CN102005430A - 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 - Google Patents
双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102005430A CN102005430A CN2010102729997A CN201010272999A CN102005430A CN 102005430 A CN102005430 A CN 102005430A CN 2010102729997 A CN2010102729997 A CN 2010102729997A CN 201010272999 A CN201010272999 A CN 201010272999A CN 102005430 A CN102005430 A CN 102005430A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- metal substrate
- pin
- photoresist film
- chip
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16245—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
本发明涉及一种双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法,所述方法包括以下工艺步骤:取金属基板;金属基板正面进行金属层电镀被覆;金属基板进行背面蚀刻作业;金属基板背面进行包封无填料的塑封料(环氧树脂)作业;金属基板正面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚的正面,且使所述引脚的背面尺寸小于引脚的正面尺寸,形成上大下小的引脚结构;装片;半成品正面进行包封有填料塑封料(环氧树脂)作业;引脚的背面进行金属层电镀被覆;切割,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片倒装模组封装结构成品。本发明方法制备的芯片封装结构不会再有产生掉脚的问题。
Description
(一)技术领域
本发明涉及一种双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法。属于半导体封装技术领域。
(二)背景技术
传统的芯片封装结构的制作方式是:采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层后,即完成引线框的制作(如图13所示)。而引线框的背面则在封装过程中再进行蚀刻。该法存在以下不足:
因为塑封前只在金属基板正面进行了半蚀刻工作,而在塑封过程中塑封料只有包裹住引脚半只脚的高度,所以塑封体与引脚的束缚能力就变小了,如果塑封体贴片到PCB板上不是很好时,再进行返工重贴,就容易产生掉脚的问题(如图14所示)。尤其塑封料的种类是采用有填料时候,因为材料在生产过程的环境与后续表面贴装的应力变化关系,会造成金属与塑封料产生垂直型的裂缝,其特性是填料比例越高则越硬越脆越容易产生裂缝。
另外,由于芯片与引脚之间的距离较远,金属线的长度较长,如图15~16所示,金属线成本较高(尤其是昂贵的纯金质的金属线);同样由于金属线的长度较长,使得芯片的信号输出速度较慢(尤其是存储类的产品 以及需要大量数据的计算,更为突出);也同样由于金属线的长度较长,所以在金属线所存在的寄生电阻/寄生电容与寄生电杆对信号的干扰也较高;再由于芯片与引脚之间的距离较远,使得封装的体积与面积较大,材料成本较高,废弃物较多。
(三)发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种不会再有产生掉脚的问题的双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法。
本发明的目的是这样实现的:一种双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法,所述方法包括以下工艺步骤:
步骤一、取金属基板
取一片厚度合适的金属基板,
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的电镀金属层工艺作业,
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域,
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层电镀被覆,该 第一金属层置于所述引脚的正面,
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤七、金属基板背面的光阻胶膜进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板背面蚀刻作业,
步骤八、金属基板进行背面蚀刻作业
完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚的背面,同时将引脚正面延伸到所述后续贴装芯片的下方,
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板背面余下的光阻胶膜和金属基板正面的光阻胶膜全部揭除,
步骤十、包封无填料的塑封料(环氧树脂)
将已完成步骤九所述去膜作业的金属基板背面进行包封无填料的塑封 料作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚外围的区域以及引脚与引脚之间的区域均嵌置无填料的塑封料(环氧树脂),该无填料的塑封料(环氧树脂)将引脚下部外围以及引脚下部与引脚下部连接成一体,
步骤十一、被覆光阻胶膜
利用被覆设备在将已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤十二、已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤十一完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以备后续需要进行金属基板正面蚀刻作业,
步骤十三、金属基板正面蚀刻作业
完成步骤十二的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚的正面,且使所述引脚的背面尺寸小于引脚的正面尺寸,形成上大下小的引脚结构,
步骤十四、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将完成步骤十三蚀刻作业的金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,制成引线框,
步骤十五、装片
在所述后续贴装芯片的下方的引脚正面第一金属层上通过锡金属的粘结物质进行芯片的植入,
步骤十六、包封有填料塑封料(环氧树脂)
将已装片完成的半成品正面进行包封有填料塑封料(环氧树脂)作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚的上部以及芯片外均被有填料塑封料(环氧树脂)包封,
步骤十七、引脚的背面进行金属层电镀被覆
对已完成步骤十六包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的所述引脚的背面进行第二金属层电镀被覆作业,
步骤十八、切割成品
将已完成步骤十七第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片倒装模组封装结构成品。
本发明的有益效果是:
1、确保不会再有产生掉脚的问题
由于引线框采用了双面蚀刻的工艺技术,所以可以轻松的规划设计与制造出上大下小的引脚结构,可以使上下层塑封料紧密的将上大下小的引脚结构一起包裹住,所以塑封体与引脚的束缚能力就变大了,不会再有产生掉脚的问题。
2、由于应用了引线框背面与正面分开蚀刻的技术,所以能够将引线框正面的引脚尽可能的延伸到封装体的中心,促使芯片与引脚位置能够与芯片键合的位置相同,如图12所示,如此电性的传输将可大幅度提升(尤其存储类的产品以及需要大量数据的计算,更为突出)。
3、使封装的体积与面积可以大幅度的缩小
因运用了引脚的延伸技术,所以可以容易的制作出高脚数与高密度的脚与脚之间的距离,使得封装的体积与面积可以大幅度的缩小。
4、材料成本和材料用量减少
因为将封装后的体积大幅度的缩小,更直接的体现出材料成本大幅度的下降与因为材料用量的减少也大幅度的减少废弃物环保的困扰。
(四)附图说明
图1(A)~图1(Q)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例1各工序示意图。
图2为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例1结构示意图。
图3为图2的俯视图。
图4(A)~图4(Q)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例2各工序示意图。
图5为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例2结构示意图。
图6为图5的俯视图。
图7(A)~图7(Q)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例3各工序示意图。
图8为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例3结构示意图。
图9为图8的俯视图。
图10(A)~图10(Q)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例4各工序示意图。
图11为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例4结构示意图。
图12为图11的俯视图。
图13为以往采用金属基板的正面进行化学蚀刻及表面电镀层作业图。
图14为以往形成的掉脚图。
图15为以往的封装结构一示意图。
图16为图15的俯视图。
图中附图标记:
引脚2、无填料的塑封料(环氧树脂)3、第一金属层4、第二金属层5、锡金属的粘结物质6、芯片7、有填料塑封料(环氧树脂)9、金属基板10、光阻胶膜11、光阻胶膜12、光阻胶膜13、光阻胶膜14、光阻胶膜15、光阻胶膜16。
(五)具体实施方式
本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法如下:
实施例1:单芯片单圈引脚
参见图2和图3,图2为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例1结构示意图。图3为图2的俯视图。由图2和图3可以看出,本发明双面图形芯片倒装模组封装结构,包括引脚2、无填料的塑封料(环氧树脂)3、锡金属的粘结物质6、芯片7和有填料塑封料(环氧树脂)9,所述引脚2正面延伸到后续贴装芯片的下方,在所述引脚2的正面设置有第一金属层4,在所述引脚2的背面设置有第二金属层5,在所述后续贴装芯片的下方的引脚2正面第一金属层4上通过锡金属的粘结物质6设置有芯 片7,在所述引脚2的上部以及芯片7外包封有填料塑封料(环氧树脂)9,在所述引脚2外围的区域以及引脚2与引脚2之间的区域嵌置有无填料的塑封料(环氧树脂)3,所述无填料的塑封料(环氧树脂)3将引脚下部外围以及引脚2下部与引脚2下部连接成一体,且使所述引脚背面尺寸小于引脚正面尺寸,形成上大下小的引脚结构。
其封装方法如下:
步骤一、取金属基板
参见图1(A),取一片厚度合适的金属基板10。金属基板的材质可以依据芯片的功能与特性进行变换,例如:铜、铝、铁、铜合金或镍铁合金等。
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
参见图1(B),利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜11和12,以保护后续的电镀金属层工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(C),利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域。
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
参见图1(D),对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层 4电镀被覆,该第一金属层4置于所述引脚2的正面。
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(E),将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除。
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
参见图1(F),利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜13和14,以保护后续的蚀刻工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤七、金属基板背面的光阻胶膜进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(G),利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板背面蚀刻作业。
步骤八、金属基板进行背面蚀刻作业
参见图1(H),完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚2的背面,同时将引脚正面尽可能的延伸到所述后续贴装芯片的下方。
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(I),将金属基板背面余下的光阻胶膜和金属基板正面的光阻胶膜全部揭除。
步骤十、包封无填料的塑封料(环氧树脂)
参见图1(J),将已完成步骤九所述去膜作业的金属基板背面进行包封无填料的塑封料(环氧树脂)作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚2外围的区域以及引脚2与引脚2之间的区域均嵌置无填料的塑封料(环氧树脂)3,该无填料的塑封料3将引脚下部外围以及引脚2下部与引脚2下部连接成一体。
步骤十一、被覆光阻胶膜
参见图1(K),利用被覆设备在将已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜15和16,以保护后续的蚀刻工艺作业。而此光阻胶膜可以是干式光阻薄胶膜也可以是湿式光阻胶膜。
步骤十二、已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
参见图1(L),利用曝光显影设备将步骤十一完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以备后续需要进行金属基板正面蚀刻作业。
步骤十三、金属基板正面蚀刻作业
参见图1(M),完成步骤十二的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚2的正面,且使所述引脚2的背面尺寸小于引脚2的正面尺寸,形成上大下小的引脚2结构。
步骤十四、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
参见图1(N),将完成步骤十三蚀刻作业的金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,制成引线框。
步骤十五、装片
参见图1(O),在所述后续贴装芯片的下方的引脚2正面第一金属层4上通过锡金属的粘结物质6进行芯片7的植入。
步骤十六、包封有填料塑封料(环氧树脂)
参见图1(P),将已装片完成的半成品正面进行包封有填料塑封料(环氧树脂)9作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚的上部以及芯片外均被有填料塑封料(环氧树脂)包封。
步骤十七、引脚的背面进行金属层电镀被覆
参见图1(Q),对已完成步骤十六包封有填料塑封料(环氧树脂)作业的所述引脚的背面进行第二金属层5电镀被覆作业,而电镀的材料可以是锡、镍金、镍钯金....等金属材质。
步骤十八、切割成品
参见图2和图3,将已完成步骤十七第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片倒装模组封装结构成品。
实施例2:单芯片多圈引脚
参见图4~6,图4(A)~图4(R)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例2各工序示意图。图5为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例2结构示意图。图6为图5的俯视图。由图4、图5和图6 可以看出,实施例2与实施例1的不同之处仅在于:所述引脚2设备有多圈。
实施例3:多芯片单圈引脚
参见图7~9,图7(A)~图7(R)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例3各工序示意图。图8为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例3结构示意图。图9为图8的俯视图。由图7、图8和图9可以看出,实施例3与实施例1的不同之处仅在于:所述芯片7设置有多颗。
实施例4:多芯片多圈引脚
参见图10~12,图10(A)~图10(R)为本发明双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法实施例4各工序示意图。图11为本发明双面图形芯片倒装模组封装结构实施例4结构示意图。图12为图11的俯视图。由图10、图11和图12可以看出,实施例4与实施例1的不同之处仅在于:所述引脚2设备有多圈,芯片7设置有多颗。
Claims (4)
1.一种双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法,其特征在于:所述方法包括以下工艺步骤:
步骤一、取金属基板
取一片厚度合适的金属基板,
步骤二、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的电镀金属层工艺作业,
步骤三、金属基板正面的光阻胶膜进行需要电镀金属层区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤二完成光阻胶膜被覆作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出金属基板正面后续需要进行电镀金属层的区域,
步骤四、金属基板正面已开窗的区域进行金属层电镀被覆
对步骤三中金属基板正面已开窗的区域进行第一金属层电镀被覆,该第一金属层置于所述引脚的正面,
步骤五、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,
步骤六、金属基板正面及背面被覆光阻胶膜
利用被覆设备在金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤七、金属基板背面的光阻胶膜进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤六完成光阻胶膜被覆作业的金属基板背面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以露出局部金属基板以备后续需要进行的金属基板背面蚀刻作业,
步骤八、金属基板进行背面蚀刻作业
完成步骤七的曝光/显影以及开窗作业后,即在金属基板的背面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚的背面,同时将引脚正面延伸到所述后续贴装芯片的下方,
步骤九、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将金属基板背面余下的光阻胶膜和金属基板正面的光阻胶膜全部揭除,
步骤十、包封无填料的塑封料
将已完成步骤九所述去膜作业的金属基板背面进行包封无填料的塑封料作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚外围的区域以及引脚与引脚之间的区域均嵌置无填料的塑封料,该无填料的塑封料将引脚下部外围以及引脚下部与引脚下部连接成一体,
步骤十一、被覆光阻胶膜
利用被覆设备在将已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面及背面分别被覆可进行曝光显影的光阻胶膜,以保护后续的蚀刻工艺作业,
步骤十二、已完成包封无填料塑封料作业的金属基板的正面进行需要蚀刻区域的曝光/显影以及开窗
利用曝光显影设备将步骤十一完成光阻胶膜被覆作业的已完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行曝光显影去除部分光阻胶膜,以备后续需要进行金属基板正面蚀刻作业,
步骤十三、金属基板正面蚀刻作业
完成步骤十二的曝光/显影以及开窗作业后,即在完成包封无填料塑封料作业的金属基板正面进行各图形的蚀刻作业,蚀刻出引脚的正面,且使所述引脚的背面尺寸小于引脚的正面尺寸,形成上大下小的引脚结构,
步骤十四、金属基板正面及背面进行光阻胶膜去膜
将完成步骤十三蚀刻作业的金属基板正面余下的光阻胶膜以及金属基板背面的光阻胶膜全部揭除,制成引线框,
步骤十五、装片
在所述后续贴装芯片的下方的引脚正面第一金属层上通过锡金属的粘结物质进行芯片的植入,
步骤十六、包封有填料塑封料
将已装片完成的半成品正面进行包封有填料塑封料作业,并进行塑封料包封后的固化作业,使引脚的上部以及芯片外均被有填料塑封料包封,
步骤十七、引脚的背面进行金属层电镀被覆
对已完成步骤十六包封有填料塑封料作业的所述引脚的背面进行第二金属层电镀被覆作业,
步骤十八、切割成品
将已完成步骤十七第二金属层电镀被覆的半成品进行切割作业,使原本以列阵式集合体方式连在一起的芯片一颗颗独立开来,制得双面图形芯片倒装模组封装结构成品。
2.根据权利要求1所述的一种双面图形芯片倒装模组引线框,其特征在于所述引脚(2)设置有多圈。
3.根据权利要求1所述的一种双面图形芯片倒装模组引线框,其特征在于所述芯片(1)设置有多颗。
4.根据权利要求1所述的一种双面图形芯片倒装模组引线框,其特征在于所述引脚(2)设置有多圈,芯片(1)设置有多颗。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010102729997A CN102005430B (zh) | 2010-09-04 | 2010-09-04 | 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010102729997A CN102005430B (zh) | 2010-09-04 | 2010-09-04 | 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102005430A true CN102005430A (zh) | 2011-04-06 |
CN102005430B CN102005430B (zh) | 2011-12-21 |
Family
ID=43812672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010102729997A Active CN102005430B (zh) | 2010-09-04 | 2010-09-04 | 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102005430B (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102867802A (zh) * | 2012-05-09 | 2013-01-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 多芯片倒装先蚀刻后封装基岛露出封装结构及其制造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6452255B1 (en) * | 2000-03-20 | 2002-09-17 | National Semiconductor, Corp. | Low inductance leadless package |
CN1438700A (zh) * | 2002-02-11 | 2003-08-27 | 艾克尔科技股份有限公司 | 半导体导线架及其封装组件 |
CN1969383A (zh) * | 2003-04-11 | 2007-05-23 | 费查尔德半导体有限公司 | 用于引脚模塑封装的倒装芯片的有窗孔或凹槽的引脚框架结构 |
CN101118893A (zh) * | 2006-08-02 | 2008-02-06 | 南茂科技股份有限公司 | 具有共用型晶片承座的半导体封装构造 |
US20080191324A1 (en) * | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Chipmos Technologies (Bermuda) Ltd. | Chip package structure and method of fabricating the same |
-
2010
- 2010-09-04 CN CN2010102729997A patent/CN102005430B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6452255B1 (en) * | 2000-03-20 | 2002-09-17 | National Semiconductor, Corp. | Low inductance leadless package |
CN1438700A (zh) * | 2002-02-11 | 2003-08-27 | 艾克尔科技股份有限公司 | 半导体导线架及其封装组件 |
CN1969383A (zh) * | 2003-04-11 | 2007-05-23 | 费查尔德半导体有限公司 | 用于引脚模塑封装的倒装芯片的有窗孔或凹槽的引脚框架结构 |
CN101118893A (zh) * | 2006-08-02 | 2008-02-06 | 南茂科技股份有限公司 | 具有共用型晶片承座的半导体封装构造 |
US20080191324A1 (en) * | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Chipmos Technologies (Bermuda) Ltd. | Chip package structure and method of fabricating the same |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102867802A (zh) * | 2012-05-09 | 2013-01-09 | 江苏长电科技股份有限公司 | 多芯片倒装先蚀刻后封装基岛露出封装结构及其制造方法 |
CN102867802B (zh) * | 2012-05-09 | 2015-03-04 | 江苏长电科技股份有限公司 | 多芯片倒装先蚀刻后封装基岛露出封装结构及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102005430B (zh) | 2011-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101958300B (zh) | 双面图形芯片倒装模组封装结构及其封装方法 | |
CN101814482B (zh) | 有基岛引线框结构及其生产方法 | |
CN102723293B (zh) | 芯片倒装单面三维线路先蚀后封制造方法及其封装结构 | |
CN101840901B (zh) | 无基岛静电释放圈引线框结构及其生产方法 | |
CN101814481B (zh) | 无基岛引线框结构及其生产方法 | |
CN103390563A (zh) | 先封后蚀芯片倒装三维系统级金属线路板结构及工艺方法 | |
CN102376656B (zh) | 无基岛四面无引脚封装结构及其制造方法 | |
CN101958257B (zh) | 双面图形芯片直接置放先镀后刻模组封装方法 | |
CN101950726B (zh) | 双面图形芯片正装先镀后刻单颗封装方法 | |
CN101969032B (zh) | 双面图形芯片正装先镀后刻模组封装方法 | |
CN101958299B (zh) | 双面图形芯片直接置放先镀后刻单颗封装方法 | |
CN101958303B (zh) | 双面图形芯片正装单颗封装结构及其封装方法 | |
CN201927599U (zh) | 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装结构 | |
CN201936875U (zh) | 双面图形芯片正装模组封装结构 | |
CN102005430A (zh) | 双面图形芯片倒装先镀后刻模组封装方法 | |
CN102420206B (zh) | 先镀后刻四面无引脚封装结构及其制造方法 | |
CN102723289B (zh) | 芯片正装单面三维线路先封后蚀制造方法及其封装结构 | |
CN102005431B (zh) | 双面图形芯片倒装先镀后刻单颗封装方法 | |
CN101958301B (zh) | 双面图形芯片直接置放单颗封装结构及其封装方法 | |
CN101958304B (zh) | 双面图形芯片直接置放模组封装结构及其封装方法 | |
CN101958305A (zh) | 双面图形芯片正装模组封装结构及其封装方法 | |
CN201838576U (zh) | 双面图形芯片直接置放单颗封装结构 | |
CN202003984U (zh) | 双面图形芯片倒装先镀后刻单颗封装结构 | |
CN201838580U (zh) | 双面图形芯片倒装单颗封装结构 | |
CN201838577U (zh) | 双面图形芯片倒装模组封装结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |