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CN104317106A - 显示基板及其制造方法和显示装置 - Google Patents

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CN104317106A
CN104317106A CN201410670053.4A CN201410670053A CN104317106A CN 104317106 A CN104317106 A CN 104317106A CN 201410670053 A CN201410670053 A CN 201410670053A CN 104317106 A CN104317106 A CN 104317106A
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liquid crystal
phase delay
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layer
display base
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CN201410670053.4A
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秦广奎
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BOE Technology Group Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置。该显示基板包括第一衬底基板、相位延迟层和第一配向层，所述相位延迟层位于所述第一衬底基板的上方，所述第一配向层位于所述相位延迟层的上方；所述相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。本发明提供的技术方案中，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，极大的抵消了液晶产生的相位延迟量，从而避免了严重的暗态漏光现象，提高了对比度。

Description

显示基板及其制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。
背景技术
对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称：LCD)来说，其玻璃基板属于各项同性材料，没有相位延迟量，因此在正常情况下该液晶显示器不会产生漏光现象。但是当液晶显示器受到外力时，在压力作用下玻璃基板会产生各向异性，根据受力方向的不同，所产生的相位延迟量的方向也有所不同。
下面通过空盒和液晶盒在弯曲压力作用下的对比来说明造成暗态漏光的原因。图1a为空盒在弯曲压力作用下相位延迟量的示意图，图1b为图1a中空盒在邦加球上的漏光示意图，如图1a和图1b所示，空盒包括相对设置的彩膜基板101和阵列基板201，彩膜基板101的外侧设置有偏振片，阵列基板201的外侧设置有偏振片，而彩膜基板101和阵列基板201之间未设置液晶，其中，偏振片在图中未示出。图1a中的箭头是指两个基板的受力方向，其中，彩膜基板101受到的是向内的压缩力，阵列基板201受到的是向外的膨胀力，因此受力方向相互垂直，而相位延迟量的相位延迟方向是由受到的力决定的，因此相位延迟量的相位延迟方向相互垂直。当空盒在外部压力作用下弯曲时，彩膜基板101和阵列基板201上产生的相位延迟量(图中箭头方向)的方向相互垂直，因此彩膜基板101和阵列基板201上产生的相位延迟量相互抵消，从而使得空盒在外部压力作用下弯曲时不会产生暗态漏光。图2a为液晶盒在弯曲压力作用下相位延迟量的示意图，图2b为图2a中空盒在邦加球上的漏光示意图，图2c为图2a中液晶盒在受到外部压力的情况下漏光状态的示意图，如图2a和图2b所示，液晶盒包括相对设置的彩膜基板101和阵列基板201，彩膜基板101的外侧设置有偏振片，阵列基板201的外侧设置有偏振片，而彩膜基板101和阵列基板201之间设置有液晶3，其中，偏振片在图中未示出。彩膜基板101和阵列基板201上产生的相位延迟量的相位延迟方向相互垂直，如图2c所示，当液晶盒在外部压力作用下弯曲时，彩膜基板101和阵列基板201上产生的相位延迟量均为3nm，此时显示装置在受到外部压力的情况下发生弯曲，因此在一定波长范围内该显示装置的透过率(transmittance)不为0，因此液晶3产生的相位延迟量与彩膜基板101和阵列基板201上产生的相位延迟量叠加后，会造成严重的暗态漏光，从而导致对比度下降。
综上所述，当液晶显示装置在外力作用下弯曲时，液晶3产生的相位延迟量会造成严重的暗态漏光，从而导致对比度下降。
发明内容
本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于提高对比度。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括第一衬底基板、相位延迟层和第一配向层，所述相位延迟层位于所述第一衬底基板的上方，所述第一配向层位于所述相位延迟层的上方；
所述相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。
可选地，所述相位延迟层的相位延迟量与所述液晶的相位延迟量之间具备差值或者相等。
可选地，所述差值的绝对值小于或等于50nm且大于0。
可选地，所述相位延迟层包括第三配向层和位于所述第三配向层之上的液晶聚合物。
可选地，所述液晶和所述液晶聚合物的极性相同或者不同。
可选地，所述液晶聚合物为热致液晶层或者溶致液晶层。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括相对设置的上述显示基板和对置基板，所述显示基板和所述对置基板之间设置有液晶；
所述对置基板包括第二衬底基板和位于所述第二衬底基板上方的第二配向层。
可选地，所述显示装置包括高级超维场转换技术显示装置或者平面内切换显示装置。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：
在第一衬底基板的上方形成相位延迟层，所述相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直；
在所述相位延迟层的上方形成第一配向层。
可选地，所述相位延迟层包括第三配向层和热致液晶层；
所述在第一衬底基板的上方形成相位延迟层包括：
在所述第一衬底基板的上方形成所述第三配向层；
在所述第三配向层之上形成所述液晶聚合物。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，极大的抵消了液晶产生的相位延迟量，从而避免了严重的暗态漏光现象，提高了对比度。
附图说明
图1a为空盒在弯曲压力作用下相位延迟量的示意图；
图1b为图1a中空盒在邦加球上的漏光示意图；
图2a为液晶盒在弯曲压力作用下相位延迟量的示意图；
图2b为图2a中空盒在邦加球上的漏光示意图；
图2c为图2a中液晶盒在受到外部压力的情况下漏光状态的示意图；
图3为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；
图4为本发明实施例二提供的一种显示装置的结构示意图；
图5a为图4中显示装置在未受到外部压力的情况下漏光状态的示意图；
图5b为图4中显示装置在受到外部压力的情况下漏光状态的示意图；
图6为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置进行详细描述。
图3为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图，如图3所示，该显示基板包括第一衬底基板11、相位延迟层12和第一配向层13，相位延迟层12位于第一衬底基板11的上方，第一配向层13位于相位延迟层12的上方，相位延迟层12的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。
显示基板可以为彩膜基板。当该显示基板应用于显示装置时，该显示装置可包括相对设置的显示基板和对置基板，显示基板和对置基板之间设置有液晶。对置基板可包括第二衬底基板和位于第二衬底基板上方的第二配向层，液晶位于第一配向层和第二配向层之间。其中，对置基板可以为阵列基板。
相位延迟层12的相位延迟量与液晶的相位延迟量之间具备差值或者相等。其中，该差值的绝对值小于或等于50nm且大于0。本实施例中，优选地，相位延迟层12的相位延迟量与液晶的相位延迟量相等。
相位延迟层12包括第三配向层121和位于第三配向层121之上的液晶聚合物122。当显示基板为彩膜基板时，第一衬底基板11之上形成有黑矩阵和彩色矩阵图形，彩色矩阵图形位于黑矩阵之间，且彩色矩阵图形的边缘位于黑矩阵之上，其中，黑矩阵和彩色矩阵图形在图3中未示出。第三配向层121可位于彩色矩阵图形之上，而第一配向层13位于液晶聚合物122之上。优选地，液晶聚合物122可以为热致液晶层(ReactiveMesogens，简称：RM)。液晶和液晶聚合物122的极性相同或者不同。具体地，液晶为正性液晶，液晶聚合物122为负性液晶聚合物；或者，液晶为负性液晶，液晶聚合物122为正性液晶聚合物；或者，液晶为正性液晶，液晶聚合物122为正性液晶聚合物；或者，液晶为负性液晶，液晶聚合物122为负性液晶聚合物。优选地，液晶和液晶聚合物122的极性不同。显示装置中由于相位延迟层12的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，因此可抵消液晶3产生的相位延迟量以提高对比度，但上述抵消方式会造成显示装置的视角下降，而液晶和液晶聚合物122的极性不同时可在一定程度上扩大显示装置的视角。
优选地，相位延迟层12的表面为平坦表面，即：液晶聚合物122的表面为平坦表面，因此该相位延迟层12可起到平坦层的作用，从而使得显示基板中无需再设置平坦层，从而简化了工艺。
可选地，该显示基板还包括隔垫物(Photo Spacer，简称：SP)，该隔垫物可位于相位延迟层12之上，则第一配向层13位于隔垫物之上。该隔垫物在图3中为示出。
在相位延迟层12中，在第三配向层121的配向作用下液晶聚合物122的光轴方向与液晶的光轴方向相互垂直，从而实现相位延迟层12的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。
本实施例提供的显示基板中，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，极大的抵消了液晶产生的相位延迟量，从而避免了严重的暗态漏光现象，提高了对比度。
图4为本发明实施例二提供的一种显示装置的结构示意图，如图4所示，该显示装置包括相对设置的显示基板1和对置基板2，显示基板1和对置基板2之间设置有液晶3。
显示基板1可采用上述实施例一中的显示基板。对置基板2可包括第二衬底基板21和位于第二衬底基板21上方的第二配向层22。本实施例中，显示基板1可以为彩膜基板，对置基板2可以为阵列基板。具体地，对置基板2还可以包括位于第二衬底基板21之上的栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极和公共电极等结构，图4中不再具体画出。
本实施例中，显示装置可包括高级超维场转换技术(ADvanced SuperDimension Switch，简称ADS)显示装置或者平面内切换(In-PlaneSwitching，简称IPS)显示装置。
下面通过图5a和图5b对显示装置的漏光状态进行详细描述。图5a为图4中显示装置在未受到外部压力的情况下漏光状态的示意图，如图5a所示，显示装置在未受到外部压力的情况下未发生弯曲，因此在一定波长范围内该显示装置的透过率约为0nm，也就是说，此时与现有技术相比避免了该显示装置发生严重的暗态漏光。图5b为图4中显示装置在受到外部压力的情况下漏光状态的示意图，如图5b所示，假设显示装置中，第一衬底基板11产生的相位延迟量的相位延迟方向与液晶3的光轴方向之间的夹角为45°，第二衬底基板21产生的相位延迟量的相位延迟方向与液晶3的光轴方向之间的夹角为135度，第一衬底基板11产生的相位延迟量的相位延迟方向与第二衬底基板21产生的相位延迟量的相位延迟方向相互垂直，且第一衬底基板11和第二衬底基板21上产生的相位延迟量均为3nm，此时显示装置在受到外部压力的情况下发生弯曲，因此在一定波长范围内该显示装置的透过率(transmittance)约为0，也就是说，此时与现有技术相比避免了该显示装置发生严重的暗态漏光。
本实施例提供的显示装置中，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，极大的抵消了液晶产生的相位延迟量，从而避免了严重的暗态漏光现象，提高了对比度。
图6为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图，如图6所示，该方法包括：
步骤101、在第一衬底基板的上方形成相位延迟层，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。
本实施例中，相位延迟层包括第三配向层和液晶聚合物。则本步骤具体包括：
步骤1011、在第一衬底基板的上方形成第三配向层。
步骤1012、在第三配向层之上形成液晶聚合物。
液晶聚合物包括热致液晶层或者溶致液晶层。本实施例中，优选地，液晶聚合物包括热致液晶层，则以液晶聚合物包括热致液晶层为例，步骤1012具体可包括：在第三配向层上形成热致液晶材料，对该热致液晶材料进行加热处理，并对加热后的热致液晶材料进行UV曝光处理形成热致液晶层。
步骤102、在相位延迟层的上方形成第一配向层。
本实施例提供的显示基板的制造方法可用于制造上述实施例一提供的显示基板，对显示基板的具体描述可参见上述实施例一，此处不再赘述。
本实施例提供的显示基板的制造方法中，相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直，极大的抵消了液晶产生的相位延迟量，从而避免了严重的暗态漏光现象，提高了对比度。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括第一衬底基板、相位延迟层和第一配向层，所述相位延迟层位于所述第一衬底基板的上方，所述第一配向层位于所述相位延迟层的上方；
所述相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述相位延迟层的相位延迟量与所述液晶的相位延迟量之间具备差值或者相等。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述差值的绝对值小于或等于50nm且大于0。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述相位延迟层包括第三配向层和位于所述第三配向层之上的液晶聚合物。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述液晶和所述液晶聚合物的极性相同或者不同。
6.根据权利要求4或5所述的显示基板，其特征在于，所述液晶聚合物为热致液晶层或者溶致液晶层。
7.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的显示基板和对置基板，所述显示基板和所述对置基板之间设置有液晶；
所述显示基板采用权利要求1至6任一所述的显示基板；
所述对置基板包括第二衬底基板和位于所述第二衬底基板上方的第二配向层。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括高级超维场转换技术显示装置或者平面内切换显示装置。
9.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在第一衬底基板的上方形成相位延迟层，所述相位延迟层的相位延迟方向与液晶的光轴方向相互垂直；
在所述相位延迟层的上方形成第一配向层。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述相位延迟层包括第三配向层和热致液晶层；
所述在第一衬底基板的上方形成相位延迟层包括：
在所述第一衬底基板的上方形成所述第三配向层；
在所述第三配向层之上形成所述液晶聚合物。
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