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CN103913952B - 用于滤色镜的感光树脂组合物和利用其的滤色镜 - Google Patents

用于滤色镜的感光树脂组合物和利用其的滤色镜 Download PDF

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CN103913952B CN201310451545.XA CN201310451545A CN103913952B CN 103913952 B CN103913952 B CN 103913952B CN 201310451545 A CN201310451545 A CN 201310451545A CN 103913952 B CN103913952 B CN 103913952B
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Abstract

本发明公开用于滤色镜的感光树脂组合物以及利用其的滤色镜。所述用于滤色镜的感光树脂组合物包含（A）着色剂，包含选自由下面化学式1代表的染料和由下面化学式2代表的染料中的至少一种；（B）丙烯酸类粘合剂树脂；（C）可光致聚合的单体；（D）光致聚合引发剂；和（E）溶剂。在上述化学式1和2中，每个取代基与具体实施方式中描述的相同。[化学式1][化学式2]

Description

用于滤色镜的感光树脂组合物和利用其的滤色镜
相关申请的引用
本申请要求于2013年12月28日提交于韩国知识产权局的韩国专利申请号10-2012-0157574的优先权和权益，其全部内容结合在此以供参考。
技术领域
本公开涉及用于滤色镜的感光树脂组合物，以及利用其的滤色镜。
背景技术
在很多种显示器中液晶显示器具有轻、薄、低成本、操作低能量消耗、以及对集成电路具有改善的粘着性的优点，并且已经更广泛地用于手提电脑、监视器、和TV屏幕。
这种液晶显示器装备有通过重复单位像素形成的滤色镜，其中组合红（R）、绿（G）、和蓝（B）的三原色子像素。
当邻近地布置并且然后通过彩色信号应用且围绕亮度控制每个子像素时，由于三元色的组合，单位像素显示特定的颜色。
滤色镜由红（R）、绿（G）、和蓝（B）颜色染料或颜料制成。这些颜色材料起到将来自背光单元的白光改变成各自对应的彩色光的作用。
除了需要的吸收波长和较小的吸收带之外，颜色材料具有拥有必要波长的光谱，可以改善滤色镜的显示性能。
另外，需要颜色材料具有优异的耐热性、耐光性、和耐化学性，而在颜色抗蚀剂的蚀刻期间暴露于其的紫外线（UV）、酸、和碱的条件，没有被褪色或脱色。
通过染色、电泳沉积（EPD）、印刷、颜料分散等的方法，制造感光树脂组合物的滤色镜，其中将三种或更多种颜色涂覆到透明的基板上。
最近，已经改进了颜料分散方法，并且确保对于热、光、和湿度的改进的颜色再现性和持久性，因而，被广泛地采用。
然而，当颜料类型感光树脂组合物用于制造滤色镜时，由于颜料颗粒的大小和凝聚，滤色镜具有劣化的亮度和对比率的限制。
为了改善这些限制，已经作出了针对包含染料的感光树脂组合物的研究，所述染料不形成颗粒也不具有比颜料分散体小得多的初级粒径。
然而，染料类型感光树脂组合物具有较弱的耐热性、耐光性、和耐化学性，并且仍难以商用。因此，为了商用，需要改善染料类型感光树脂组合物的可靠性。
发明内容
本发明的一个实施方式提供用于滤色镜的感光树脂组合物，其具有高透明度、亮度、和对比率，以及改善的耐热性和着色性能。
本发明的另一个实施方式提供利用用于滤色镜的感光树脂组合物制造的滤色镜。
在本发明的一个实施方式中，用于滤色镜的感光树脂组合物包含（A）着色剂，包含选自由下面化学式1表示的染料和由下面化学式2表示的染料中的至少一种；（B）丙烯酸类粘合剂树脂；（C）可光致聚合的单体；（D）光致聚合引发剂；和（E）溶剂。
[化学式1]
[化学式2]
在上述化学式1和化学式2中，
R1、R2、R11和R12各自独立地是氢、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C2至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C2至C30杂芳基、或取代或未取代的C2至C20酯基；
R1和R2中至少一个是-C(=O)OR3；
R11和R12中至少一个是-C(=O)OR13；且
R3、R13各自独立地是取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C3至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C2至C30杂芳基。
着色剂（A）可进一步包含颜料。
着色剂（A）可包含1:9至9:1重量比的染料和颜料。
用于滤色镜的感光树脂组合物可包含0.1至60wt％的着色剂（A）；0.1至30wt％丙烯酸类粘合剂树脂（B）；0.1至30wt％可光致聚合的单体（C）；0.1至10wt％光致聚合引发剂（D）；和余量的溶剂（E）。
本发明的另一个实施方式提供利用用于滤色镜的感光树脂组合物制造的滤色镜。
在下面具体的实施方式中包含本发明的其他实施方式。
用于滤色镜的感光树脂组合物具有高透明度和对比率，因而实现具有改善的耐热性和着色性能的滤色镜。
具体实施方式
在下文中，详细地描述本发明的实施方式。然而，这些实施方式是示例性的，并且本发明并不限于此。
如在此应用的，当并未另外提供具体的定义时，术语“取代的”是指利用卤素（F、Cl、Br、I）、羟基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亚氨基、叠氮基、脒基、肼基、亚肼基、羰基、氨基甲酰基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或它的盐、磺酸基或它的盐、磷酸基或它的盐、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C30芳基、C3至C20环烷基、C3至C20环烯基、C3至C20环炔基、C2至C20杂环烷基、C2至C20杂环烯基、C2至C20杂环炔基、或它们的组合进行取代，替换化合物的至少一个氢。
如在此应用的，当并未另外提供具体的定义时，术语“杂环烷基”、“杂环烯基”、“杂环炔基”和“杂环亚烷基”是指包含N、O、S或P中至少一个杂原子的环烷基、环烯基、环炔基和环亚烷基环状化合物。
如在此应用的，当并未另外提供具体的定义时，“（甲基）丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”。
根据一个实施方式，用于滤色镜的感光树脂组合物包含（A）着色剂，包含选自由化学式1表示的染料和由化学式2表示的染料中的至少一种；（B）丙烯酸类粘合剂树脂；（C）可光致聚合的单体；（D）光致聚合引发剂；和（E）溶剂。
在下文中，详细地描述每种成分。
（A）着色剂
着色剂包含选自由化学式1表示的染料和由化学式2表示的染料中的至少一种。在这种情况下，用于滤色镜的感光树脂组合物确保高透明度，和高对比率的特性，并且同时实现耐热性性能。
[化学式1]
在上述化学式1中，
R1和R2各自独立地是氢、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C2至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C2至C30杂芳基、或取代或未取代的C2至C20酯基。
R1和R2中的至少一个是取代或未取代的C2至C20酯基。也就是说，R1和R2中的至少一个是-C(=O)OR3。
R3是取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C2至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、或取代或未取代的C2至C30杂芳基。
R1和R2彼此可以是相同的或不同的。
当R1和R2中的一个是-C(=O)OR3时，另一个也可以是例如，氢、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C3至C20环烷基、或取代或未取代的C6至C30芳基。
[化学式2]
在上述化学式2中，
R11和R12各自独立地是氢、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C2至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C2至C30杂芳基、或取代或未取代的C2至C20酯基。
R11和R12中的至少一个是取代或未取代的C2至C20酯基。
R11和R12彼此可以是相同的或不同的。
当R11和R12中的至少一个是-C(=O)OR13，并且一个是-C(=O)OR13时，另一个可以是例如，氢、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C3至C20环烷基、或取代或未取代的C6至C30芳基。
R13是取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C1至C20卤烷基、取代或未取代的C1至C20烷氧基、取代或未取代的C2至C20烯基、取代或未取代的C2至C20炔基、取代或未取代的C3至C20环烷基、取代或未取代的C3至C20环烯基、取代或未取代的C3至C20环炔基、取代或未取代的C2至C20杂环烷基、取代或未取代的C2至C20杂环烯基、取代或未取代的C2至C20杂环炔基、取代或未取代的C6至C30芳基、或取代或未取代的C2至C30杂芳基。
由上述化学式1表示的化合物和由上述化学式2表示的化合物是黄色染料，并且可与绿色染料或红色染料一起被用作着色剂。
当在用于滤色镜的感光组合物中使用可溶性染料替代不可溶性颜料作为着色剂时，由于高溶解性将劣化光散射现象，并且可实现高透明度、和高对比率的特性。然而，当使用单分子染料时，由于热处理单分子染料具有更大的分子运动，且可不规则地粘着，因而，具有劣化的耐热性的缺点。
由上述化学式1和2表示的染料是单分子染料但是在热处理之后转变成颜料，且通过分子之间的氢键有规律地排列，因而，可阻止不规则的粘着，且克服较弱的热性能。
换句话说，根据一个实施方式用于滤色镜的感光树脂组合物和包含用于滤色镜的感光树脂组合物的滤色镜可实现高透明度和高对比率特性以及同时地，耐热性性能。
由上述化学式1和2表示的染料在随后描述的溶剂（E）中可具有大于或等于5的溶解度，并且具体地，范围是从5至10的溶解度。可通过在100g的溶剂中溶解的染料的量（g）获得溶解度。当染料具有在所述范围内的溶解度时，根据一个实施方式，用于滤色镜的感光树脂组合物可确保与其他成分的相容性，和着色性能，且可防止染料沉淀。
溶剂可具体地包括丙二醇单甲醚乙酸酯（PGMEA）、乳酸乙酯（EL）、乙二醇乙酸乙酯（EGA）、环己酮，或它们的组合。
由上述化学式1表示的染料和由上述化学式2表示的染料具有高耐热性。也就是说，由热重分析仪（TGA）测量的热分解温度可以大于或等于200℃，且具体地是200至400℃。
可将具有特性的染料应用于LCD、LED，等等的滤色镜，其可在期望的颜色坐标上实现高亮度和高对比率。
另一方面，着色剂（A）可进一步包含颜料。因此，可另外地改进亮度和对比率。
颜料可能是绿色、红色、蓝色、或黄色颜料。
绿色颜料的实例可以是颜色指数（C.I.）的C.I.绿色颜料36，C.I.绿色颜料7，C.I.绿色颜料58，等等。可单个地或以它们的混合物形式使用颜料，但是不限于此。
具体地，红色颜料可以是C.I.颜料红色242、C.I.颜料红色214、C.I.颜料红色221、C.I.颜料红色166、C.I.颜料红色220、C.I.颜料红色248、C.I.颜料红色262、C.I.颜料红色254、C.I.颜料红色177，等等，且可单个地或作为两种或更多种的混合物使用所述红色颜料。
蓝色颜料的实例可以包括铜酞菁颜料如C.I.蓝色颜料15:6、C.I.蓝色颜料15、C.I.蓝色颜料15:1、C.I.蓝色颜料15:2、C.I.蓝色颜料15:3、C.I.蓝色颜料15:4、C.I.蓝色颜料15:5、C.I.蓝色颜料16，等等。
黄色颜料的实例可以包括异吲哚类的颜料如C.I.黄色颜料139、喹酞酮类的颜料如C.I.黄色颜料138、镍复合物颜料如C.I.黄色颜料150，等等。
颜料能够以分散体的形式包含在感光树脂组合物中。这样的颜料分散体可由溶剂、分散剂，等等以及颜料组成。
溶剂可以包括乙二醇乙酸酯、乙基溶纤剂、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、聚乙二醇、环己酮、丙二醇甲醚、等等，并且其中，丙二醇甲醚乙酸酯可以是优选的。
分散剂帮助颜料均匀分散，并且可以包括非离子型、阴离子型、阳离子型分散剂。具体地，分散剂可以是聚亚烷基二醇或它的酯、聚氧亚烷基、多元醇酯亚烷基氧化物加成产物、醇亚烷基氧化物加成产物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、烷基酰胺亚烷基氧化物加成产物、烷基胺、等等。它们可以单个地或作为两种或更多种的混合物使用。
当着色剂进一步包含颜料时，染料和颜料的重量比可以是1:9至9:1，且具体地3:7至7:3。在所述范围内，可获得高亮度和对比率，同时维持颜色特性。
基于用于滤色镜的感光树脂组合物的总量，可包含0.1至60wt％，且具体地5至50wt％的量的着色剂（A）。在上述范围内使用薄的着色剂（A），可在期望的颜色坐标上获得高亮度和对比率。
（B）丙烯酸类粘合剂树脂
丙烯酸类粘合剂树脂是第一乙烯不饱和单体和可与其共聚合的第二乙烯不饱和单体的共聚物，以及包含至少一个丙烯酸类重复单元的树脂。
第一乙烯不饱和单体是包含至少一个羧基的乙烯不饱和单体。单体的实例包含丙烯酸、甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、衣康酸、反丁烯二酸，或它们的组合。
基于丙烯酸类粘合剂树脂的总量，可包含范围从5至50wt％，并且具体地从10至40wt％的量的第一乙烯不饱和单体。
第二乙烯不饱和单体可以是芳香族乙烯化合物如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苯甲基甲基醚，等等；不饱和羧酸酯化合物如（甲基）丙烯酸甲脂、（甲基）丙烯酸乙脂、（甲基）丙烯酸丁脂、（甲基）丙烯酸2-羟基乙脂、（甲基）丙烯酸2-羟基丁脂、（甲基）丙烯酸苯甲基脂、（甲基）丙烯酸环己基脂、（甲基）丙烯酸苯基脂、等等；不饱和羧酸氨基烷基酯化合物如（甲基）丙烯酸2-氨基乙基脂、（甲基）丙烯酸2-二甲基氨基乙基脂，等等；羧酸乙烯酯化合物如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、等等；不饱和羧酸缩水甘油酯化合物如（甲基）丙烯酸缩水甘油酯等等；乙烯基氰化合物如（甲基）丙烯腈等等；不饱和酰胺化合物如（甲基）丙烯酰胺等等；等等，且可单个地或作为两种或更多种的混合物使用。
丙烯酸类粘合剂树脂的具体的实例可以是甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲基酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲基酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲基酯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苯甲基酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羟基乙酯共聚物，等等，且不限于此。这些可以单个地或作为两种或更多种的混合物使用。
丙烯酸类粘合剂树脂可具有3,000至150,000g/mol的重量平均分子量，具体地5,000至50,000g/mol，且更具体地20,000至30,000g/mol。当丙烯酸类粘合剂树脂具有在所述范围内的重量平均分子量时，组合物可具有优异的与基底紧密接触的性能，良好的物理和化学性能，和适当的粘度。
丙烯酸类粘合剂树脂可具有范围从15至60mgKOH/g的酸值，且具体地20至50mgKOH/g。当丙烯酸类粘合剂树脂具有在所述范围内的酸值时，可获得优异的像素分辨率。
基于用于滤色镜的感光树脂组合物的总量，可包含范围从0.1至30wt％，并且具体地5至20wt％的量的丙烯酸类粘合剂树脂。当包含所述范围内的丙烯酸类粘合剂树脂时，在滤色镜的制造期间可改善可显影性，并且由于改善的交联可获得优异的表面平面化。
（C）可光致聚合的单体
可光致聚合的单体可以是具有两个或更多个羟基的多官能单体。可光致聚合的单体的具体实例可以是丙烯酸甘油酯、六丙烯酸二聚季戊四醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸二季戊四醇酯、丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸季戊四醇酯、二丙烯酸双酚A酯、丙烷三丙烯酸三甲醇酯、酚醛环氧丙烯酸酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸二乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、二甲基丙烯酸丙二醇酯、二甲基丙烯酸1,4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸1,6-己二醇酯，等等。
基于用于滤色镜的感光树脂组合物的总量，可包含0.1至30wt％，且具体地5至20wt％的量的可光致聚合的单体。当包含在所述范围内的可光致聚合的单体时，在滤色镜的制造期间可以改善图案特性和可显影性。
（D）光致聚合引发剂
光致聚合引发剂是在用于滤色镜的感光树脂组合物中通常使用的光致聚合引发剂，并且可以是例如，苯乙酮类的化合物、二苯甲酮类的化合物、噻吨酮类的化合物、苯偶姻类的化合物、三嗪类的化合物、肟类的化合物，或它们的组合。
苯乙酮类的化合物可包含2,2’-二乙氧基苯乙酮、2,2’-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对-叔丁基三氯苯乙酮、对-叔丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2’-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉代丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁-1-酮，等等。
二苯甲酮类的化合物可包含二苯甲酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲基、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、丙烯酸化的二苯甲酮、4,4’-二(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4’-二(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4’-二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3’-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮，等等。
噻吨酮类的化合物可包含噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮，等等。
苯偶姻类的化合物可包含苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、苯甲基二甲基缩酮，等等。
三嗪类的化合物可包含2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4’-甲氧基萘基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对-甲氧基苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(对-甲苯基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-联苯基4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、二(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘-1-基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2,4-三氯甲基(4’-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪，等等。
肟类化合物可包含2-(邻-苯甲酰基肟)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(邻-乙酰基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-卡唑-3-基]乙酮，等等。
除了上述描述的光致聚合引发剂之外，还可将卡唑类化合物、二酮化合物、硼酸锍类的化合物、重氮类化合物、二咪唑类化合物，等等用作光致聚合引发剂。
基于用于滤色镜的感光树脂组合物的总量，可包含0.1至10wt％，并且具体地1至5wt％的量的光致聚合引发剂。当包含所述范围内的光致聚合引发剂时，可在图案形成过程的曝光期间进行足够的光致聚合反应，改善了敏感性和透明度。
（E）溶剂
溶剂可包含，但不限于，具体地例如，醇类如甲醇、乙醇，等等；醚类如二氯乙醚、正丁基醚、二异戊醚、甲基苯基醚、四氢呋喃，等等；二醇醚类如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚、等等；乙酸溶纤剂类如乙酸甲基溶纤剂酯、乙酸乙基溶纤剂酯、乙酸二乙基溶纤剂酯、等等；卡必醇类如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、等等；丙二醇烷基醚乙酸酯类如丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯、等等；芳香烃类如甲苯、二甲苯，等等；酮类如甲基乙基乙酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基-正-丙酮、甲基-正-丁酮、甲基-正-戊酮、2-庚酮，等等；饱和的脂肪族单羧酸烷基酯类如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯，等等；乳酸烷基酯类如乳酸甲酯、乳酸乙酯、等等；羟基乙酸烷基酯类如羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯、等等；乙酸烷氧基烷基酯类如乙酸甲氧基甲酯、乙酸甲氧基乙酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸乙氧基甲酯、乙酸乙氧基乙酯、等等；3-羟基丙酸烷基酯类如3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯等等；3-烷氧基丙酸烷基酯类如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯，等等；2-羟基丙酸烷基酯类如2-羟基丙酸甲酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基丙酸丙酯，等等；2-烷氧基丙酸烷基酯类如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯，等等；2-羟基-2-甲基丙酸烷基酯类如2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯，等等；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯类如2-甲氧基2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯，等等；酯类如丙酸2-羟基乙酯、丙酸2-羟基-2-甲基乙基酯、乙酸羟基乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯，等等；或酮酸酯类如丙酮酸乙酯，等等。另外，溶剂可以是N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苯甲基乙醚、二己醚、乙酰丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、顺丁烯二酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚烯酯、乙酸苯基溶纤剂酯、等等，且可单个地或作为两种或更多种的混合物使用。
在这些溶剂之中，考虑到可混合性、反应性等等，溶剂可以是二醇醚类如乙二醇单乙醚，等等；乙二醇烷基醚乙酸酯类如乙酸乙基溶纤剂酯，等等；酯类如丙酸2-羟基乙酯，等等；二乙二醇类如二乙二醇单甲基醚等等；丙二醇烷基醚乙酸酯类如丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯，等等。
基于用于滤色镜的感光树脂组合物的总量，可包含余量的溶剂，并且具体地，范围从20至90wt％的量。当包含所述范围内的溶剂时，感光树脂组合物具有改善的涂覆性能和3μm或更大厚度的优异的平面度。
（F）表面活性剂
用于滤色镜的感光树脂组合物可进一步包括表面活性剂，以便使颜料均匀地分散到溶剂中，以及改善流平性能。
表面活性剂可包含氟类表面活性剂和硅类表面活性剂中的至少一种。
氟类表面活性剂的实例可包含由DIC Co.,Ltd.制造的F-482、F-484、F-478，等等，但是不限于此。
硅类表面活性剂的实例可包含由Toshiba Silicon Co.制造的TSF400、TSF401、TSF410、TSF4440，等等，但是不限于此。
基于100重量份的用于滤色镜的感光树脂组合物，可包含范围从0.01至5重量份，并且具体地，从0.1至2重量份的量的表面活性剂。当包含在所述范围内的表面活性剂时，组合物可在显影之后形成较少的杂质。
（G）其他添加剂
用于滤色镜的感光树脂组合物可进一步包含其他添加剂如丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、或含乙烯基或（甲基）丙烯酰氧基的硅烷类偶联剂，以便放置在涂覆期间的污点或斑点，用来调整流平性，或用来防止由于非显影造成的图案残留。可以取决于期望的性能以一定量调节这些添加剂。
另外，如果需要，用于滤色镜的感光树脂组合物可另外地包含环氧化合物，以便改善紧密接触性能和其他特性。
环氧化合物可包含环氧酚醛清漆丙烯酰基羧酸酯树脂、邻甲酚酚醛清漆环氧树脂、苯酚酚醛清漆环氧树脂、四甲基联苯环氧树脂、双酚A环氧树脂、脂环族环氧树脂、或它们的组合。
当包含环氧化合物时，可另外包含过氧化物引发剂或自由基聚合反应引发剂如偶氮双类的引发剂。
在方法中，用于滤色镜的感光树脂组合物没有具体的限制，但是可通过混合上述的染料、丙烯酸类的粘合剂树脂、光致聚合引发剂、可光致聚合的单体、溶剂、和可选地添加剂来进行制备。
根据本发明的另一个实施方式，提供利用用于滤色镜的感光树脂组合物制造的滤色镜。
可在通常的方法中制造这种滤色镜，但是具体地，利用旋涂、辊涂、狭缝涂布等处理感光树脂组合物的方法，以具有范围从1.5至2.0μm的厚度。在涂覆之后，利用UV射线、电子束、或X-射线照射该层，以便形成滤色镜所需要的图案。UV射线可具有范围从190至450nm的波长区域，并且具体地，从200至400nm。随后，当利用碱性显影液处理涂覆的层时，可溶解它的未照射的区域，形成用于图像滤色镜的图案。取决于R、G、和B颜色的必要数量重复这个过程，制造具有期望图案的滤色镜。另外，通过加热处理、光化射线辐射，等等固化通过显影获取的图像图案，结果，改善了抗裂性、耐溶剂性，等等。
在下文中，参考实施例更详细地说明本发明。然而，这些实施例不应在任何情况下被解释为限制本发明的范围。
（用于滤色镜的感光树脂组合物的制备）
利用下面成分制备用于滤色镜的感光树脂组合物。
（A）着色剂
（A-1）染料
（A-1-1）使用由下面化学式3表示的染料。
[化学式3]
（A-1-2）使用由下面化学式4表示的染料。
[化学式4]
（A-2）颜料
使用（A-2-1）C.I.绿色颜料58。
使用（A-2-2）C.I.黄色颜料150。
使用（A-2-3）C.I.黄色颜料139。
（B）丙烯酸类粘合剂树脂
使用甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯共聚物树脂（w/w=30/70;Miwon CommercialCo.,Ltd,NPR1520）。
（C）可光致聚合的单体
使用六丙烯酸双季戊四醇酯（Dainippon Ink&Chemicals Inc.）。
（D）光致聚合引发剂
使用Ciba Specialty Chemicals Co.的CGI-124。
（E）溶剂
使用丙二醇单甲醚乙酸酯。
（F）表面活性剂
使用氟类表面活性剂（F-554_DIC Co.,Ltd.）。
实施例1和2和比较例1和2
通过混合根据在下面表格1中提供的组成的每种成分来制备用于滤色镜的感光树脂组合物。具体地，在溶剂中溶解光致聚合引发剂，在室温下将溶液搅拌2小时，将着色剂加入到其中，将混合物搅拌30分钟，将丙烯酸类粘合剂树脂和可光致聚合的单体加入到其中，且在室温下搅拌生成的混合物。将溶液过滤三次，以便去除杂质，获得用于滤色镜的感光树脂组合物。
[表格1]（单位：wt％）
评价：薄膜的透明度、亮度、和对比率
分别地在1mm-厚的玻璃基底上涂覆3.0至4.0μm厚度的根据实施例1和2和比较例1和2所述的用于滤色镜的感光树脂组合物，且在90℃的热板上干燥1分钟，获得各自的薄膜。利用100mJ曝光薄膜，在强制对流烘干炉中在230℃下干燥30分钟。
通过利用分光光度计（MCPD3000,Otsuka Electronics Co.,Ltd.）测量根据实例1和2和比较实例1和2所述的薄膜的透明度、颜色坐标（x和y）、和亮度（Y），并且利用测量装置（30,000:1,CT-1,Tsubosaka electronic Co.,Ltd.）测量它们的对比率（CR），然后，在下面表格2中提供结果。
[表格2]
透明度（540nm） 颜色坐标 亮度 对比率
x y Y
实施例1 93% 0.275 0.567 62 12000
比较例1 88% 0.275 0.567 60 10000
实施例2 82% 0.300 0.650 48 6000
比较例2 75% 0.300 0.650 40 5000
参考表格2，与根据比较例1的薄膜相比较，根据实施例1的薄膜显示优异的透明度、亮度、和对比率。此外，与根据比较例2的薄膜相比较，根据实施例2的薄膜显示优异的透明度、亮度、和对比率。
虽然结合目前认为是实用的示例性的实施方式描述了本发明，应该理解的是，本发明并不限于公开的实施方式，而是，相反地，旨在涵盖包含于随附的权利要求的精神和范围内的各种修改和等效安排。因此，应该将前述的实施方式理解为是示例性的而不以任何方式限制本发明。

Claims (5)

1.一种用于滤色镜的感光树脂组合物，包括
(A)着色剂，包含选自由下面化学式1表示的染料和由下面化学式2表示的染料中的至少一种；
(B)丙烯酸类粘合剂树脂
(C)可光致聚合的单体
(D)光致聚合引发剂；和
(E)溶剂
[化学式1]
[化学式2]
其中，在上述化学式1和2中，
R1和R2是-C(＝O)OR3，
R11和R12是-C(＝O)OR13，且
R3和R13各自独立地是未取代的C1至C20烷基、未取代的C2至C20烯基、未取代的C2至C20炔基、未取代的C3至C20环烷基、未取代的C3至C20环烯基、或未取代的C3至C20环炔基。
2.根据权利要求1所述的用于滤色镜的感光树脂组合物，其中所述着色剂(A)进一步包括颜料。
3.根据权利要求2所述的用于滤色镜的感光树脂组合物，其中所述着色剂(A)包括重量比为1:9至9:1的所述染料和所述颜料。
4.根据权利要求1所述的用于滤色镜的感光树脂组合物，其中所述用于滤色镜的感光树脂组合物包括
0.1至60wt％的所述着色剂(A)；
0.1至30wt％的所述丙烯酸类粘合剂树脂(B)；
0.1至30wt％的所述可光致聚合的单体(C)；
0.1至10wt％的所述光致聚合引发剂(D)；和
余量的所述溶剂(E)。
5.一种利用根据权利要求1所述的用于滤色镜的感光树脂组合物制造的滤色镜。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101895309B1 (ko) * 2016-01-25 2018-09-05 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터
KR20240163116A (ko) * 2022-04-27 2024-11-18 후지필름 가부시키가이샤 착색 조성물, 막, 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1519592A (zh) * 2002-10-04 2004-08-11 三星电子株式会社 控制溶解度的感光树脂组合物及其双层结构的图案形成方法
CN102486609A (zh) * 2010-12-01 2012-06-06 第一毛织株式会社 应用于彩色滤光片的光敏性树脂组合物及使用其的彩色滤光片

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59309899D1 (de) 1992-03-05 2000-01-20 Ciba Sc Holding Ag Stabilisierung von organischen Pigmenten
US5686585A (en) 1993-02-02 1997-11-11 Sumitomo Chemical Company, Limited Azo dyes for use in color filters and method for production of color filters
JPH0749412A (ja) 1993-08-06 1995-02-21 Nippon Kayaku Co Ltd カラーフィルターの製造法および染料組成物
JP3455915B2 (ja) 1993-09-24 2003-10-14 Ｊｓｒ株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
JP3824285B2 (ja) 1997-03-14 2006-09-20 富士写真フイルム株式会社 感放射線性着色組成物
BR0315176A (pt) * 2002-10-09 2005-08-23 Ciba Sc Holding Ag Processo para colorir materiais veìculo
FR2847162B1 (fr) * 2002-11-20 2005-02-18 Oreal Utilisation de pigments latents pour la coloration haute tenue, composition contenant lesdits pigments et procedes les mettant en oeuvre
JP4419547B2 (ja) 2003-12-12 2010-02-24 東洋インキ製造株式会社 カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2007197634A (ja) * 2006-01-30 2007-08-09 Konica Minolta Holdings Inc インクジェットインク及びインクジェット記録方法
JP5213375B2 (ja) * 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009120777A (ja) * 2007-11-19 2009-06-04 Nippon Kayaku Co Ltd イソインドリン誘導体、顔料分散剤およびこれを含んだ顔料組成物
KR101233374B1 (ko) 2008-12-31 2013-02-18 제일모직주식회사 신규한 화합물, 이를 포함하는 안료 분산액 조성물, 및 이를 이용한 컬러필터
KR101288568B1 (ko) 2009-12-23 2013-07-22 제일모직주식회사 안료 분산액 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터용 수지
JP5470058B2 (ja) 2010-01-15 2014-04-16 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及びそれを具備する液晶表示装置並びに有機ｅｌ表示装置
KR101269048B1 (ko) 2010-05-17 2013-05-29 한양대학교 산학협력단 아크릴계 유도체가 치환된 아조 염료 화합물 및 이를 이용한 액정 디스플레이용 염료형 컬러 필터
KR101486559B1 (ko) * 2010-09-20 2015-01-26 제일모직 주식회사 컬러필터용 황색 수지 조성물 및 이를 이용한 황색 컬러필터
KR101400196B1 (ko) * 2010-12-27 2014-06-19 제일모직 주식회사 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터
KR101355070B1 (ko) * 2010-12-29 2014-01-24 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1519592A (zh) * 2002-10-04 2004-08-11 三星电子株式会社 控制溶解度的感光树脂组合物及其双层结构的图案形成方法
CN102486609A (zh) * 2010-12-01 2012-06-06 第一毛织株式会社 应用于彩色滤光片的光敏性树脂组合物及使用其的彩色滤光片

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Publication number Publication date
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KR101690514B1 (ko) 2016-12-28
US20140183425A1 (en) 2014-07-03
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