具体实施方式
本发明的抗变形光学反射薄膜由反射层与抗变形层组成,该反射层的背面粘贴抗变形层,该抗变形层的厚度为反射层厚度的0.2-1.5倍,该抗变形层的热膨胀系数为反射层热膨胀系数的0.5-2倍。
进一步地,本发明的抗变形光学反射薄膜优选为抗变形层的厚度为反射层厚度的0.5-1倍,该抗变形层的热膨胀系数为反射层热膨胀系数的0.7-1.2倍。
进一步地,本发明的抗变形光学反射薄膜更优选为抗变形层的厚度为反射层厚度的0.53-0.8倍,该抗变形层的热膨胀系数为反射层热膨胀系数的0.8-1.1倍。
本发明的抗变形光学反射薄膜的反射层的厚度为常用光学反射薄膜的厚度35-188微米,抗变形层的厚度为7-282微米。
本发明的抗变形光学反射薄膜的反射层为内部具有多微孔结构的白色薄膜,该白色薄膜可为PET、PC、PMMA、PE、PP和PS中的任一种所制成的白色薄膜,该白色薄膜经过特殊光学设计,其生产工艺较复杂,价格约为9美元/千克以上,成本较高。
本发明的抗变形光学反射薄膜的抗变形层为低成本的普通薄膜或胶带,该薄膜或胶带的价格约为上述反射层薄膜价格的0.1-0.5倍,该薄膜或胶带可为PET、PC、PMMA、PE、PP和PS中的任一种所制成的薄膜或胶带。如采用薄膜作为抗变形层时,可采用胶黏剂将该薄膜粘贴于反射层上,该胶黏剂可为普通的胶黏剂,如聚氨酯体系的胶黏剂;如采用胶带作为抗变形层时,可直接将 胶带粘贴于反射层上。
本发明的抗变形光学反射薄膜的抗变形层可粘贴于整个反射层,也可粘贴于部分反射层,如只在反射层的一侧或相对的两侧粘贴抗变形层,根据反射薄膜的具体应用情况而定。如对于直下式液晶显示装置,光源位于导光板的正下方,整个反射薄膜均受光照影响,可在整个反射层粘贴抗变形层以防止反射薄膜变形,如将薄膜粘贴于整个反射层以防止反射薄膜变形;而对于侧入式液晶显示装置,光源位于导光板的侧边,反射薄膜靠近光源的侧边区域易受光照影响发生变形,可只在反射薄膜靠近光源的一侧或相对的两侧粘贴抗变形层,为便于操作,可直接在反射薄膜靠近光源的一侧或相对的两侧粘贴胶带,当然,这种情况下也可在反射薄膜的整个反射层粘贴抗变形层,以更好地保护反射薄膜,实际应用中,可根据反射薄膜具体应用的显示装置及具体要求选择粘贴抗变形层的区域。
本发明还提供使用上述抗变形光学反射薄膜的液晶显示装置,该液晶显示装置包括液晶面板、光源、导光板、光学反射薄膜、光学扩散薄膜等,光源可为冷阴极荧光灯、外部电极荧光灯、发光极管和热阴极荧光灯中的至少一种。
本发明的抗变形光学反射薄膜也可应用于LED照明设备中。
以下结合附图说明本发明的光学反射薄膜及液晶显示装置。
图1为本发明的一个实施例的光学反射薄膜的剖面示意图。如图1所示,本发明的光学反射薄膜1由反射层11和抗变形层12组成,抗变形层12粘贴于整个反射层11背面,反射层11的厚度为50μm,抗变形层12的厚度为25μm。
图2为本发明的另一个实施例的光学反射薄膜的剖面示意图。如图2所示,本发明的光学反射薄膜2由反射层21和抗变形层22组成,抗变形层22粘贴于反射层21背面的一侧,反射层21的厚度为75μm,抗变形层22的厚度为35μm。
图3为本发明的又一个实施例的光学反射薄膜的剖面示意图。如图3所示,本发明的光学反射薄膜3由反射层31和抗变形层32组成,抗变形层32粘贴于反射层31背面相对的两侧,反射层31的厚度为100μm,抗变形层32的厚度为75μm。
图4为本发明的一个实施例的光学反射薄膜的后视图,其中抗变形层42位于反射层41背面相对的两侧。
图5为本发明的另一个实施例的光学反射薄膜的后视图,其中抗变形层52位于反射层51背面中间的部分及相对的两侧。
图6为本发明的又一个实施例的光学反射薄膜的后视图,其中抗变形层62位于反射层61背面中间的部分及四周。
图7为本发明的再一个实施例的光学反射薄膜的后视图,其中抗变形层72位于反射层71背面的中间部分及相对的两侧。
图8为本发明的再一个实施例的光学反射薄膜的后视图,其中抗变形层82位于反射层81背面中间的部分及相对的两侧。
图9为本发明的一个实施例的直下式液晶显示装置的剖面示意图。如图9所示,本发明的液晶显示装置主要包括光学反射薄膜9、灯管93、导光板94、光学扩散薄膜95及液晶显示面板96,光学反射薄膜9由反射层91及抗变形层92组成,其中灯管93位于导光板94下方,抗变形层92粘贴于整个反射层91的背面。
图10为本发明的另一个实施例的侧入式液晶显示装置的剖面示意图。如图10所示,本发明的液晶显示装置主要包括光学反射薄膜10、灯管103、导光板104、光学扩散薄膜105及液晶显示面板106,光学反射薄膜10由反射层101及抗变形层102组成,其中灯管103位于导光板104的一侧,抗变形层102粘贴于反射层101背面靠近灯管103的一侧。
图11为本发明的再一个实施例的侧入式液晶显示装置的剖面示意图。如图11所示,本发明的液晶显示装置主要包括光学反射薄膜110、灯管113、导光板114、光学扩散薄膜115及液晶显示面板116,光学反射薄膜110由反射层111及抗变形层112组成,其中灯管113位于导光板114的两侧,抗变形层112粘贴于反射层111背面靠近灯管113的两侧。
以下为本发明技术方案的具体实施例。
一、反射层整面复合抗变形层的光学反射薄膜的制备
实施例1:光学反射薄膜1的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为2.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为7μm,热膨胀系数为4.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜1。
实施例2:光学反射薄膜2的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为2.5×10-5/K,抗变形层为普通PET薄膜,厚度为15μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜2。
实施例3:光学反射薄膜3的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为2.7×10-5/K,抗变形层为普通PS胶带,厚度为25μm,热膨胀系数为5.2×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带与反射层薄膜的背面相互粘合(如图1所示),得到本发明的光学反射薄膜3。
实施例4:光学反射薄膜4的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K,抗变形层为普通PC薄膜,厚度为35μm,热膨胀系 数为2.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜4。
实施例5:光学反射薄膜5的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PC白色薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为2.0×10-5/K,抗变形层为普通PC薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜5。
实施例6:光学反射薄膜6的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PC白色薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为10μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜6。
实施例7:光学反射薄膜7的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PC白色薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为3.5×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为25μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃ 加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜7。
实施例8:光学反射薄膜8的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PC白色薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为4.0×10-5/K,抗变形层为普通PET薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为2.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜8。
实施例9:光学反射薄膜9的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为10.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为6.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜9。
实施例10:光学反射薄膜10的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为12.0×10-5/K,抗变形层为普通PE薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为10.8×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜10。
实施例11:光学反射薄膜11的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为15.0×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为15μm,热膨胀系数为7.5×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜11。
实施例12:光学反射薄膜12的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为18.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为35μm,热膨胀系数为12.6×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜12。
实施例13:光学反射薄膜13的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为5.6×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜13。
实施例14:光学反射薄膜14的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为8.0×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为7.2×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜14。
实施例15:光学反射薄膜15的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为9.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为11.7×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜15。
实施例16:光学反射薄膜16的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为10.0×10-5/K,抗变形层为普通PE薄膜,厚度为112μm,热膨胀系数为11.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜16。
实施例17:光学反射薄膜17的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为3.0×10-5/K,抗变形层为普通PET薄膜,厚度为20μm,热膨胀系数为2.1×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜17。
实施例18:光学反射薄膜18的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为4.0×10-5/K,抗变形层为普通PC薄膜,厚度为50μm,热膨胀系数为3.5×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜18。
实施例19:光学反射薄膜19的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为5.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜19。
实施例20:光学反射薄膜20的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K,抗变形层为普通PS胶带,厚度为100μm,热膨胀系数为14.0×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带与反射层薄膜的背面相互粘合(如图1所示),得到本发明的光学反射薄膜20。
实施例21:光学反射薄膜21的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为9.0×10-5/K,抗变形层为普通PE薄膜,厚度为150μm,热膨胀系 数为14.4×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜21。
实施例22:光学反射薄膜22的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,厚度为125μm,热膨胀系数为18.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为12.6×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜22。
实施例23:光学反射薄膜23的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为125μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为125μm,热膨胀系数为5.6×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜23。
实施例24:光学反射薄膜24的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为150μm,热膨胀系数为8.0×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为7.2×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃ 加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜24。
实施例25:光学反射薄膜25的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,厚度为150μm,热膨胀系数为9.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为150μm,热膨胀系数为11.7×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜25。
实施例26:光学反射薄膜26的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为12.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为37μm,热膨胀系数为19.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜26。
实施例27:光学反射薄膜27的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PS白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为16.0×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为75μm,热膨胀系数为9.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)降抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜27。
实施例28:光学反射薄膜28的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为10.0×10-5/K,抗变形层为普通PE薄膜,厚度为100μm,热膨胀系数为17.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜28。
实施例29:光学反射薄膜29的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为11.0×10-5/K,抗变形层为普通PS薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为20.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC2000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜29。
实施例30:光学反射薄膜30的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为12.0×10-5/K,抗变形层为普通PE胶带,厚度为225μm,热膨胀系数为13.0×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带与反射层薄膜的背面相互粘合(如图1所示),得到本发明的光学反射薄膜30。
实施例31:光学反射薄膜31的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为15.0×10-5/K,抗变形层为普通PP薄膜,厚度为250μm,热膨胀系数为16.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司) 将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜31。
实施例32:光学反射薄膜32的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,厚度为188μm,热膨胀系数为18.0×10-5/K,抗变形层为普通PMMA薄膜,厚度为282μm,热膨胀系数为10.0×10-5/K。
(3)制备:采用聚氨酯体系胶黏剂(PC5000,广州立邦涂料有限公司)将抗变形层薄膜与反射层薄膜的背面相互粘合,然后将粘合后的薄膜在100℃加热3min,使其固化,得到本发明的光学反射薄膜32。
二、反射层部分区域复合抗变形层的光学反射薄膜的制备
实施例33:光学反射薄膜33的制备
(1)尺寸:750mm×450mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,尺寸为700mm×450mm,厚度为35μm,热膨胀系数为2.0×10-5/K,抗变形层为PS胶带,厚度为25μm,宽度为25mm,长度小于700mm,热膨胀系数为4.0×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带粘贴于反射层薄膜的四周及中间部分(如图6所示),得到本发明的光学反射薄膜33。
实施例34:光学反射薄膜34的制备
(1)尺寸:600mm×350mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PE白色薄膜,尺寸为600mm×350mm,厚度为50μm,热膨胀系数为10.0×10-5/K,抗变形层为PE胶带,厚度为25μm,宽度为20mm,长度为600mm,热膨胀系数为17.0×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带粘贴于反射层薄膜短边的一侧(如图2所示),得到本发明的光学反射薄膜34。
实施例35:光学反射薄膜35的制备
(1)尺寸:400mm×300mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PET白色薄膜,尺寸为400mm×300mm,厚度为75μm,热膨胀系数为2.5×10-5/K,抗变形层为PET胶带,厚度为25μm,宽度为15mm,长度为400mm,热膨胀系数为3.0×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带分别粘贴于反射层薄膜短边的两侧(如图3及图4所示),得到本发明的光学反射薄膜35。
实施例36:光学反射薄膜36的制备
(1)尺寸:200mm×200mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PMMA白色薄膜,尺寸为200mm×200mm,厚度为100μm,热膨胀系数为7.0×10-5/K,抗变形层为PS胶带,厚度为25μm,宽度为10mm,长度为200mm,热膨胀系数为5.6×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带粘贴于反射层薄膜的中间部分及相对的两侧(如图5所示),得到本发明的光学反射薄膜36。
实施例37:光学反射薄膜37的制备
(1)尺寸:100mm×50mm
(2)材料:反射层为内部具有多微孔结构的PP白色薄膜,尺寸为100mm×50mm,厚度为188μm,热膨胀系数为15.0×10-5/K,抗变形层为PMMA胶带,厚度为25μm,宽度为5mm,长度小于112mm,热膨胀系数为7.5×10-5/K。
(3)制备:将抗变形层胶带粘贴于反射层薄膜的中间部分及短边的两侧(如图7所示),得到本发明的光学反射薄膜37。
比较例1
市售的厚度为35μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为750mm×450mm。
比较例2
市售的厚度为50μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为600mm×350mm。
比较例3
市售的厚度为75μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为 400mm×300mm。
比较例4
市售的厚度为100μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为200mm×200mm。
比较例5
市售的厚度为125μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为200mm×200mm。
比较例6
市售的厚度为150μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为200mm×200mm。
比较例7
市售的厚度为188μm的B8504薄膜(杜邦帝人公司),薄膜的尺寸为100mm×50mm。
三、光学反射薄膜测试
1、烘烤:将上述实施例1-37中的光学反射薄膜1-37及比较例1-7中的光学反射薄膜放入烘箱(SC101-18,慈溪市烘箱厂),烘烤温度设为150℃,薄膜经一定时间(分别设为1h、3h、5h、10h、20h、50h、80h、100h)烘烤后,关闭烘箱,待薄膜冷却后取出薄膜,进行翘曲程度测试。
2、翘曲程度测试:
本发明的光学反射薄膜的翘曲程度指当薄膜受热翘起后,将薄膜放于水平面上,薄膜翘起的最高点离开原来水平面的距离(此处由于薄膜的翘曲程度远大于薄膜的厚度,故忽略薄膜厚度)。如图12所示,120表示发生翘曲前的光学反射薄膜,120’为发生翘曲后的光学反射薄膜,距离h即为光学反射薄膜120’的翘曲程度。h的数值越小,表明光学反射薄膜的抗变形性越好。
测试仪器:塞规(精度为0.01mm,量程为1.0mm);刻度尺(精度为0.5mm,量程为300mm)。
当光学反射薄膜的翘曲程度小于1mm时,采用塞规测试其翘曲程度;当光 学反射薄膜的翘曲程度大于1mm时,采用刻度尺测试其翘曲程度。具体测试方法如下:
分别测试实施例1-37中的光学反射薄膜1-37及比较例1-7中的光学反射薄膜的翘曲程度,将其翘曲程度进行对比。
表1:光学反射薄膜1-37各组分参数
实施例 |
反射层 厚度 μm |
抗变形 层厚度 μm |
抗变形层 与反射层 厚度比 |
反射层 热膨胀 系数 10-5/K |
抗变形层 热膨胀 系数 10-5/K |
抗变形层 与反射层 热膨胀系 数比 |
反射薄膜1 |
35 |
7 |
0.20 |
2.0 |
4.0 |
2.00 |
反射薄膜2 |
35 |
15 |
0.43 |
2.5 |
3.0 |
1.20 |
反射薄膜3 |
35 |
25 |
0.71 |
2.7 |
5.2 |
1.93 |
反射薄膜4 |
35 |
35 |
1.00 |
3.0 |
2.0 |
0.67 |
反射薄膜5 |
35 |
50 |
1.43 |
2.0 |
3.0 |
1.50 |
反射薄膜6 |
50 |
10 |
0.20 |
3.0 |
3.0 |
1.00 |
反射薄膜7 |
50 |
25 |
0.50 |
3.5 |
7.0 |
2.00 |
反射薄膜8 |
50 |
35 |
0.70 |
4.0 |
2.0 |
0.50 |
反射薄膜9 |
50 |
50 |
1.00 |
10.0 |
6.0 |
0.60 |
反射薄膜10 |
50 |
75 |
1.50 |
12.0 |
10.8 |
0.90 |
反射薄膜11 |
75 |
15 |
0.20 |
15.0 |
7.5 |
0.50 |
反射薄膜12 |
75 |
35 |
0.47 |
18.0 |
12.6 |
0.70 |
反射薄膜13 |
75 |
50 |
0.67 |
7.0 |
5.6 |
0.80 |
反射薄膜14 |
75 |
75 |
1.00 |
8.0 |
7.2 |
0.90 |
反射薄膜15 |
75 |
100 |
1.33 |
9.0 |
11.7 |
1.30 |
反射薄膜16 |
75 |
112 |
1.49 |
10.0 |
11.0 |
1.10 |
反射薄膜17 |
100 |
20 |
0.20 |
3.0 |
2.1 |
0.70 |
反射薄膜18 |
100 |
50 |
0.50 |
4.0 |
3.5 |
0.88 |
反射薄膜19 |
100 |
75 |
0.75 |
5.0 |
7.0 |
1.40 |
反射薄膜20 |
100 |
100 |
1.00 |
7.0 |
14.0 |
2.00 |
反射薄膜21 |
100 |
150 |
1.50 |
9.0 |
14.4 |
1.60 |
反射薄膜22 |
125 |
100 |
0.80 |
18.0 |
12.6 |
0.70 |
反射薄膜23 |
125 |
125 |
1.00 |
7.0 |
5.6 |
0.80 |
反射薄膜24 |
150 |
75 |
0.50 |
8.0 |
7.2 |
0.90 |
反射薄膜25 |
150 |
150 |
1.00 |
9.0 |
11.7 |
1.30 |
反射薄膜26 |
188 |
37 |
0.20 |
12.0 |
19.0 |
1.58 |
反射薄膜27 |
188 |
75 |
0.40 |
16.0 |
9.0 |
0.56 |
反射薄膜28 |
188 |
100 |
0.53 |
10.0 |
17.0 |
1.70 |
反射薄膜29 |
188 |
188 |
1.00 |
11.0 |
20.0 |
1.82 |
反射薄膜30 |
188 |
225 |
1.20 |
12.0 |
13.0 |
1.08 |
反射薄膜31 |
188 |
250 |
1.33 |
15.0 |
16.0 |
1.07 |
反射薄膜32 |
188 |
282 |
1.50 |
18.0 |
10.0 |
0.56 |
反射薄膜33 |
35 |
25 |
0.71 |
2.0 |
4.0 |
2.00 |
反射薄膜34 |
50 |
25 |
0.50 |
10.0 |
17.0 |
1.70 |
反射薄膜35 |
75 |
25 |
0.33 |
2.5 |
3.0 |
1.20 |
反射薄膜36 |
100 |
25 |
0.25 |
7.0 |
5.6 |
0.80 |
反射薄膜37 |
188 |
25 |
0.13 |
15.0 |
7.5 |
0.50 |
表2:光学反射薄膜1-5与B8504薄膜翘曲程度对比
表3:光学反射薄膜6-10与B8504薄膜翘曲程度对比
表4:光学反射薄膜11-16与B8504薄膜翘曲程度对比
表5:光学反射薄膜17-21与B8504薄膜翘曲程度对比
表6:光学反射薄膜22-23与B8504薄膜翘曲程度对比
表7:光学反射薄膜24-25与B8504薄膜翘曲程度对比
表8:光学反射薄膜26-32与B8504薄膜翘曲程度对比
表9:光学反射薄膜33-37与B8504薄膜翘曲程度对比
光学反射薄膜 |
1 |
3 |
5 |
10 |
20 |
50 |
80 |
100 |
反射薄膜33 |
0.50 |
0.54 |
0.58 |
0.62 |
0.65 |
0.71 |
0.75 |
0.97 |
B8504薄膜(35μm) |
1.55 |
3.03 |
4.40 |
7.67 |
14.35 |
34.60 |
35.90 |
36.40 |
反射薄膜34 |
0.42 |
0.45 |
0.49 |
0.51 |
0.53 |
0.55 |
0.57 |
0.60 |
B8504薄膜(50μm) |
1.42 |
2.50 |
3.54 |
6.32 |
11.75 |
28.08 |
28.90 |
32.20 |
反射薄膜35 |
0.40 |
0.42 |
0.44 |
0.45 |
0.47 |
0.50 |
0.53 |
0.57 |
B8504薄膜(75μm) |
1.23 |
2.20 |
3.01 |
5.20 |
10.00 |
23.55 |
22.00 |
21.40 |
反射薄膜36 |
0.32 |
0.34 |
0.35 |
0.36 |
0.38 |
0.41 |
0.44 |
0.45 |
B8504薄膜(100μm) |
1.04 |
1.37 |
1.70 |
2.52 |
4.60 |
9.95 |
14.05 |
17.33 |
反射薄膜37 |
0.10 |
0.11 |
0.12 |
0.12 |
0.13 |
0.15 |
0.20 |
0.21 |
B8504薄膜(188μm) |
0.91 |
1.22 |
1.45 |
2.02 |
3.16 |
6.60 |
10.04 |
12.34 |
根据以上技术方案可知,本发明在内部具有多微孔结构的白色薄膜上粘贴与其热膨胀系数相近且成本较低的抗变形层,极大地提高了光学反射薄膜的抗变形性,与现有的光学反射薄膜相比,本发明的光学反射薄膜在保持高抗变形性的同时,降低了光学反射薄膜的成本,且不影响光学反射薄膜的反射率。另外,本发明的光学反射薄膜在白色薄膜上粘贴的抗变形层的厚度不受工艺条件限制,且操作简单。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。在本发明的精神和权利要求保护范围之内,对本发明所作的任何修改、等同替换,均包含在本发明的保护范围内。