触时可避免将基板划伤，而且价格低廉，可降低基板支撑结构的制造成本。

参照图2，支撑销1的顶端为圆锥形结构，由此，缩小了支撑销1与基板的接触面积，从而避免了支撑销1与像素区接触后影响基板的品质。

另外，支撑盘4和支撑杆3的顶端可拆卸连接，当支撑盘4损坏时，可直接更换支撑盘4，从而降低了基板支撑结构的维修成本。

参照图4，本发明实施例的基板支撑结构还包括控制系统5，控制系统5和驱动装置2连接，控制系统5可控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向向上或向下移动。当需要将基板放置在支撑销1顶端时，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向向上移动，直至支撑盘4高于支撑销1的顶端时，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3停止，此时，即可将基板放置于支撑盘4上，基板放置完成后，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向向下移动，直至支撑盘4低于支撑销1的顶端时，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3停止；当需要将基板取出时，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3沿平行于支撑销1的方向向上移动，当支撑盘4将基板顶起时，控制系统5控制驱动装置2，使驱动装置2带动支撑杆3停止，由此，实现了基板支撑结构的自动控制。

本发明实施例还提供了一种真空干燥设备，包括支撑平台(图中未示出)，所述支撑平台的表面设有多个如上述任一实施例所述的基板支撑结构。

关于本发明实施例的真空干燥设备的其他构成等已为本领域的技术人员所熟知，在此不再详细说明。

本发明实施例还提供了一种利用上述的真空干燥设备对基板进行真空干燥的方法，包括以下步骤：控制各基板支撑结构的驱动装置2，使各驱动装置2带动各支撑杆3向上移动相同的距离，直至各支撑盘4形成的平面高于各支撑销1顶端形成的平面；将待真空干燥的基板放置于支撑盘4形成的平面上；控制各基板支撑结构的驱动装置2，使各驱动装置2带动各支撑杆3向下移动相同的距离，直至各支撑盘4形成的平面低于各支撑销1顶端形成的平面，从而使得待真空干燥的基板落入各支撑销1顶端形成的平面上；启动真空干燥设备对位于支撑销1顶端形成的平面上的基板进行真空干燥。

在启动真空干燥设备对位于支撑销1顶端形成的平面上的基板进行真空干燥后，还包括以下步骤：控制各基板支撑结构的驱动装置2，使各驱动装置2带动各支撑杆3向上移动相同的距离，直至各支撑盘4形成的平面将真空干燥完毕的基板顶起；取出真空干燥完毕的基板。

本发明实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，由于设置多个基板支撑结构，当需要对基板进行真空干燥时，控制驱动装置2带动多个支撑杆3向上移动相同的距离，直至各支撑盘4形成的平面高于各支撑销1顶端形成的平面时，将基板放置于各支撑盘4形成的平面上，由于支撑盘4由柔性材料制作，可防止基板相对支撑盘4滑动时造成基板的划伤，基板放置完成后，控制驱动装置2带动各支撑杆3向下移动相同的距离，当各支撑盘4形成的平面与各支撑销1的顶端形成的平面平齐时，基板可平稳的与各支撑销1的顶端接触，从而防止基板相对支撑销1的顶端滑动，进而避免基板的划伤，此后，驱动装置2继续带动各支撑销1向下移动，直至各支撑盘4形成的平面低于各支撑销1的顶端形成的平面，防止在真空干燥时各支撑盘4与基板接触，从而避免了支撑盘4接触到像素区后对基板品质造成影响以及亮度不均匀的问题产生；当基板真空干燥完成后，控制驱动装置2带动各支撑杆3向上移动相同的距离，当各支撑盘4形成的平面与各支撑销1的顶端形成的平面平齐时，各支撑盘4与基板接触，并使基板平稳的离开各支撑销1的顶端，防止基板相对支撑销1的顶端滑动，从而防止基板的划伤。因此，本发明实施例提供的真空干燥设备以及利用该设备对基板进行真空干燥的方法，不仅可防止基板划伤，还可防止基板品质降低以及亮度不均匀的问题产生。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种基板支撑结构，其特征在于，包括：

支撑销，所述支撑销的顶端用于支撑基板；

辅助支撑组件，所述辅助支撑组件包括驱动装置，所述驱动装置连接有支撑杆，所述支撑杆的顶端设有支撑盘，所述支撑盘由柔性材料制作，所述驱动装置可带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向移动，随着所述支撑杆的移动，所述支撑盘可高于或低于所述支撑销的顶端；

所述支撑销内部设有空腔，所述驱动装置设置于所述空腔内，所述支撑销的侧壁设有沿径向贯穿所述支撑销的侧壁且沿轴向延伸的长槽，所述支撑杆的下端与所述驱动装置连接，所述支撑杆的顶端经由所述长槽伸出所述空腔外设置。

2.根据权利要求1所述的基板支撑结构，其特征在于，所述支撑杆包括一个主杆和多个支杆，所述主杆的下端与所述驱动装置连接，所述主杆的上端与多个所述支杆的下端连接，所述支撑销的侧壁对应多个所述支杆的位置开设有多个所述长槽，多个所述支杆的顶端分别经由多个所述长槽伸出所述空腔外设置，多个所述支杆的顶端位于同一平面，所述支撑盘为多个，多个所述支撑盘一一对应设置于多个所述支杆的顶端。

3.根据权利要求2所述的基板支撑结构，其特征在于，多个所述支杆沿所述主杆的周向均匀分布。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板支撑结构，其特征在于，所述支撑盘为真空吸盘，所述真空吸盘连接有真空发生器，当所述真空吸盘的吸附面与基板表面贴合时，所述真空发生器可抽出真空吸盘的吸附面与基板表面之间的气体，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间产生真空，并且可向真空吸盘的吸附面与基板表面之间充气，使所述真空吸盘的吸附面与基板表面之间的真空解除。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的基板支撑结构，其特征在于，所述柔性材料包括橡胶。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的基板支撑结构，其特征在于，所述支撑销的顶端为圆锥形结构。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的基板支撑结构，其特征在于，还包括控制系统，所述控制系统和所述驱动装置连接，所述控制系统可控制所述驱动装置，使所述驱动装置带动所述支撑杆沿平行于所述支撑销的方向向上或向下移动。

8.一种真空干燥设备，其特征在于，包括支撑平台，所述支撑平台的表面设有多个如权利要求1～7中任一项所述的基板支撑结构。

9.一种利用权利要求8所述的真空干燥设备对基板进行真空干燥的方法，其特征在于，包括以下步骤：

控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面高于各支撑销顶端形成的平面；

将待真空干燥的基板放置于支撑盘形成的平面上；

控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向下移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面低于各支撑销顶端形成的平面，从而使得待真空干燥的基板落入各支撑销顶端形成的平面上；

启动真空干燥设备对位于支撑销顶端形成的平面上的基板进行真空干燥。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在启动真空干燥设备对位于支撑销顶端形成的平面上的基板进行真空干燥后，还包括以下步骤：

控制各基板支撑结构的驱动装置，使各驱动装置带动各支撑杆向上移动相同的距离，直至各支撑盘形成的平面将真空干燥完毕的基板顶起；

取出真空干燥完毕的基板。