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CN102402042A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种液晶显示装置及其制造方法，包括两块玻璃基板以及设置两块玻璃基板之间的液晶层，玻璃基板上形成有多个像素区域，在至少一块玻璃基板与液晶层相邻的一侧依次设置有光阻层和透明电极层，光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。本发明的液晶显示装置及其制造方法的制作简单。

Description

液晶显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种液晶显示装置及其制造方法。
背景技术
随着液晶显示技术的飞速发展，高质量的显示屏需要更高的分辨率和更广的视角显示效果。对于垂直配向模式的液晶显示器，一般将液晶显示器的像素区域进行配向分割，使得每个像素区域的液晶分子向不同的方向产生倾斜，因此在施加电压后，在多个角度都可以看见光线，从而可以提升液晶显示器的广视角显示效果。
传统对液晶显示器的像素区域进行配向分割包括以下两种方式：
1、通过在钝化层上形成凸起，使液晶显示器的每个像素区域的液晶分子向不同的方向产生倾斜，在加电压时液晶倾斜于不同的方向以改善液晶显示器的视角。但是，在钝化层上制作凸起以及制作凸起时的控制比较困难。
2、利用蚀刻技术，在透明电极层挖裂缝或者开口形成多配向区域，从而达到上述技术的效果，但是使用这种技术，需要在透明电极层挖裂缝或者开口，其制作工艺也比较复杂。
故，有必要提供一种液晶显示装置及其制造方法，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示装置及其制造方法，以解决现有技术的液晶显示装置制作困难的技术问题。
本发明涉及一种液晶显示装置，包括两块玻璃基板以及设置所述两块玻璃基板之间的液晶层，所述玻璃基板上形成有多个像素区域，其中在至少一块玻璃基板与所述液晶层相邻的一侧依次设置有光阻层和透明电极层，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。
在本发明的液晶显示装置中，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷以及所述凹陷四周的多个凸起。
在本发明的液晶显示装置中，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起以及所述凸起四周的多个凹陷。
在本发明的液晶显示装置中，所述凹陷和/或凸起的截面宽度为0.5微米-20微米。
在本发明的液晶显示装置中，所述凹陷和/或凸起的截面深度为100埃-1000埃。
在本发明的液晶显示装置中，所述凹陷和/或凸起的截面形状为圆形、四边形或多边形。
在本发明的液晶显示装置中，所述两玻璃基板分别为第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板及所述第二玻璃基板上形成有多个像素区域；所述第一玻璃基板与所述第二玻璃基板上均形成有光阻层。
在本发明的液晶显示装置中，所述第一玻璃基板上的光阻层与第二玻璃基板上的光阻层形状不同。
在本发明的液晶显示装置中，所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷，所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起；或所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起，所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷。
本发明还涉及一种液晶显示装置的制造方法，其中包括步骤：A、在玻璃基板上依次沉积钝化层和光阻层；B、通过光罩图形化所述光阻层使得在所述光阻层上形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起；C、在所述光阻层上沉积透明电极层。
本发明的液晶显示装置及其制造方法通过在光阻层上制作凸起和凹陷实现了对液晶显示装置配向分割，解决了现有技术的对液晶显示装置配向分割的制作困难的技术问题。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1为本发明的液晶显示装置的第一优选实施例的结构示意图；
图2为本发明的液晶显示装置的第二优选实施例的结构示意图；
图3为本发明的液晶显示装置的第三优选实施例的结构示意图；
图4为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之一；
图5为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之二；
图6为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之三；
图7为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之四；
图8为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之五；
图9为本发明的液晶显示装置的光阻层的凹陷和/或凸起的结构示意图之六。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
图1所示为本发明的液晶显示装置的第一优选实施例的结构示意图，所述液晶显示装置100包括第一玻璃基板110、液晶层120以及第二玻璃基板130，液晶层120设置在第一玻璃基板110和第二玻璃基板130之间，第一玻璃基板110和第二玻璃基板130上形成有多个像素区域，其中在所述第一玻璃基板110与所述液晶层120相邻的一侧依次设置钝化层113、光阻层111和透明电极层112，光阻层111在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。
如图1所示，第一玻璃基板110位于液晶层120的下方，该第一玻璃基板110与液晶层120相邻的一侧自下至上依次形成有钝化层113、光阻层111以及透明电极层112。第二玻璃基板130位于液晶层120的上方，第二玻璃基板130与液晶层120相邻的一侧设置有透明电极层132。所述光阻层111在同一像素区域形成凹陷和/或凸起(这里可以是一个或多个的凹陷、一个或多个的凸起或者凹陷和凸起的组合，凹陷和凸起的数量可以根据需要具体设定，具体的实现方式请参照下面后述的具体实施例)，使得透明电极层112也具有相同的凹陷和/或凸起。由于第一玻璃基板110具有凹陷和/或凸起，液晶显示装置100的每个像素中液晶层102的液晶分子在加压时向不同的方向偏转，从而提升了液晶显示装置100的显示效果。
光阻层111可以在每个像素区域形成至少一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起或在每个像素区域形成至少一个凸起以及凸起四周的多个凹陷，这样的结构可以达到比较好的显示效果。
光阻层111表面形成的凹陷和/或凸起的截面宽度优选为0.5微米至20微米，截面深度优选为100埃至1000埃，这样可以使液晶层120中的液晶分子的偏转达到最优的偏转效果。凹陷和/或凸起的形状可为圆形、四边形或多边形等各种形状，可以根据需要进行设计。
图2所示为本发明的液晶显示装置的第二优选实施例的结构示意图，所述液晶显示装置200包括第一玻璃基板210、液晶层220以及第二玻璃基板230，液晶层220设置在第一玻璃基板210和第二玻璃基板230之间，第一玻璃基板210和第二玻璃基板230上形成有多个像素区域，其中在所述第二玻璃基板230与所述液晶层220相邻的一侧依次设置钝化层233、光阻层231和透明电极层232，光阻层231在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。
如图2所示，第二玻璃基板230位于液晶层220的上方，该第二玻璃基板230与液晶层220相邻的一侧自上至下依次形成有钝化层233、光阻层231以及透明电极层232。第一玻璃基板210位于液晶层220的下方，第一玻璃基板210与液晶层220相邻的一侧设置有透明电极层212。光阻层231在同一像素区域形成凹陷和/或凸起(这里可以是一个或多个的凹陷、一个或多个的凸起或者凹陷和凸起的组合，凹陷和凸起的数量可以根据需要具体设定，具体的实现方式请参照下面后述的具体实施例)，使得透明电极层232也具有相同的凹陷和/或凸起。由于第二玻璃基板230具有凹陷和/或凸起，液晶显示装置200的每个像素中液晶层202的液晶分子在加压时向不同的方向偏转，从而提升了液晶显示装置200的显示效果。
光阻层231可以在每个像素区域形成至少一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起或在每个像素区域形成至少一个凸起以及凸起四周的多个凹陷，这样的结构可以达到比较好的显示效果。
光阻层231表面形成的凹陷和/或凸起的截面宽度优选为0.5微米至20微米，截面深度优选为100埃至1000埃，这样可以使液晶层220中的液晶分子的偏转达到最优的偏转效果。凹陷和/或凸起的形状可为圆形、四边形或多边形等各种形状，可以根据需要进行设计。
图3所示为本发明的液晶显示装置的第三优选实施例的结构示意图，所述液晶显示装置300包括第一玻璃基板310、液晶层320以及第二玻璃基板330，液晶层320设置在第一玻璃基板310和第二玻璃基板330之间，第一玻璃基板310和第二玻璃基板330上形成有多个像素区域。在所述第一玻璃基板310与所述液晶层320相邻的一侧依次设置钝化层313、光阻层311和透明电极层312，光阻层311在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起；在所述第二玻璃基板330与所述液晶层320相邻的一侧依次设置钝化层333、光阻层331和透明电极层332，光阻层331在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。
如图3所示，第一玻璃基板310位于液晶层320的下方，该第一玻璃基板310与液晶层320相邻的一侧自下至上依次形成有钝化层313、光阻层311以及透明电极层312。第二玻璃基板330位于液晶层320的上方，该第二玻璃基板330与液晶层320相邻的一侧自上至下依次形成有钝化层333、光阻层331以及透明电极层332。光阻层311和光阻层331在同一像素区域形成凹陷和/或凸起(这里可以是一个或多个的凹陷、一个或多个的凸起或者凹陷和凸起的组合，凹陷和凸起的数量可以根据需要具体设定，具体的实现方式请参照下面后述的具体实施例)，使得透明电极层312和透明电极层332也具有相同的凹陷和/或凸起。由于第一玻璃基板310和第二玻璃基板330具有凹陷和/或凸起，液晶显示装置300的每个像素中液晶层302的液晶分子在加压时向不同的方向偏转，从而提升了液晶显示装置300的显示特性。
光阻层311和光阻层331可以在每个像素区域形成至少一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起或在每个像素区域形成至少一个凸起以及凸起四周的多个凹陷，这样的结构可以达到比较好的显示效果。
作为本发明的液晶显示装置300的优选实施例，第一玻璃基板310上的光阻层311与第二玻璃基板330上的光阻层331的形状不同。例如第一玻璃基板310的光阻层311在每个像素区域形成至少一个凹陷，第二玻璃基板330的光阻层331在每个像素区域形成至少一个凸起；或者第一玻璃基板310的光阻层311在每个像素区域形成至少一个凸起，第二玻璃基板330的光阻层331在每个像素区域形成至少一个凹陷；或者第一玻璃基板310的光阻层311在每个像素区域形成至少一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起，第二玻璃基板330的光阻层331在每个像素区域形成至少一个凸起以及凸起四周的多个凹陷；或者第一玻璃基板310的光阻层311在每个像素区域形成至少一个凸起以及凸起四周的多个凹陷，第二玻璃基板330的光阻层331在每个像素区域形成至少一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起；当然，第一玻璃基板310上的光阻层311及第二玻璃基板330上的光阻层331对应的设置方式并不限于以上方式，只要第一玻璃基板310上的光阻层311与第二玻璃基板330上的光阻层331的形状不同即可。将凹陷和凸起分开设置在不同玻璃基板上的光阻层上使得具有单独凸起或凹陷的光阻层制作起来更加简单，并且对液晶层320中的液晶分子具有较好的偏转效果。
光阻层311和光阻层331表面形成的凹陷和/或凸起的截面宽度优选为0.5微米至20微米，截面深度优选为100埃至1000埃，这样可以使液晶层320中的液晶分子的偏转达到最优的偏转效果。凹陷和/或凸起的形状可为圆形、四边形或多边形等各种形状，可以根据需要进行设计。
作为本发明的液晶显示装置的优选实施例，光阻层在同一像素区域上可形成凹陷和/或凸起，如图4-9所示，图中的外框为一个像素区域，实线圈表示凸起，虚线圈表示凹陷，图4为光阻层在同一像素区域上形成一个凸起，图5为光阻层在同一像素区域上形成一个凹陷，图6为光阻层在同一像素区域上形成多个凸起，图7为光阻层在同一像素区域上形成凹陷，图8为光阻层在同一像素区域上形成一个凹陷以及凹陷四周的多个凸起，图9为光阻层在同一像素区域上形成一个凸起以及凸起四周的多个凹陷。当然光阻层也可以在同一像素区域同时形成多个不规则的凹陷和凸起。具有凹陷和/或凸起的光阻层可以设置在第一玻璃基板内侧，也可以设置在第二玻璃基板的内侧，或同时设置在第一玻璃基板和第二玻璃基板的内侧，并且对凹陷和凸起的数量和形状并不做限制。
本发明还涉及一种液晶显示装置的制造方法，其中包括步骤：A、在玻璃基板上依次沉积钝化层和光阻层；B、通过光罩图形化所述光阻层使得在所述光阻层上形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起；C、在所述光阻层上沉积透明电极层。
本发明的液晶显示装置的制造方法首先在玻璃基板上依次沉积钝化层和光阻层；然后使用光罩对光阻层进行图像化，使得光阻层在同一像素区域形成凹陷和/或凸起，可以采用多次光刻的方式在同一像素区域形成凹陷和/或凸起，也可以在同一像素区域采用了半透性光刻板光罩(halftone mask)或灰阶光刻板光罩(gray tone mask)一次性形成相应的凹陷和/或凸起；最后在已经形成凹陷和/或凸起的光阻层上沉积透明电极层(优选为氧化铟锡层或氧化铟锌层)，使得透明电极层也具有相同的凹陷和/或凸起。由于玻璃基板具有凹陷和/或凸起，液晶显示装置的每个像素中液晶层的液晶分子在加压时向不同的方向偏转，从而提升了液晶显示装置的显示特性。
本发明的液晶显示装置的制造方法制得的光阻层表面形成的凹陷和/或凸起的截面宽度优选为0.5微米至20微米，截面深度优选为100埃至1000埃，这样可以使液晶层中的液晶分子的偏转达到最优的偏转效果。凹陷和/或凸起的形状可为圆形、四边形或多边形等各种形状，可以根据需要进行设计。同时凹陷和/或凸起的数量也可以根据需要进行设计。
本发明的液晶显示装置及其制造方法通过在钝化层上形成光阻层，并在光阻层上制作凸起和凹陷实现了对液晶显示装置配向分割，解决了现有技术的对液晶显示装置配向分割的制作困难的技术问题。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种液晶显示装置，包括两块玻璃基板以及设置所述两块玻璃基板之间的液晶层，所述玻璃基板上形成有多个像素区域，其特征在于，在至少一块玻璃基板与所述液晶层相邻的一侧依次设置有光阻层和透明电极层，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起。
2.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷以及所述凹陷四周的多个凸起。
3.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起以及所述凸起四周的多个凹陷。
4.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述凹陷和/或凸起的截面宽度为0.5微米-20微米。
5.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述凹陷和/或凸起的截面深度为100埃-1000埃。
6.根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，所述凹陷和/或凸起的截面形状为圆形、四边形或多边形。
7.根据权利要求1-6任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，所述两玻璃基板分别为第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板及所述第二玻璃基板上形成有多个像素区域；所述第一玻璃基板与所述第二玻璃基板上均形成有光阻层。
8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一玻璃基板上的光阻层与第二玻璃基板上的光阻层形状不同。
9.根据权利要求8所述的液晶显示装置，其特征在于，所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷，所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起；或
所述第一玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凸起，所述第二玻璃基板上的光阻层在每个像素区域形成至少一个凹陷。
10.一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，包括步骤：
A、在玻璃基板上依次沉积钝化层和光阻层；
B、通过光罩图形化所述光阻层使得在所述光阻层上形成至少一个凹陷和/或至少一个凸起；
C、在所述光阻层上沉积透明电极层。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104330932A (zh) * 2014-11-05 2015-02-04 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
CN104375312A (zh) * 2014-11-11 2015-02-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa阵列基板及液晶显示面板
CN104503155A (zh) * 2014-11-17 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示像素结构及其制作方法
CN104503159A (zh) * 2014-12-17 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制备方法
TWI480649B (zh) * 2012-06-01 2015-04-11 Innocom Tech Shenzhen Co Ltd 顯示裝置及其製造方法
CN104698687A (zh) * 2015-03-24 2015-06-10 深圳市华星光电技术有限公司 高穿透率va型液晶显示面板及其制作方法
CN105068325A (zh) * 2015-08-31 2015-11-18 深圳市华星光电技术有限公司 Psva型液晶显示面板
US9577104B2 (en) 2014-11-11 2017-02-21 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd COA substrate and liquid crystal display panel
CN106873217A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 显示面板的制造方法
CN106873261A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备
CN106873216A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 显示面板及其应用的液晶显示面板
CN106980200A (zh) * 2017-03-30 2017-07-25 惠科股份有限公司 显示面板及其制造方法
CN109656065A (zh) * 2019-01-15 2019-04-19 惠科股份有限公司 一种显示面板及显示装置
CN115421334A (zh) * 2022-09-20 2022-12-02 惠科股份有限公司 阵列基板、阵列基板的制备方法、显示面板及显示器

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004280006A (ja) * 2003-03-19 2004-10-07 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
CN1677181A (zh) * 2004-03-31 2005-10-05 夏普株式会社 液晶显示器件、其驱动方法和电子设备
CN1782823A (zh) * 2004-11-30 2006-06-07 三洋电机株式会社 液晶显示装置
CN1866104A (zh) * 2005-05-20 2006-11-22 三洋爱普生映像元器件有限公司 显示装置
CN101063779A (zh) * 2006-04-24 2007-10-31 Nec液晶技术株式会社 液晶显示设备及其制造方法
CN101799597A (zh) * 2009-02-09 2010-08-11 三星电子株式会社 显示器件及其制造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098667A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd 配向制御用突起を有する基板およびそれを用いた液晶表示装置。
CN101251666A (zh) * 2008-03-27 2008-08-27 友达光电股份有限公司 具有整合触摸板的显示装置
CN101813850B (zh) * 2009-02-19 2011-08-10 北京京东方光电科技有限公司 液晶盒
CN101826529A (zh) * 2009-03-05 2010-09-08 友达光电股份有限公司 薄膜晶体管像素结构及其制造方法
CN101887199B (zh) * 2009-05-15 2014-04-23 上海天马微电子有限公司 液晶显示装置及该液晶显示装置的制造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004280006A (ja) * 2003-03-19 2004-10-07 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
CN1677181A (zh) * 2004-03-31 2005-10-05 夏普株式会社 液晶显示器件、其驱动方法和电子设备
CN1782823A (zh) * 2004-11-30 2006-06-07 三洋电机株式会社 液晶显示装置
CN1866104A (zh) * 2005-05-20 2006-11-22 三洋爱普生映像元器件有限公司 显示装置
CN101063779A (zh) * 2006-04-24 2007-10-31 Nec液晶技术株式会社 液晶显示设备及其制造方法
CN101799597A (zh) * 2009-02-09 2010-08-11 三星电子株式会社 显示器件及其制造方法

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI480649B (zh) * 2012-06-01 2015-04-11 Innocom Tech Shenzhen Co Ltd 顯示裝置及其製造方法
CN104330932A (zh) * 2014-11-05 2015-02-04 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
WO2016070452A1 (zh) * 2014-11-05 2016-05-12 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
CN104330932B (zh) * 2014-11-05 2016-09-07 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板及液晶显示面板
US9577104B2 (en) 2014-11-11 2017-02-21 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd COA substrate and liquid crystal display panel
CN104375312A (zh) * 2014-11-11 2015-02-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa阵列基板及液晶显示面板
CN104375312B (zh) * 2014-11-11 2017-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种coa阵列基板及液晶显示面板
CN104503155A (zh) * 2014-11-17 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示像素结构及其制作方法
CN104503159A (zh) * 2014-12-17 2015-04-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制备方法
CN104503159B (zh) * 2014-12-17 2017-08-18 深圳市华星光电技术有限公司 液晶面板及其制备方法
CN104698687A (zh) * 2015-03-24 2015-06-10 深圳市华星光电技术有限公司 高穿透率va型液晶显示面板及其制作方法
WO2016149974A1 (zh) * 2015-03-24 2016-09-29 深圳市华星光电技术有限公司 高穿透率va型液晶显示面板及其制作方法
US9964809B2 (en) 2015-03-24 2018-05-08 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. High transmittance VA type liquid crystal display panel and manufacture method thereof
CN105068325A (zh) * 2015-08-31 2015-11-18 深圳市华星光电技术有限公司 Psva型液晶显示面板
CN106873217A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 显示面板的制造方法
CN106873261A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 液晶显示面板的画素结构及其应用的显示设备
CN106873216A (zh) * 2016-12-30 2017-06-20 惠科股份有限公司 显示面板及其应用的液晶显示面板
CN106980200A (zh) * 2017-03-30 2017-07-25 惠科股份有限公司 显示面板及其制造方法
CN109656065A (zh) * 2019-01-15 2019-04-19 惠科股份有限公司 一种显示面板及显示装置
CN109656065B (zh) * 2019-01-15 2021-01-08 惠科股份有限公司 一种显示面板及显示装置
CN115421334A (zh) * 2022-09-20 2022-12-02 惠科股份有限公司 阵列基板、阵列基板的制备方法、显示面板及显示器

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