CN102015567B - 玻璃熔接方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及玻璃熔接方法。在通过沿着熔接预定区域(R)对玻璃层(203)照射激光(L2)，从而熔接玻璃构件(104)与玻璃构件(105)之时，将形成于玻璃层(203)的结晶化部(108)作为照射开始位置和照射结束位置。此时，由于结晶化部(108)中的激光的吸收率低于玻璃层(203)中的激光的吸收率，因而在沿着熔接预定区域(R)使激光(L2)从照射开始位置移动时，玻璃层(203)逐渐地被加热，另一方面，在沿着熔接预定区域(R)使激光(L2)移动至照射结束位置时，玻璃层(203)逐渐地被冷却。由此，能够防止在包含激光(L2)的照射开始位置和照射结束位置的部分上产生残留应力。

Description

玻璃熔接方法

技术领域

本发明涉及熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件而制造玻璃熔接体的玻璃熔接方法。

背景技术

作为上述技术领域的现有的玻璃熔接方法，已知有在第1玻璃构件与第2玻璃构件之间，沿着环状的熔接预定区域形成含有玻璃料(glass frit)的玻璃料层，之后，沿着该熔接预定区域在玻璃料层上照射激光，从而熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件的方法(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本特表2006-524419号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，在如上述那样的玻璃熔接方法中，存在无法可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件的情况。

因此，本发明有鉴于这样的情况，其目的在于，提供能够可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件的玻璃熔接方法。

解决问题的技术手段

为了达成上述目的，本发明所涉及的玻璃熔接方法的特征在于，是熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件而制造玻璃熔接体的玻璃熔接方法，其包含：在第1玻璃构件与第2玻璃构件之间，沿着环状的熔接预定区域形成玻璃层的工序；通过对玻璃层的一部分照射第1激光，从而在玻璃层中形成结晶化部的工序；以及将结晶化部作为照射开始位置和照射结束位置，沿着熔接预定区域对玻璃层照射第2激光，从而熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件的工序。

在该玻璃熔接方法中，将形成于玻璃层的结晶化部作为照射开始位置和照射结束位置，沿着熔接预定区域对玻璃层照射第2激光，从而熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。此时，由于结晶化部中的激光的吸收率低于玻璃层中的激光的吸收率，因而在沿着熔接预定区域使第2激光从照射开始位置移动时，玻璃层逐渐地被加热，另一方面，在沿着熔接预定区域使第2激光移动至照射结束位置时，玻璃层逐渐地被冷却。而且，结晶化部的线膨胀系数低于玻璃层的线膨胀系数，在照射开始位置，第1玻璃构件与第2玻璃构件被牢固地熔接，因此，即使第2激光的照射位置在照射开始位置附近，也可以抑制在照射开始位置被熔接的第1玻璃构件与第2玻璃构件的剥离。因此，根据该玻璃熔接方法，能够防止在包含第2激光的照射开始位置和照射结束位置的部分上产生残留应力。因此，可以可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。

即在现有的玻璃熔接方法中，在沿着环状的熔接预定区域使激光的照射位置移动时，如果激光的照射位置接近于照射开始位置，那么因在照射位置的玻璃料层的熔融·膨胀，在照射开始位置被熔接的第1玻璃构件与第2玻璃构件可能会剥离。因此，如果以快于剥离速度的速度越过照射开始位置并使激光的照射位置进一步移动，则可以再熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。然而，在这样的情况下，在包含照射开始位置和照射结束位置的部分上会产生残留应力，在受到冲击等的时候，该部分可能会成为剥离的起点。对此，根据本发明所涉及的玻璃熔接方法，能够防止在包含激光的照射开始位置和照射结束位置的部分上产生残留应力。

另外，本发明所涉及的玻璃熔接方法的特征在于，是熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件而制造玻璃熔接体的玻璃熔接方法，其包含：在第1玻璃构件与第2玻璃构件之间，沿着环状的熔接预定区域形成玻璃层的工序；对玻璃层的曲部照射第1激光，从而在玻璃层中形成结晶化部的工序；以及沿着熔接预定区域对玻璃层照射第2激光，从而熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件的工序。

在该玻璃熔接方法中，在具有形成了结晶化部的曲部的玻璃层，沿着熔接预定区域照射第2激光，从而熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。此时，由于结晶化部中的激光的吸收率低于玻璃层中的激光的吸收率，因而在沿着熔接预定区域使第2激光从结晶化部移动时，玻璃层逐渐地被加热，另一方面，在沿着熔接预定区域使第2激光移动至结晶化部时，玻璃层逐渐地被冷却。而且，结晶化部的线膨胀系数低于玻璃层的线膨胀系数，在结晶化部第1玻璃构件与第2玻璃构件被牢固地熔接，因此，即使第2激光的照射位置接近于结晶化部，也可以抑制在结晶化部被熔接的第1玻璃构件与第2玻璃构件的剥离。因此，根据该玻璃熔接方法，能够避免玻璃层的曲部成为可使第1玻璃构件与第2玻璃构件破损的入热过多的状态。

即在现有的玻璃熔接方法中，在沿着环状的熔接预定区域使激光的照射位置移动时，在玻璃料层的曲部会成为入热过多的状态，可能会使第1玻璃构件与第2玻璃构件破损。对此，根据本发明所涉及的玻璃熔接方法，能够避免成为可使第1玻璃构件与第2玻璃构件破损的入热过多的状态。

在本发明所涉及的玻璃熔接方法中，优选，以使第2激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低的方式，形成结晶化部。在该情况下，在沿着熔接预定区域使第2激光从结晶化部移动时，能够更缓慢地加热玻璃层，另一方面，在沿着熔接预定区域使第2激光移动至结晶化部时，能够更缓慢地冷却玻璃层。

在本发明所涉及的玻璃熔接方法中，优选，使第1激光脉冲振荡，使第2激光连续振荡。在该情况下，能够避免成为可使第1玻璃构件与第2玻璃构件破损的入热过多的状态，并且能够在玻璃层的一部分可靠地形成结晶化部，另外，能够可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。

发明的效果

根据本发明，能够可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。

附图说明

图1是由本发明所涉及的玻璃熔接方法的第1实施方式制造的玻璃熔接体的立体图。

图2是用于说明制造图1的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图3是用于说明制造图1的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图4是用于说明制造图1的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图5是用于说明制造图1的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图6是表示玻璃的加热温度与激光的吸收率的关系的曲线图。

图7是由本发明所涉及的玻璃熔接方法的第2实施方式制造的玻璃熔接体的立体图。

图8是用于说明制造图7的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图9是用于说明制造图7的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图10是用于说明制造图7的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图11是用于说明制造图7的玻璃熔接体的玻璃熔接方法的立体图。

图12是表示玻璃的加热温度与激光的吸收率的关系的曲线图。

图13是表示从照射开始位置至照射结束位置的激光的照射位置与激光照射时的在激光的照射位置的温度的关系的曲线图。

图14是在玻璃层的曲部弯曲的情况下的结晶化部的形成位置的说明图。

图15是在多个熔接预定区域配置成矩阵状的情况下的激光的扫描方法的说明图。

符号的说明

101、201…玻璃熔接体、103、203…玻璃层、203a…曲部、104、204…玻璃构件(第1玻璃构件)、105、205…玻璃构件(第2玻璃构件)、108、208…结晶化部、R…熔接预定区域、L1…激光(第1激光)、L2…激光(第2激光)

具体实施方式

以下，参照附图，详细地说明本发明的优选的实施方式。还有，在各图中，对同一或相当部分附上同一符号，省略重复的说明。

[第1实施方式]

图1是由本发明所涉及的玻璃熔接方法的第1实施方式制造的玻璃熔接体的立体图。如图1所示，玻璃熔接体101是隔着沿着熔接预定区域R形成的玻璃层103而使玻璃构件(第1玻璃构件)104与玻璃构件(第2玻璃构件)105被熔接的玻璃熔接体。玻璃构件104、105例如是由无碱玻璃构成的厚度0.7mm的矩形板状的构件，熔接预定区域R沿着玻璃构件104、105的外缘而被设定成矩形环状。玻璃层103例如由非晶质的低熔点玻璃(钒磷酸类玻璃、铅硼酸玻璃等)构成，沿着熔接预定区域R而被形成为矩形环状。在玻璃层103的1个曲部形成有通过将玻璃层103的一部分结晶化而成的结晶化部108。

其次，说明用于制造上述的玻璃熔接体101的玻璃熔接方法。

首先，如图2所示，例如，使由低熔点玻璃(钒磷酸类玻璃、铅硼酸玻璃等)所构成的粉末状的玻璃料102粘着于玻璃构件104的表面，沿着矩形环状的熔接预定区域R形成玻璃层103。具体来说，通过滴涂器(dispenser)或丝网印刷等，沿着熔接预定区域R在玻璃构件104的表面涂布玻璃料膏体(由玻璃料102、有机溶剂以及粘结剂混炼而成的膏体)，之后，使涂布有玻璃料膏体的玻璃构件104在干燥机内干燥而除去有机溶剂。然后，在将玻璃构件104在加热炉内加热而除去粘结剂之后，进一步在高温下进行烧成(临时烧成)而使玻璃料102熔融·再固化，从而在玻璃构件104上形成玻璃层103。

还有，如图6所示，在玻璃料102的粘着层中，因粉末状的玻璃料102而引起超过激光吸收性颜料的吸收特性的光散射，因此，激光的吸收率低(在可见光下可看见为白色)。对此，在玻璃层103中，因熔融·再固化而空隙被填满并透明化，激光吸收性颜料的吸收特性显著地显现，因此，激光的吸收率急剧地升高(在可见光下可看见为黑色)。

接着，如图3所示，隔着玻璃层103而在玻璃构件104上配置玻璃构件105，以对玻璃构件104按压玻璃构件105的方式，固定玻璃构件104与玻璃构件105。由此，在玻璃构件104与玻璃构件105之间，沿着矩形环状的熔接预定区域R形成玻璃层103。

接着，如图4所示，使聚光点对准玻璃层103，将激光(第1激光)L1照射于玻璃层103的一个曲部，从而在玻璃层103的1个曲部形成结晶化部108。激光L1由振荡波长940nm的半导体激光而脉冲振荡，在点径1.6mm、激光功率40W、照射时间300msec的条件下被照射于玻璃层103的1个曲部。由此，激光L1被激光的吸收率高的玻璃层103吸收，其结果，形成激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低的球状的结晶化部108。

还有，如图6所示，在结晶化部108中，在各结晶质的界面或结晶质与非晶质的界面，由于引起超过激光吸收性颜料的吸收特性的光散射，因此，激光的吸收率变低(在可见光下可看见为白色)。而且，在该结晶化部108中，激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低(在可见光下可看见为越接近中心部白色越增加)。

接着，如图5所示，使聚光点对准玻璃层103，将结晶化部108作为照射开始位置和照射结束位置而沿着熔接预定区域R将激光(第2激光)L2照射于玻璃层103，从而熔接玻璃构件104与玻璃构件105而得到玻璃熔接体101。激光L2由振荡波长940nm的半导体激光而连续振荡，在点径1.6mm、激光功率40W、扫描速度(沿着熔接预定区域R的激光L2的聚光点的相对移动速度)10mm/sec的条件下被照射于玻璃层103。由此，激光L2被激光的吸收率高的玻璃层103吸收，使玻璃层103以及其周边部分(玻璃构件104、105的表面部分)熔融·再固化，从而熔接玻璃构件104与玻璃构件105。

在以上的玻璃熔接方法中，在通过沿着熔接预定区域R将激光L2照射于玻璃层103，从而熔接玻璃构件104与玻璃构件105之时，将形成于玻璃层103的结晶化部108作为照射开始位置和照射结束位置。

此时，结晶化部108中的激光的吸收率低于玻璃层103中的激光的吸收率(参照图6)，因此，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从照射开始位置移动时，玻璃层103逐渐地被加热，另一方面，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至照射结束位置时，玻璃层103逐渐地被冷却。在此，以激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低的方式形成结晶化部108，因此，能够更缓慢地进行在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从照射开始位置移动时的玻璃层103的加热。在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至照射结束位置时的玻璃层103的冷却也是同样的。

而且，结晶化部108的线膨胀系数低于玻璃层103的线膨胀系数，在照射开始位置玻璃构件104与玻璃构件105被牢固地熔接。因此，即使作为玻璃层103熔融·膨胀的位置的激光L2的照射位置在照射开始位置附近，也可以抑制在照射开始位置被熔接的玻璃构件104与玻璃构件105的剥离。

因此，根据上述的玻璃熔接方法，能够防止在包含激光L2的照射开始位置和照射结束位置的部分上产生残留应力。还有，在沿着熔接预定区域R连续地形成结晶化部108时，由于形成结晶化部108时的收缩较为急剧，因而可能使玻璃构件104、105破损。

进而，使用于形成结晶化部108的激光L1脉冲振荡，并使用于熔接玻璃构件104与玻璃构件105的激光L2连续振荡，因此，能够避免成为可使玻璃构件104、105破损的入热过多的状态，并且能够在玻璃层103的一部分可靠地形成结晶化部108，另外，能够可靠地熔接玻璃构件104与玻璃构件105。

本发明并不限于上述的第1实施方式。

例如，形成结晶化部108的位置(即激光L2的照射开始位置和照射结束位置)并不限定于熔接预定区域R的曲部，也可以为熔接预定区域R的直线部。进而，熔接预定区域R不限定于矩形环状，只要是环状，也可以为圆形环状等。

另外，不使玻璃料102粘着于玻璃构件104，而使玻璃料102介于玻璃构件104与玻璃构件105之间，从而也可以沿着熔接预定区域R形成玻璃层103。

[第2实施方式]

图7是由本发明所涉及的玻璃熔接方法的第2实施方式制造的玻璃熔接体的立体图。如图7所示，玻璃熔接体201是隔着沿着熔接预定区域R形成的玻璃层203而使玻璃构件(第1玻璃构件)204与玻璃构件(第2玻璃构件)205熔接的玻璃熔接体。玻璃构件204、205例如是由无碱玻璃构成的厚度0.7mm的矩形板状的构件，熔接预定区域R沿着玻璃构件204、205的外缘而被设定成矩形环状。玻璃层203例如由非晶质的低熔点玻璃(钒磷酸类玻璃、铅硼酸玻璃等)构成，沿着熔接预定区域R而被形成为矩形环状。在玻璃层203的4个曲部203a分别形成有通过将玻璃层203的一部分结晶化而成的结晶化部208。

其次，说明用于制造上述的玻璃熔接体201的玻璃熔接方法。

首先，如图8所示，使由低熔点玻璃(钒磷酸类玻璃、铅硼酸玻璃等)所构成的粉末状的玻璃料202粘着于玻璃构件204的表面，沿着矩形环状的熔接预定区域R形成玻璃层203。具体来说，通过滴涂器或丝网印刷等，沿着熔接预定区域R在玻璃构件204的表面涂布玻璃料膏体(由玻璃料202、有机溶剂以及粘结剂混炼而成的膏体)，之后，使涂布有玻璃料膏体的玻璃构件204在干燥机内干燥而除去有机溶剂。然后，在将玻璃构件204在加热炉内加热而除去粘结剂后，进一步在高温下进行烧成(临时烧成)而使玻璃料202熔融·再固化，从而在玻璃构件204形成玻璃层203。

还有，如图12所示，在玻璃料202的粘着层中，因粉末状的玻璃料202而引起超过激光吸收性颜料的吸收特性的光散射，因此，激光的吸收率低(在可见光下可看见为白色)。对此，在玻璃层203中，因熔融·再固化而空隙被填满并透明化，激光吸收性颜料的吸收特性显著地显现，因此，激光的吸收率急剧地升高(在可见光下可看见为黑色)。

接着，如图9所示，隔着玻璃层203而在玻璃构件204上配置玻璃构件205，以对玻璃构件204按压玻璃构件205的方式，固定玻璃构件204与玻璃构件205。由此，在玻璃构件204与玻璃构件205之间，沿着矩形环状的熔接预定区域R形成玻璃层203。

接着，如图10所示，使聚光点对准玻璃层203，将激光(第1激光)L1照射于玻璃层203的各曲部203a，从而在玻璃层203的各曲部203a形成结晶化部208。激光L1由振荡波长940nm的半导体激光而脉冲振荡，在点径1.6mm、激光功率40W、照射时间300msec的条件下被照射于玻璃层203的1个曲部203a。由此，激光L1被激光的吸收率高的玻璃层203吸收，其结果，形成激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低的球状的结晶化部208。

还有，如图12所示，在结晶化部208中，在各结晶质的界面或结晶质与非晶质的界面，引起超过激光吸收性颜料的吸收特性的光散射，因此，激光的吸收率变低(在可见光下可看见为白色)。而且，在该结晶化部208中，激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低(在可见光下可看见为越接近中心部白色越增加)。

接着，如图11所示，使聚光点对准玻璃层203，将1个结晶化部208作为照射开始位置和照射结束位置而沿着熔接预定区域R将激光(第2激光)L2照射于玻璃层203，从而熔接玻璃构件204与玻璃构件205，得到玻璃熔接体201。激光L2由振荡波长940nm的半导体激光而连续振荡，在点径1.6mm、激光功率40W、扫描速度(沿着熔接预定区域R的激光L2的聚光点的相对移动速度)10mm/sec的条件下被照射于玻璃层203。由此，激光L2被激光的吸收率高的玻璃层203吸收，使玻璃层203以及其周边部分(玻璃构件204、205的表面部分)熔融·再固化，从而熔接玻璃构件204与玻璃构件205。

在以上的玻璃熔接方法中，在沿着熔接预定区域R将激光L2照射于玻璃层203，从而熔接玻璃构件204与玻璃构件205之时，预先在玻璃层203的各曲部203a形成结晶化部208。

此时，结晶化部208中的激光的吸收率低于玻璃层203中的激光的吸收率(参照图12)，因此，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从结晶化部208移动时，玻璃层203逐渐地被加热，另一方面，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至结晶化部208时，玻璃层203逐渐地被冷却。在此，以激光的吸收率朝向中心部逐渐地降低的方式形成各结晶化部208，因此，能够更缓慢地进行在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从结晶化部208移动时的玻璃层203的加热。在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至结晶化部208时的玻璃层203的冷却也是同样的。

而且，结晶化部208的线膨胀系数低于玻璃层203的线膨胀系数，在各结晶化部208玻璃构件204与玻璃构件205被牢固地熔接。因此，即使作为玻璃层203熔融·膨胀的位置的激光L2的照射位置在结晶化部208附近，也可以抑制在结晶化部208被熔接的玻璃构件204与玻璃构件205的剥离。

因此，根据上述的玻璃熔接方法，能够避免玻璃层203的各曲部203a成为可使玻璃构件204、205破损的入热过多的状态。还有，在沿着熔接预定区域R连续地形成结晶化部208时，形成结晶化部208时的收缩较为急剧，因此，可能使玻璃构件204、205破损。

进而，使用于形成结晶化部208的激光L1脉冲振荡，使用于熔接玻璃构件204与玻璃构件205的激光L2连续振荡，因此，能够避免成为可使玻璃构件204、205破损的入热过多的状态，并且能够在玻璃层203的曲部203a可靠地形成结晶化部208，另外，能够可靠地熔接玻璃构件204与玻璃构件205。

而且，在玻璃熔接体201中，经由结晶化部208而在玻璃层203的曲部203a牢固地熔接玻璃构件204与玻璃构件205，因此，可以可靠地防止容易引起应力集中的在曲部203a的玻璃构件204与玻璃构件205的剥离。

图13是表示从照射开始位置至照射结束位置的激光的照射位置与激光照射时的在激光的照射位置的温度的关系的曲线图。还有，用点划线所表示的结果是由现有的玻璃熔接方法得到的结果，用实线所表示的结果是由上述的玻璃熔接方法得到的结果。

如图13所示，在现有的玻璃熔接方法中，由于在玻璃层203的曲部203a未形成有激光的吸收率低的结晶化部208，因而激光L2的扫描速度会在各曲部203a降低，在激光L2的照射时，在各曲部203a温度会上升。因此，在各曲部203a成为入热过多的状态，而可能使玻璃构件204、205破损。另外，由于在作为激光L2的照射开始位置和照射结束位置的玻璃层203的曲部203a未形成有激光的吸收率低的结晶化部208，因而在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从照射开始位置移动时，玻璃层203的温度会急剧地上升，另一方面，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至照射结束位置时，玻璃层203的温度会急剧地下降。因此，在包含激光L2的照射开始位置和照射结束位置的部分上可能会产生残留应力。

对此，在上述的玻璃熔接方法中，在玻璃层203的曲部203a形成有激光的吸收率低的结晶化部208，因此，即使激光L2的扫描速度在各曲部203a降低，在激光L2的照射时也可以抑制在各曲部203a的温度的上升。因此，能够防止在各曲部203a成为入热过多的状态而使玻璃构件204、205破损。另外，在作为激光L2的照射开始位置和照射结束位置的玻璃层203的曲部203a形成有激光的吸收率低的结晶化部208，因此，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点从照射开始位置移动时，玻璃层203的温度逐渐地上升，另一方面，在沿着熔接预定区域R使激光L2的聚光点移动至照射结束位置时，玻璃层203的温度逐渐地下降。因此，能够防止在包含激光L2的照射开始位置和照射结束位置的部分上产生残留应力。

本发明并不限于上述的第2实施方式。

例如，熔接预定区域R不限定于矩形环状，只要是环状，也可以为圆形环状等。另外，用于熔接玻璃构件204与玻璃构件205的激光L2的照射开始位置和照射结束位置并不限定于结晶化部208，也可以为在玻璃层203中未形成结晶化部208的部分。进而，激光L2的照射开始位置和照射结束位置也可以为彼此不同的位置。

另外，玻璃层203的曲部203a并不限定于曲折的形状，也可以为弯曲的形状。在曲部203a为弯曲的形状的情况下，可以如图14(a)所示，在弯曲部分的中央形成结晶化部208，也可以如图14(b)所示，在弯曲部分的两端形成结晶化部208。

另外，在沿着环状的熔接预定区域R照射用于熔接玻璃构件204与玻璃构件205的激光L2之时，也可以不以一笔划方式扫描激光L2。作为一个例子，在以切割为前提而将多个熔接预定区域R配置成矩阵状的情况下，可以如图15(a)所示，使单一的激光L2以来回数次的方式进行扫描，也可以如图15(b)所示，使多个激光L2以分别来回1次的方式进行扫描。

另外，不使玻璃料202粘着于玻璃构件204，而使玻璃料202介于玻璃构件204与玻璃构件205之间，从而也可以沿着熔接预定区域R形成玻璃层203。

产业上的可利用性

根据本发明，能够可靠地熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件。

Claims (4)

1.一种玻璃熔接方法，其特征在于，

是熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件而制造玻璃熔接体的玻璃熔接方法，

包括：

在所述第1玻璃构件与所述第2玻璃构件之间，沿着环状的熔接预定区域形成玻璃层的工序；

对所述玻璃层的一部分照射第1激光，从而在所述玻璃层中形成结晶化部的工序；以及

将所述结晶化部作为照射开始位置和照射结束位置，沿着所述熔接预定区域对所述玻璃层照射第2激光，从而熔接所述第1玻璃构件与所述第2玻璃构件的工序。

2.一种玻璃熔接方法，其特征在于，

是熔接第1玻璃构件与第2玻璃构件而制造玻璃熔接体的玻璃熔接方法，

包括：

在所述第1玻璃构件与所述第2玻璃构件之间，沿着环状的熔接预定区域形成玻璃层的工序；

对所述玻璃层的曲部照射第1激光，从而在所述玻璃层中形成结晶化部的工序；以及

沿着所述熔接预定区域对所述玻璃层照射第2激光，从而熔接所述第1玻璃构件与所述第2玻璃构件的工序，

所述曲部是所述玻璃层的曲折的部分或者弯曲的部分。

3.如权利要求1或2所述的玻璃熔接方法，其特征在于，

预先由所述第1激光的照射而形成所述结晶化部，使得相对于所述结晶化部的所述第2激光的吸收率朝向所述结晶化部的中心部逐渐地降低。

4.如权利要求1或2所述的玻璃熔接方法，其特征在于，使所述第1激光脉冲振荡，使所述第2激光连续振荡。

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