CN102372944A - 应用于示踪防伪技术的颜料薄片及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片及其制备方法，其中该颜料薄片包括一磁性层，且该颜料薄片上具有预先设定的至少一微缩图文。
Description
技术领域
本发明涉及示踪防伪技术领域，且特别是涉及一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片及其制造方法。
背景技术
示踪防伪技术是一种使用微缩特殊图文示踪的防伪技术，其已经广泛地应用在货币、签证、烟标以及酒标等各种产品标识中。现有的微缩图文的制造方法主要有微缩印刷技术以及带微缩图文的烫印膜技术。
微缩印刷技术是通过印刷机直接印刷微缩图文，其特点是印刷速度快，但是只能印刷百微米级的微缩图文。而带微缩图文的烫印膜技术主要是将微缩图文做在烫印膜上，然后再烫印到承载物上，其特点是可以制作几十微米级的微缩图文，但是此技术烫印速度相对较慢。且随着假冒技术的不断改进，上述第一种技术已经很难起到有效示踪和防伪的作用。上述第二种技术很难满足工业化对快速生产的要求。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其可大规模地进行量产且可配置在油墨中以印刷在产品标识中。
本发明的目的还在于，提供一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法，其可大规模地量产该颜料薄片。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
本发明提供一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其中该颜料薄片包括一磁性层，且该颜料薄片上具有预先设定的至少一微缩图文。
优选地，该微缩图文设置在该磁性层上。该磁性层为选自铁、钴、镍、钆、铁钴合金、二氧化铬、磁性氧化铁尖晶石、磁性石榴石、磁性铁氧体、钐钴合金和稀土-铁-硼合金等化学元素的磁性金属或磁性金属合金层。该磁性层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间。该微缩图文的大小介于0.3微米至50微米之间。
优选地，该颜料薄片进一步包括一薄膜层，其与该磁性层堆栈在一起。该薄膜层为一介质层，且该介质层的材料选自SiO2、MgF2、ZnS、Al2O3、SiO、TiO2，而该介质层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间。或者该薄膜层为一金属层，且该金属层的材料选自铝、铬、镍、钨、钼、铜、锌等，而该金属层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间。此外，该微缩图文设置在该磁性层及该薄膜层的任意之一上。
优选地，该颜料薄片包括三层或者三层以上的多层光学薄膜层，其中一光学薄膜层为该磁性层，且该微缩图文设置在该多层光学薄膜层的至少之一上。
本发明还提供一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法，其中其包括：制造至少一微缩图文；制备磁性层及固着该微缩图文以形成一磁性模组；以及对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片。
优选地，上述制造该微缩图文的步骤包括：制造一微缩图文模板；在一基底上涂布一基底隔离层与一成像层；以及模压该微缩图文模板与该成像层以将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上。
优选地，上述制备磁性层及固着该微缩图文以形成该磁性模组的步骤包括利用真空蒸镀技术将一磁性层、一介质层或者一金属层蒸镀形成在该成像层上以形成该磁性模组。
优选地，上述模压该微缩图文模板与该成像层以将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上的步骤包括：脱膜该磁性模组以使该基底脱离而形成一磁性薄膜；收集该磁性薄膜；粉碎该磁性薄膜以形成该颜料薄片；以及对该颜料薄片进行表面处理。
综上所述，本发明所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片可利用制模技术来大规模地量产制备该微缩图文，从而大规模的量产该颜料薄片，然后将颜料薄片配置在油墨中，再采用印刷技术而印刷在产品标识中以进行示踪防伪。由于本发明并不是直接印刷微缩图文至产品标识中，而是先制备颜料薄片，然后再进行印刷，因此本发明的微缩图文可缩小为几十微米级。且，本发明的颜料薄片可配置在油墨中然后进行印刷以制备具有示踪防伪功能的产品标识，因此产品标识的制作速度比较快。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
附图说明
图1是本发明第一实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。
图2是本发明第二实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。
图3是本发明第三实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。
图4是本发明一实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法的流程图。
图5是图4所示的制造该微缩图文步骤的具体流程图。
图6是图4所示的对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片步骤的具体流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的防伪薄片及其制造方法的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
请参阅图1，其绘示为本发明第一实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。如图1所示，本实施例所揭示的颜料薄片100仅仅包括磁性层110，且该磁性层110上固着有微缩图文120，示意出的微缩图文特定信息为系列“F”。优选地，该磁性层110为选自铁、钴、镍、钆、铁钴合金、二氧化铬、磁性氧化铁尖晶石、磁性石榴石、磁性铁氧体、钐钴合金和稀土-铁-硼合金等化学元素的磁性金属或磁性金属合金层。此外，该磁性层110的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间，优选5纳米至80纳米。该微缩图文的大小介于0.3微米至50微米之间，优选5微米至25微米。该颜料薄片100的大小介于1微米至100微米之间，优选10微米至30微米。
请参阅图2，其绘示为本发明第二实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。如图2所示，本实施例所揭示的颜料薄片200与第一实施例所揭示的颜料薄片100相似，其不同在于该颜料薄片200除了包括磁性层210，还包括一薄膜层220。其中，该薄膜层220为一介质层或者一金属层。当该薄膜层220为介质层时，该介质层的材料选自SiO2、MgF2、ZnS、Al2O3、SiO、TiO2等，而该介质层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间，优选50纳米至800纳米。当该薄膜层220为金属层时，该金属层的材料选自铝、铬、镍、钨、钼、铜、锌等，而该金属层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间，优选10纳米至80纳米。此外，微缩图文230是固着在该磁性层210以及该薄膜层220中的任意之一上。
请参阅图3，其绘示为本发明第三实施例所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的示意图。如图3所示，本实施例所揭示的颜料薄片300与第一实施例所揭示的颜料薄片100相似，其不同在于该颜料薄片300包括三层或者三层以上的多层光学薄膜层310～330，其中一光学薄膜层例如320为磁性层。微缩图文340是固着在该多层光学薄膜层310～330中的至少之一上。
本发明所揭示的颜料薄片可配置在油墨中，再采用印刷技术而印刷在产品标识中以进行示踪防伪。由于本发明并不是直接印刷微缩图文至产品标识中，而是先制备颜料薄片，然后再进行印刷，因此本发明的微缩图文可缩小为几十微米级。且，本发明的颜料薄片可配置在油墨中然后进行印刷以制备具有示踪防伪功能的产品标识，因此产品标识的制作速度比较快。
此外，本发明还提供一种颜料薄片的制造方法。请参阅图4，其绘示为本发明一实施例所揭示的颜料薄片的制造方法的流程图。如图4所示，该颜料薄片的制造方法包括：制造微缩图文；制备磁性层及固着该微缩图文以形成一磁性模组；以及对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片。
请参阅图5，其绘示为上述制造该微缩图文步骤的具体流程图。如图5所示，上述制造该微缩图文步骤包括：制造微缩图文模板；在一基底上涂布基底隔离层与成像层；以及模压该微缩图文模板与该成像层以将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上。具体地，制造该微缩图文模板时，是通过电脑制作微缩图文，该微缩图文的大小介于0.3微米至50微米之间，优选5微米至25微米。然后再经过光刻和化学腐蚀等方法从而制作成该微缩图文模板。涂布该基底隔离层与该成像层是在PET等薄膜材料基底上先涂布水性或油性隔离层，然后再涂布该成像层。其中，该成像层的材料可选择化学和物理性能稳定、抗氧化、不易被溶剂腐蚀、透明、受热后具有延展性、冷却后具备脆性、且能和该基底隔离层匹配良好的材料。最后，模压该微缩图文模板与该成像层从而将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上。
此外，上述制备磁性层及固着该微缩图文以形成该磁性模组步骤是利用真空蒸镀技术将一磁性层、一介质层或者一金属层蒸镀形成在该成像层上以形成该磁性模组。也就是说，该磁性模组包括该PET薄膜材料基底、该基底隔离层、该成像层、该磁性层及或该介质层或者该金属层。因此，该磁性层、该介质层或者该金属层上具有该微缩图文。上述磁性模组是否具有该介质层或者该金属层是依据该颜料薄片的具体结构而确定。
请参阅图6，其绘示为上述对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片步骤的具体流程图。如图6所示，上述对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片步骤包括：脱膜该磁性模组以使该PET薄膜材料基底脱离而形成一磁性薄膜；收集该磁性薄膜；粉碎该磁性薄膜以形成颜料薄片；以及对该颜料薄片进行表面处理。具体地，首先根据该基底隔离层的材料性能选用水性或者油性脱模剂来对该磁性模组进行脱模处理以使该PET薄膜材料基底与该磁性薄膜相互分离，因此该磁性薄膜包括具有该微缩图文的成像层、该磁性层及或该介质层或者该金属层。然后，通过离心设备或者抽滤设备实现薄片和溶剂的固液分离从而收集该磁性薄膜。再利用气流、超声、球磨、砂磨、剪切等粉碎工艺或上述工艺的组合将该磁性薄膜粉碎成1-100微米的颜料薄片，优选地，该颜料薄片的大小为10-30微米。最后，通过化学方法对粉碎后的颜料薄片进行表面改性，使其与油墨等其他成份能够很好的匹配，从而保证在印刷产品标识的过程中颜料薄片能够能够得到最大程度的平铺。
因此，本发明所揭示的应用于示踪防伪技术的颜料薄片可利用制模技术来大规模的量产制备该微缩图文，从而大规模的量产该颜料薄片，然后将颜料薄片配置在油墨中，再采用印刷技术而印刷在产品标识中以进行示踪防伪。由于本发明并不是直接印刷微缩图文至产品标识中，而是先制备颜料薄片，然后再进行印刷，因此本发明的微缩图文可缩小为几十微米级。且，本发明的颜料薄片可配置在油墨中然后进行印刷以制备具有示踪防伪功能的产品标识，因此产品标识的制作速度比较快。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该颜料薄片包括至少一磁性层，且该颜料薄片上具有预先设定的至少一微缩图文。
2.根据权利要求1所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该微缩图文设置在该磁性层上。
3.根据权利要求1所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该磁性层为选自铁、钴、镍、钆、铁钴合金、二氧化铬、磁性氧化铁尖晶石、磁性石榴石、磁性铁氧体、钐钴合金和稀土-铁-硼合金化学元素的磁性金属或磁性金属合金层，该磁性层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间，该微缩图文的大小介于0.3微米至50微米之间。
4.根据权利要求1所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该颜料薄片进一步包括薄膜层，其与该磁性层堆栈在一起。
5.根据权利要求4所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该薄膜层为一介质层，该介质层的材料选自SiO2、MgF2、ZnS、Al2O3、SiO、TiO2，而该介质层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间
6.根据权利要求4所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，其特征在于该薄膜层为一金属层，该金属层的材料选自铝、铬、镍、钨、钼、铜、锌等，而该金属层的物理厚度范围介于1纳米至1000纳米之间。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片，该颜料薄片包括三层或者三层以上的多层光学薄膜层，其中一光学薄膜层为该磁性层，且该微缩图文设置在该多层光学薄膜层的至少之一上，该颜料薄片的大小介于1微米至100微米之间。
8.一种应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法，其特征在于其包括：
制造至少一微缩图文；
制备磁性层及固着该微缩图文以形成一磁性模组；以及
对该磁性模组进行处理以形成该颜料薄片。
9.根据权利要求8所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法，其特征在于上述制造该微缩图文的步骤包括：
制造一微缩图文模板；
在一基底上涂布一基底隔离层与一成像层；以及
模压该微缩图文模板与该成像层以将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上。
10.根据权利要求9所述的应用于示踪防伪技术的颜料薄片的制造方法，其特征在于上述制备磁性层及固着该微缩图文以形成该磁性模组的步骤包括利用真空蒸镀技术将一磁性层、一介质层或者一金属层蒸镀形成在该成像层上以形成该磁性模组，上述模压该微缩图文模板与该成像层以将该微缩图文模板上的微缩图文转移至该成像层上的步骤包括：
脱膜该磁性模组以使该基底脱离而形成一磁性薄膜；
收集该磁性薄膜；
粉碎该磁性薄膜以形成该颜料薄片；以及
对该颜料薄片进行表面处理。
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