CN103424942A - 彩膜基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域，公开了一种彩膜基板及其制备方法，该彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。本发明还公开了一种包括上述的彩膜基板的显示装置。本发明将彩膜基板的透明导电层设于衬底基板和彩色滤光层之间，打破了常规的设计思路，实现了彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层的隔离，有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层不正常导通，进而造成亮线或亮点等不良现象。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前TN（扭曲向列）模式的TFT-LCD（薄膜晶体管-液晶显示器）制作工艺中，在制备彩膜基板时，黑矩阵2作为第一步在衬底基板1上形成，而彩膜基板的透明导电层4（例如为ITO（铟锡氧化物）层）为倒数第二道工序制成(在隔垫物5之前)，透明导电层裸露在彩膜基板的最上层。如图1所示，为现有的彩膜基板的结构示意图，首先在衬底基板上形成黑矩阵和彩色滤光层，然后形成透明导电层，最后形成隔垫物。
如图2所示，当彩膜基板的透明导电层4或阵列基板的透明导电层6的表面存在微颗粒时，则会使得彩膜基板上的透明导电层通过微颗粒与阵列基板上的透明导电层4上下不正常地导通，而引起的亮点或亮线等不良现象，降低产品成品率。
发明内容
（一）要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何避免由于彩膜基板或阵列基板上存在微颗粒而造成两者之间的透明导电层不正常导通，从而引起亮点或亮线的问题。
（二）技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板，其包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。
进一步地，还包括透明保护层，所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。
进一步地，还包括隔垫物，所述隔垫物形成于所述透明保护层上。
本发明一种显示装置，其包括上述的彩膜基板。
本发明一种彩膜基板的制备方法，其包括以下步骤：
S1、在衬底基板上形成透明导电层；
S2、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层，并在黑矩阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；
S3、在所述开口区域形成彩色滤光层。
进一步地，在步骤S3之后还包括步骤S4，在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成透明保护层。
进一步地，在步骤S4之后还包括步骤S5，在所述透明保护层的上方形成隔垫物。
本发明一种彩膜基板的制备方法，其包括以下步骤：
S10、在衬底基板上形成透明导电层；
S20、在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层；
S30、在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。
进一步地，在步骤S30之后还包括步骤S40，在形成有彩色滤光层和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。
进一步地，在步骤S40之后还包括步骤S50，在所述透明保护层上形成隔垫物。
（三）有益效果
上述技术方案所提供的一种彩膜基板及其制备方法，将彩膜基板的透明导电层设于衬底基板和彩色滤光层之间，打破了常规的设计思路，实现了彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层的隔离，有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层不正常导通，进而造成亮线或亮点等不良现象。本发明还提供一种上述技术方案的彩膜基板的显示装置，可提高显示装置的显示效果。
附图说明
图1是现有的彩膜基板的结构示意图；
图2是现有的彩膜基板和阵列基板发生不正常导通的示意图；
图3是本发明的彩膜基板的结构示意图；
图4-图8是本发明实施例一的工艺流程图；
图9-12是本发明实施例二的工艺流程图。
其中，1/10、衬底基板；2/20、黑矩阵；21、黑矩阵层；22、像素树脂；3/30、彩色滤光层；31、子像素；4/40、彩膜基板的透明导电层；5/50、隔垫物；6、阵列基板的透明导电层；60、透明保护层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“正面”、“背面”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
如图3所示，本发明的一种彩膜基板，其包括衬底基板10、黑矩阵20、彩色滤光层30和透明导电层（即透明导电层）40，其中，彩膜基板的透明导电层40形成于衬底基板10和彩色滤光层30之间。
本发明将彩膜基板的透明导电层40设于衬底基板10和彩色滤光层30之间，打破了常规的设计思路，实现了彩膜基板的透明导电层40和阵列基板的透明导电层的隔离，有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层40或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层40和阵列基板的透明导电层不正常导通，进而造成亮线或亮点等不良现象。优选地，彩膜基板的透明导电层40可为ITO（铟锡氧化物）层。
衬底基板10可由玻璃、石英或透明树脂等材质制成。
本发明的彩膜基板还包括透明保护层，所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。
本发明的彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物形成于所述透明保护层上。
本发明还提供了一种显示装置，其特征在于，包括上述的彩膜基板。采用上述技术方案的彩膜基板，可避免显示装置出现亮线或亮点等不良现象，从而提高了显示效果。
本发明还提供了一种彩膜基板的制备方法，并列举两种优选的实施例，如下：
实施例一
本发明一种彩膜基板的制备方法的一个优选实施例，其包括以下步骤：
S1、在衬底基板上形成透明导电层40；
具体为：首先要将由玻璃、石英或透明树脂等材质制成的衬底基板10清洗干净，然后在洁净的衬底基板上采用涂覆、溅射、喷涂等工艺形成透明导电层40，如图4所示；
S2、在形成有透明导电层40的衬底基板10上形成黑矩阵层21，并在黑矩阵层21上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；
具体为：如图5所示，先在形成有透明导电层40的衬底基板10上采用溅射、涂覆或蒸镀等方式形成黑矩阵层21，然后采用一具有透光区域和遮光区域的掩模板进行正面曝光、显影形成具有多个用于形成彩色滤光层的开口区域，剩余的光刻胶为黑矩阵20（见图6中20所示意）；
S3、在开口区域形成彩色滤光层30（一般为RGB（红绿蓝））；
具体为：首先涂覆一种颜色的像素树脂22，通过正面曝光并显影而在预定彩色滤光层的开口区域处形成该种颜色的像素树脂层（一个子像素31，如图7中31所示意）；重复上述的步骤依次形成其它颜色的像素树脂层，最后形成彩色滤光层30，如图8所示。
在步骤S3之后还可包括步骤S4，在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成透明保护层60，如图8所示。
在步骤S4之后还可包括步骤S5，在透明保护层60上涂覆隔垫物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物。或者，也可以利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩模板即可，换言之，隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。
实施例二
本发明一种彩膜基板的制备方法的另一个优选实施例，其包括以下步骤：
S100、在衬底基板10上形成透明导电层40。
具体地，首先要将由玻璃、石英或透明树脂等材质制成的衬底基板10清洗干净，然后在洁净的衬底基板10上涂覆ITO材料，并采用涂覆、溅射、喷涂等工艺形成透明导电层40。该步骤S100与实施例一相同。
S200、在形成有透明导电层40的衬底基板10上形成黑矩阵层21，并在黑矩阵层上形成彩色滤光层30（以RGB为例）。
具体地：先在形成有透明导电层40的衬底基板10上采用溅射、涂覆或蒸镀等方式形成黑矩阵层21，并采用一具有透光区域和遮光区域的掩模板进行曝光显影，如图9所示，该掩模板只在一个像素区域（如红色像素区域）为透光区域，因此，首先形成一个像素区域的开口，如图10所示；在所形成有像素开口区域的衬底基板10涂覆一种颜色像素树脂22，并进行背面曝光，如图11所示，在进行背面曝光后进行显影形成该种颜色的子像素31，如图12所示；同理，重复上述的步骤进行其他子像素的构图，最后完成整个彩色滤光层30的构图。
在步骤S300之后还可包括步骤S400，在形成有彩色滤光层30和黑矩阵20的衬底基板10上形成透明保护层60。
在步骤S400之后还可包括步骤S500，在透明保护层60上涂覆隔垫物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物。或者，也可以利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩模板即可，换言之，隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。
实施例三
本发明一种彩膜基板的制备方法的另一个优选实施例，其包括以下步骤：
S10、在衬底基板10上形成透明导电层40；
具体为：首先要将由玻璃、石英或透明树脂等材质制成的衬底基板10清洗干净，然后在洁净的衬底基板10上涂覆ITO材料，并采用涂覆、溅射、喷涂等工艺形成透明导电层40。该步骤与实施例一和二相同。
S20、在形成有透明导电层40的衬底基板10上形成彩色滤光层30（以RGB为例）；
具体为：在形成有透明导电层的衬底基板上形成红色像素树脂，并通过刻画有图形的掩模板曝光并显影而得到红色滤光层。重复上述步骤得到绿色滤光层和蓝色滤光层。其中，在形成红色滤光层的同时在衬底基板上形成绿色滤光层的对位标记；在形成绿色滤光层的同时在衬底基板上形成蓝色滤光层的对位标记；其中，上述红、绿、蓝三种颜色的滤光层的制作方法中该三种颜色的形成顺序可任意变化。
S30、在彩色滤光层30上形成黑矩阵20；
具体为：在形成有彩色滤光层30的衬底基板10上形成黑矩阵用光刻胶，并以用于形成黑矩阵的专用掩膜板进行曝光、显影及刻蚀而得到黑矩阵图形。
在步骤S30之后还可包括步骤S40，在形成有彩色滤光层30和黑矩阵20的衬底基板10上形成透明保护层60。
在步骤S40之后还可包括步骤S50，在透明保护层60上涂覆隔垫物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物。或者，也可以利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩模板即可，换言之，隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种彩膜基板，包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，其特征在于，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括透明保护层，所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。
3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物，所述隔垫物形成于所述透明保护层上。
4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1所述的彩膜基板。
5.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在衬底基板上形成透明导电层；
S2、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层，并在黑矩阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；
S3、在所述开口区域形成彩色滤光层。
6.如权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S3之后还包括步骤S4，在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成透明保护层。
7.如权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S4之后还包括步骤S5，在所述透明保护层的上方形成隔垫物。
8.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10、在衬底基板上形成透明导电层；
S20、在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层；
S30、在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。
9.如权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S30之后还包括步骤S40，在形成有彩色滤光层和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。
10.如权利要求9所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S40之后还包括步骤S50，在所述透明保护层上形成隔垫物。
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