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CN104536633B - 阵列基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

阵列基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法和显示装置，该阵列基板包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形；其中，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。与现有技术中单独形成一层触控电极的方式相比，能够有效降低触控显示装置的厚度以及制作难度。

Description

阵列基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展，触摸屏(Touch Screen Panel)已经逐渐遍及人们的生活中。目前，触摸屏按照组成结构可以分为：外挂式触摸屏(Add on Mode Touch Panel)、覆盖表面式触摸屏(On Cell Touch Panel)、以及内嵌式触摸屏(In Cell Touch Panel)。其中，外挂式触摸屏是将触摸屏与液晶显示屏(Liquid Crystal Display，LCD)分开生产，然后贴合到一起成为具有触摸功能的液晶显示屏，外挂式触摸屏存在制作成本较高、光透过率较低、模组较厚等缺点。而内嵌式触摸屏将触摸屏的触控电极内嵌在液晶显示屏内部，可以减薄模组整体的厚度，又可以大大降低触摸屏的制作成本，受到各大面板厂家青睐。
目前，现有的内嵌(In cell)式触摸屏是利用互电容或自电容的原理实现检测手指触摸位置。其中，利用自电容的原理可以在触摸屏中设置多个同层设置且相互绝缘的自电容电极，当人体未触碰屏幕时，各自电容电极所承受的电容为一固定值，当人体触碰屏幕时，对应的自电容电极所承受的电容为固定值叠加人体电容，触控侦测芯片在触控时间段通过检测各自电容电极的电容值变化可以判断出触控位置。由于人体电容可以作用于全部自电容，相对于人体电容仅能作用于互电容中的投射电容，由人体碰触屏幕所引起的触控变化量会大于利用互电容原理制作出的触摸屏，因此相对于互电容的触摸屏能有效提高触控的信噪比，从而提高触控感应的准确性。
现有技术中，一般是在阵列基板或者彩膜基板上形成单独形成一层触控电极图形，触控电极图形包括多个独立的触控电极作为自容式电容的一个极板，并形成与各个触控电极走线连接的触控电极走线检测触控信号。这种方式会导致触控显示装置整体的厚度增加。
发明内容
本发明的一个目的是降低触控显示装置的厚度。
本发明提供了一种阵列基板，包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形；其中，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。
进一步的，所述触控电极走线图形形成在像素开口区域之外。
进一步的，所述公共电极线图形在所述触控电极走线图形垂直对应的区域具有空隙。
进一步的，所述触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形垂直对应的区域之外。
进一步的，还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形，所述屏蔽线图形形成在所述数据线图形所对应的区域，用于屏蔽所述数据线图形产生的电场。
进一步的，所述触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间。
进一步的，所述阵列基板包括形成在所述公共电极图形所在的层结构与所述数据线图形所在的层结构之间的绝缘结构，所述触控电极走线图形形成在所述绝缘结构中。
本发明还提供了一种制作阵列基板的方法，包括：在基底上形成触控电极走线图形，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线；形成公共电极图形，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极；其中，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。
进一步的，形成公共电极图形包括：
沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形；
其中，对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形包括刻蚀掉所述触控电极走线图形上方垂直对应的公共电极层。
进一步的，在基底上形成触控电极走线图形包括：在形成数据线图形之后，在形成所述公共电极图形之前，形成触控电极走线图形。
进一步的，该方法还包括形成所述触控电极走线图形时，在数据线图形所对应的区域同层形成屏蔽线图形。
本发明还提供了一种显示装置，包括上述任一项所述的阵列基板。
本发明中，设置公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极。与现有技术中单独形成一层触控电极的方式相比，能够有效降低触控显示装置的厚度以及制作难度。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种阵列基板的截面示意图；
图2为本发明实施例一提供的阵列基板中触控电极走线图形和公共电极图形之间的位置关系示意图；
图3为本发明实施例二提供的一种阵列基板的截面示意图；
图4为本发明实施例二提供的阵列基板中触控电极走线图形和公共电极图形之间的位置关系示意图；
图5为本发明实施例三提供的一种阵列基板的截面示意图；
图6为本发明实施例四提供的制作阵列基板的方法的流程示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他的实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明实施例一提供了一种阵列基板，如图1和图2所示，该阵列基板包括：基底1、形成在所述基底上的数据线图形，所述数据线图形由图中所示的数据线21构成、形成在所述数据线图形之上的绝缘层3、形成在所述绝缘层3之上的触控电极走线图形4，所述触控电极走线图形由多个图中所示的多个图中所示的触控电极走线41组成、形成在所述绝缘层3和触控电极走线图形4之上的钝化层5，形成在所述钝化层5之上的公共电极图形，所述公共电极图形由相互间隔开的块状电极61构成。
本发明中，复用公共电极图形作为触控电极图形，通过这种方式，能够避免再单独形成一层公共电极图形，能够降低相应的触控显示装置的厚度，并能减少一道单独形成触控电极图形的工艺，从而降低制作难度。
在图1中，还示出了像素电极图形7，该像素电极图形7与数据线图形同层形成。在实际应用中，上述的阵列基板还应包括用于形成晶体管的其他结构比如栅电极图形、源漏电极图形等其他结构，这些结构在图中共同表示为8，不再进行一一说明。不难理解，这里的钝化层本身也是绝缘的，与上述的绝缘层一起构成将公共电极图形和数据线图形、栅线图形进行隔离绝缘的绝缘结构。
在具体实施时，这里的块状电极61的大小可以与一个像素区域的大小一致，在每一个像素区域都形成一个触控电极；或者也可以使块状电极61的大小与多个像素区域的大小一致。块状的公共电极61可以形成在特定区域，也可以形成在整个显示区域。
在具体实施时，这里的触控电极走线图形可以形成在像素开口区域之外，具体来说，可以形成在对应于彩膜基板的黑矩阵的区域。这样做的好处是能够避免影响像素的开口率。
这里的公共电极图形可以由氧化铟锡制作，触控电极走线图形可以由金属制作，具体的，这里的触控电极走线图形可以与该阵列基板中的栅线的材料一致。
实施例二
本发明实施例二提供了一种阵列基板，如图3和图4所示，与实施例一不同的是，在实施例二中，所述公共电极图形在触控电极走线图形中的触控电极走线41的垂直对应区域具有空隙(如图3和4所示，在正上方触控电极走线41的正上方形成有空隙A)，也即是在触控电极走线41的正上方的区域内的至少部分区域没有形成公共电极层。这样做的好处是，能够有效减少触控电极图形与公共电极图形形成垂直交叠电容，从而避免因交叠电容引起触控电极图形的延时。
实施例三
本发明实施例三提供了一种阵列基板如图5所示，与实施例二不同的是，在实施例三中，所述触控电极走线图形中的触控电极走线41形成在所述阵列基板的数据线图形中的数据线21所对应的区域之外。相类似的，通过将触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形所对应的区域之外，也能够避免触控电极图形和数据线图形之间形成垂直交叠电容，提高触控电极图形的响应速度。
进一步的，如图5所示，该阵列基板还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形，所述屏蔽线图形由图中所示的屏蔽线91组成，屏蔽线图形中的屏蔽线91形成在所述数据线图形的中的数据线21所对应的区域(如图4所示，屏蔽线91形成在数据线21的正上方)，用于屏蔽所述数据线21产生的电场。
通过形成屏蔽线图形以屏蔽数据线图形所产生的电场，能够进一步降低触控电极图形和数据线图形之间的电容，提高触控电极图形的响应速度。在具体实施时，这里的屏蔽线图形中的屏蔽线的走向与数据线以及触控电极走线的走向一致。需要指出的是，这里所指的屏蔽线91形成在所述数据线图形的中的数据线21所对应的区域并不是限定屏蔽线91位于数据线21的正上方，比如也可以将屏蔽线91形成在数据线21上方偏向触控电极走线41的一侧，这样同样也能达到较好的屏蔽效果，相应的方案也应该落入本发明的保护范围。
需要指出的是，不将触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所对应的区域之外而单独形成触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形所对应的区域或者单独形成屏蔽线图形以屏蔽数据线图形所产生的电场也都能降低触控电极图形和数据线图形之间的电容，提高触控电极走线的响应速度。
需要指出的是，虽然在上述的各个实施例中，示出的是触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间的情形。但是在实际应用中，将触控电极走线图形形成在其他位置也能够实现降低相应的触控显示装置的厚度，并降低制作难度的目的，相应的技术方案也应该落入本发明的保护范围。
实施例四
本发明还提供了一种制作阵列基板的方法，该方法可以用于制作上述任一实施例中的阵列基板，如图6所示，该方法包括：
步骤S1，通过第一次图案化工艺在基底上形成栅电极图形；
步骤S2，通过第二次图案化工艺形成有源层图形；
步骤S3，通过第三次图案化工艺形成像素电极图形和数据线图形；
步骤S4，通过第四次图案化工艺形成绝缘层图形；
步骤S5，通过第五次图案化工艺形成触控电极走线图形；
步骤S6，通过第六次图案化工艺形成钝化层图形；
步骤S7，通过第七次图案化工艺形成公共电极图形。
各个图案化工艺可以是指在形成各个层结构之后，在相应的层结构上涂覆光刻胶，之后使用掩膜板对光刻胶进行曝光显影，之后利用曝光显影之后的光刻胶作为保护层对对应的层结构进行刻蚀形成对应的图形。通过这种方式，具体到步骤S7中，可以沉积透明电极材料(比如氧化铟锡等)形成公共电极层，之后对公共电极层进行曝光、显影、刻蚀将公共电极层刻蚀为多个块状电极，该多个块状电极构成公共电极层图形。
具体的，在上述的步骤S7中，还可以将公共电极层中对应于触控电极走线上方的公共电极刻蚀掉，此时该制作方法能够用于形成实施例二所述的阵列基板。
具体的，在上述的步骤S5中，还可以在数据线图形所对应的区域同层同时形成屏蔽线图形。此时该制作方法还能够用以制作实施例三所述的阵列基板。
需要指出的是，虽然实施例四中示出的是通过七次图案化工艺制作阵列基板的情况，但是在实际应用中，阵列基板的制作过程并不仅限于此，只要能够：在基底上形成触控电极走线图形和公共电极图形，且所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极，其对应的技术方案所制作的阵列基板均能够解决本发明所提出的技术问题，相应的技术方案也应该落入本发明的保护范围。
本发明还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任一实施例所述的阵列基板。
这里的显示装置可以为：电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但是，本发明的保护范围不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替代，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括基底、形成在所述基底上的公共电极图形和触控电极走线图形；其中，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极；
所述块状电极在所述触控电极走线垂直对应的区域具有空隙。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在像素开口区域之外。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在所述阵列基板的数据线图形垂直对应的区域之外。
4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括与所述阵列基板的触控电极走线图形同层形成的屏蔽线图形，所述屏蔽线图形形成在所述数据线图形所对应的区域，用于屏蔽所述数据线图形产生的电场。
5.如权利要求1-4其中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极走线图形形成在所述公共电极图形所在的层结构与阵列基板的数据线图形所在的层结构之间。
6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括形成在所述公共电极图形所在的层结构与所述数据线图形所在的层结构之间的绝缘结构，所述触控电极走线图形形成在所述绝缘结构中。
7.一种制作阵列基板的方法，其特征在于，包括：在基底上形成触控电极走线图形，所述触控电极走线图形包括多条触控电极走线；形成公共电极图形，所述公共电极图形包括多个相互间隔开的块状电极；
其中，每一条触控电极走线对应连接一个块状电极；
所述块状电极在所述触控电极走线垂直对应的区域具有空隙。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，形成公共电极图形包括：
沉积公共电极层，并对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形；
其中，对所述公共电极层进行刻蚀形成公共电极图形包括刻蚀掉所述触控电极走线图形上方垂直对应的公共电极层。
9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，在基底上形成触控电极走线图形包括：在形成数据线图形之后，在形成所述公共电极图形之前，形成触控电极走线图形。
10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，该方法还包括形成所述触控电极走线图形时，在数据线图形所对应的区域同层形成屏蔽线图形。
11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。
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