CN103811532B - 一种显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置及其制作方法，用以解决现有技术中存在的OLED显示装置的用于显示的光线的透过率比较低的问题。本发明实施例提供一种显示装置，包括相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板，所述第一衬底基板上具有至少一个金属图案，其中所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，其特征在于，还包括：位于第二衬底基板背向第一衬底基板的外侧面上的偏光片；所述偏光片包括的聚乙烯醇PVA层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述PVA层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。本发明实施例提高了OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

Description

一种显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置及其制作方法。

背景技术

采用OLED（OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管）的显示装置是一种新型的显示装置，与液晶显示装置相比，OLED显示装置具有自发光、响应速度快和宽视角等优点，而且可以进行柔性显示、透明显示和3D显示，因而得到了快速发展与普及。

OLED显示装置内部包含金属部件，当外界光射入到其上时，由于金属具有较强的反射系数，因而会将射入到其上的大部分外界光反射出去，从而对OLED显示装置的显示效果产生消极影响。

为了减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响，如图1所示，目前的OLED显示装置的第二衬底基板13上整面设置有依次层叠的波片14和包含光吸收（例如聚乙烯醇PolyvinylAlcohol，简称PVA）层16A的偏光片16。下面以偏光片为垂直偏光片、波片包括波片和波片为例，对光吸收层吸收外界光的反射光，以减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响的原理进行简单说明：外界光通过垂直偏光片后成为垂直偏振光，该垂直偏振光通过波片和波片后成为左圆偏振光，该左圆偏振光经过金属反射后成为右圆偏振光，该右圆偏振光通过波片和波片后成为水平偏振光，该水平偏振光不能通过垂直偏光片，并被光吸收层吸收。

由于目前OLED显示装置的第二衬底基板上整面设置有依次层叠的波片和包含光吸收层的偏光片，因而OLED显示装置的用于显示的光线需要依次通过所述波片和偏振片，而所述波片会损耗掉部分所述用于显示的光线，所述偏振片包含的光吸收也会吸收大部分所述用于显示的光线，从而导致所述用于显示的光线的透过率比较低。

综上所述，目前OLED显示装置的第二衬底基板上整面设置有依次层叠的波片和包含光吸收层的偏光片，从而导致所述用于显示的光线的透过率比较低。

发明内容

本发明实施例提供的一种显示装置及其制作方法，用以解决现有技术中存在的显示装置的用于显示的光线的透过率比较低的问题。

第一方面，本发明实施例提供的一种显示装置，包括相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板，所述第一衬底基板上具有至少一个金属图案，其中所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，还包括：位于第二衬底基板背向第一衬底基板的外侧面上的偏光片；

所述偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，

所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

较佳地，所述显示装置包括的波片位于所述第二衬底基板的外侧面上或者内侧面上且位于所述偏光片的下方；

其中，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

较佳地，在所述波片位于所述第二衬底基板的内侧面上时，还包括包覆所述波片的平坦化层。

较佳地，所述波片包括波片和波片。

较佳地，所述偏光片包括的光吸收层为聚乙烯醇PVA。

较佳地，所述偏光片还包括三醋酸纤维素TAC层，其中所述TAC层与所述光吸收层完全重合。

较佳地，所述金属图案包括栅线、数据线、栅极、源极和漏极中的一种或多种。

较佳地，在所述显示装置包括的像素尺寸小于设定的尺寸阈值时，所述光吸收层与像素显示区域无交叠。

较佳地，所述显示装置为OLED显示装置。

第二方面，本发明实施例提供的一种所述的显示装置的制作方法，包括：

在相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板中的所述第一衬底基板上形成至少一个与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积的金属图案；以及，在所述第二衬底基板背向所述第一衬底基板的外侧面上形成包括光吸收层的偏光片；

将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒，以使所述光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

较佳地，所述方法还包括：

在所述第二衬底基板的内侧面上形成波片，以使在将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒后，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

较佳地，在形成所述波片之后，还包括：

形成包覆所述波片的平坦化层。

与现有技术相比，在本发明实施例中，偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个金属图案，从而保证了可以减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响；而且，光吸收层与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，使得在像素显示区域未与光吸收层交叠的区域的透光率比较高，从而提高了OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

附图说明

图1为现有技术中OLED显示装置的截面图；

图2为本发明实施例中OLED显示装置的截面图；

图3为本发明实施例中阵列基板的俯视图；

图4为本发明实施例提供的阵列基板另一示意图；

图5为本发明实施例的方法流程示意图。

具体实施方式

在本发明实施例中，显示装置包括相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板，所述第一衬底基板上具有至少一个金属图案，其中所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积；另外，显示装置还包括：位于第二衬底基板背向第一衬底基板的外侧面上的偏光片；所述偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积；

由于偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个金属图案，从而保证了可以减小外界光对显示装置显示效果的消极影响；而且，光吸收层与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，使得在像素显示区域未与光吸收层交叠的区域的透光率比较高，从而提高了显示装置的用于显示的光线的透过率。

下面结合说明书附图对本发明实施例作进一步详细描述。

较佳地，本发明实施例提供的显示装置包括相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板，所述第一衬底基板上具有至少一个金属图案，其中所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积；另外，所述显示装置还包括：位于第二衬底基板背向第一衬底基板的外侧面上的偏光片；

所述偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

实施中，以OLED显示装置为例，通过控制偏光片中吸收材料光吸收层的图形的覆盖区域，使得光吸收层能够吸收金属图案反射的外界光，以减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响；而且，使得光吸收层未遮挡住所有像素显示区域，从而使得在像素显示区域未与光吸收层交叠的区域的透光率比较高，以提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率；即，本发明实施例在实现减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响的同时，可实现提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率（即，提高像素透过率）。

较佳地，本发明实施例中的金属图案可以为显示装置的阵列基板包含的任一种满足如下条件的金属图案：与像素显示区域的交叠区域的面积小于像素显示区域的面积。

较佳地，本发明实施例中的金属图案包括金属线、金属电极和金属膜层。

较佳地，本发明实施例中的金属图案包括栅线、数据线、栅极、源极和漏极中的一种或多种。

需要说明的是，阵列基板包含的交叉设置且相互绝缘的栅线和数据线界定了多个像素，其中，对于界定的每个像素，所述像素对应的区域可以分为显示区域和非显示区域；本发明实施例中的像素显示区域为像素的用于显示的显示区域，即，像素的透光区域。

比如，以OLED显示装置为例，如图2所示，阵列基板的每个像素包含有机发光层11和与有机发光层11位于同层的PDL（像素定义层）12，其中，OLED显示装置的像素显示区域为相邻两个PDL12之间的有机发光层11对应的区域。

较佳地，位于第一衬底基板上的每个所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积均小于所述像素显示区域的面积。

较佳地，在金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积时，金属图案与像素显示区域存在如下三种位置关系：

1、金属图案与像素显示区域无交叠；

2、金属图案与像素显示区域仅部分交叠；

3、金属图案与像素显示区域完全交叠，并且，金属图案的面积小于像素显示区域的面积。

下面将对本发明实施例中光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案的实施方式进行介绍。

1、光吸收层全面覆盖全部所述金属图案。

较佳地，全部所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于像素显示区域的面积，光吸收层全面覆盖全部所述金属图案。

实施中，可以保证外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响的程度比较低，还可以保证提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

具体实施中，在全部所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于像素显示区域的面积时，光吸收层也可以全面覆盖部分所述金属图案。

2、光吸收层全面覆盖部分所述金属图案。

较佳地，在金属图案与像素显示区域之间不满足如下关系时：全部所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于像素显示区域的面积，光吸收层全面覆盖部分金属图案。

实施中，可以保证减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响，还可以保证提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

较佳地，在光吸收层与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积时，光吸收层与像素显示区域存在如下三种位置关系：

（1）光吸收层与像素显示区域无交叠；

（2）光吸收层与像素显示区域仅部分交叠；

（3）光吸收层与像素显示区域完全交叠，并且，光吸收层的面积小于像素显示区域的面积。

较佳地，所述偏光片还包括TAC（三醋酸纤维素）层，其中所述TAC层与所述光吸收层完全重合。

实施中，可以保证提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

具体实施中，TAC层与光吸收层也可以不完全重合。

较佳地，所述显示装置包括的波片位于所述第二衬底基板的外侧面上或者内侧面上且位于所述偏光片的下方。

较佳地，在所述波片位于所述第二衬底基板的内侧面上时，还包括包覆所述波片的平坦化层。

实施中，平坦化层可以使得第二衬底基板的内侧面表面平整。

具体实施中，波片也可以集成到偏光片中，作为偏光片包含的膜层。

较佳地，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

实施中，通过控制波片的图形的覆盖区域，实现在减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响的同时，提高OLED显示装置的用于显示的光线的透过率。

具体实施中，本发明实施例中波片全面覆盖至少一个所述金属图案的实施方式与光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案的实施方式类似，在此不再赘述。

具体实施中，本发明实施例中波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积的实施方式与光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积的实施方式类似，在此不再赘述。

具体实施中，偏光片也可以不全面覆盖波片，比如，波片与偏光片完全交叠且波片的面积大于偏光片的面积，或者，波片与偏光片完全重合，具体可以根据实际应用场景设定。

较佳地，本发明实施例中的波片包括波片和波片。

较佳地，波片的晶轴为15度，波片的晶轴为75度。

具体实施中，本发明实施例中的波片位于波片的上方或者下方。

实施中，本发明实施例中的波片可以和偏光片配合，实现减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响。

需要说明的是，本发明实施例中的波片也可以为其他类型的波片或者波片组合，只要能够和偏光片配合实现减小外界光对OLED显示装置显示效果的消极影响即可。

较佳地，在所述显示装置包括的像素尺寸小于设定的尺寸阈值时，所述光吸收层与像素显示区域无交叠。

实施中，对于高分辨率显示装置，由于其像素的尺寸比较小，在光吸收层与像素显示区域无交叠时，可以保证其具有较大的透过率。

具体实施中，尺寸阈值可以根据需要、经验或者具体应用场景设定。

较佳地，所述显示装置为OLED显示装置。

下面将以一个具体的实施例，对本发明实施例中的OLED显示装置的结构进行介绍。

实施例一

如图2所示，OLED显示装置包括第一衬底基板1，位于第一衬底基板1上的栅极2，位于第一衬底基板1上、且全面覆盖栅极2的栅绝缘层3，位于栅绝缘层3上的有源层4，位于有源层4上的ESL（刻蚀阻挡层）5，位于ESL5上、且分别位于ESL5两侧的源极6A和漏极6B，位于源极6A和漏极6B上的PVX（钝化层）7，位于PVX7上的Resin（平坦层）8，位于Resin8上、且通过过孔与漏极6B电性连接的Anode（阳极）9，位于Anode9上的有机发光层11和PDL12，以及位于有机发光层11和PDL12上的Cathode（阴极）10；

OLED显示装置还包括与第一衬底基板1对盒设置的第二衬底基板13，位于第二衬底基板13内侧面、且依次层叠的波片14A、波片14B和平坦化层15，以及位于第二衬底基板13外侧面的、包含光吸收层16A的偏光片16；其中，偏光片16还包括TAC层16B。

具体实施中，对于外界光从多个方向入射到显示装置的应用场景，可以根据光线反射原理和折射原理，确定波片和偏光片的光吸收层的长度和宽度。

下面将以一个具体实施例，对确定波片和偏光片的光吸收层的长度和宽度的实施方式进行介绍。

实施例二

需要说明的是，为了简化计算，在本发明实施例二中，以栅极为金属图案，以及OLED显示装置结构为如图3所示的结构为例，对确定波片和偏光片的光吸收层的宽度的实施方式进行介绍，其中，栅极在与栅线平行方向的尺寸为栅极的宽度尺寸。

1、确定波片的宽度值。

如图3所示，波片14B、波片14A和偏光片的光吸收层16A位于栅极2的正上方。

假设入射到栅极2上的外界光的入射角度为θ∈（0°，90°），则根据正切定理，可以根据下列公式一得出波片的宽度可以：

S=ΔS+S_m；公式一

其中，S为波片的宽度值，S_m为栅极的宽度值，ΔS≈2*d/tanθ，d为栅极到波片之间的距离值。

比如，θ为60°，d为5微米，栅极的宽度为5微米，则1/2λ波片和1/4λ波片的宽度值为：S=S_m+ΔS=5+5.8=10.8微米。

2、确定光吸收层的宽度值。

如图4所示，波片14B、波片14A和偏光片的光吸收层16A位于栅极2的正上方；

根据图4，可以构造出如下等式关系：

1、 $\tan \mathrm{\α}=\frac{x1}{h};$ 公式二

2、 $\tan \mathrm{\β}=\frac{x2}{m};$ 公式三

3、x1+x2=w；公式四

4、 $\frac{\sin \mathrm{\α}}{\sin \mathrm{\β}}=\frac{n2}{n1};$ 公式五

其中，n1为折射角所在介质的折射率，n2为入射角所在介质的折射率，w、h、m、n1和n2为已知量，因而根据上述四个等式（公式二-公式五）可以近似求出α和β；

根据公式五可以最终得出光吸收层的宽度值与波片和波片的宽度值差值；从而可以最终得出光吸收层的宽度值。

较佳地，如图5所示，本发明实施例提供的显示装置的制作方法，包括：

步骤501、在相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板中的所述第一衬底基板上形成至少一个与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积的金属图案；以及，在所述第二衬底基板背向所述第一衬底基板的外侧面上形成包括光吸收层的偏光片；

步骤502、将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒，以使所述光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

较佳地，该方法还包括：

在所述第二衬底基板的内侧面上形成波片，以使在将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒后，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

较佳地，在形成所述波片之后，还包括：

形成包覆所述波片的平坦化层。

具体实施中，与现有技术中偏振片的贴合技术相比，对本发明实施例中的偏振片进行贴合时需要较高的精度控制。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板，所述第一衬底基板上具有至少一个金属图案，其中所述金属图案与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积；位于第二衬底基板背向第一衬底基板的外侧面上部分设置有偏光片；

所述偏光片包括的光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，

所述光吸收层与所述像素显示区域部分交叠或完全交叠；所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括的波片位于所述第二衬底基板的外侧面上或者内侧面上且位于所述偏光片的下方；

其中，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

3.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，在所述波片位于所述第二衬底基板的内侧面上时，还包括包覆所述波片的平坦化层。

4.如权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述波片包括波片和波片。

5.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光吸收层为聚乙烯醇PVA，所述偏光片还包括三醋酸纤维素TAC层，其中所述TAC层与所述光吸收层完全重合。

6.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述金属图案包括栅线、数据线、栅极、源极和漏极中的一种或多种。

7.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置为OLED显示装置。

8.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

在相对设置的第一衬底基板和第二衬底基板中的所述第一衬底基板上形成至少一个与像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积的金属图案；以及，在所述第二衬底基板背向所述第一衬底基板的外侧面上部分形成包括光吸收层的偏光片；

将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒，以使所述光吸收层全面覆盖至少一个所述金属图案，并且，所述光吸收层与所述像素显示区域部分交叠或完全交叠；所述光吸收层与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述第二衬底基板的内侧面上形成波片，以使在将所述第一衬底基板和所述第二衬底基板对盒后，所述波片全面覆盖至少一个所述金属图案，所述波片与所述像素显示区域的交叠区域的面积小于所述像素显示区域的面积，并且，所述偏光片全面覆盖所述波片。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，在形成所述波片之后，还包括：

形成包覆所述波片的平坦化层。