CN101679050B - 制备微细的沉淀二氧化硅的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种制备微细的沉淀二氧化硅的方法。在作为凝聚剂的碱金属盐的存在下，在60-90℃、不断搅拌下，经各种中和步骤，通过中和碱性硅酸盐溶液制备微细的沉淀二氧化硅，在所述各种中和步骤过程中，中和中断特定的时间。进一步加入酸性硅溶胶，直至60-80％的总碱被中和。然后在不断搅拌下熟化反应混合物至少3分钟，接着以合适的速率通过离心泵进行循环。
Description
发明领域
本发明涉及一种制备微细的沉淀二氧化硅的方法。更具体地说，本发明涉及用酸化剂(即，无机酸和酸性硅溶胶)逐步中和可溶性碱金属硅酸盐以获得超过75％的微粒小于10微米(μm)的二氧化硅。
发明背景
二氧化硅用于强化弹性体(如橡胶)，并用于提高橡胶的耐磨性。具有细粒度的高结构的沉淀二氧化硅尤其用作具有极高的透明度的聚丙烯和聚乙烯膜的抗粘连剂(antiblocking agent)。它们也用于牙科活性物质的载体，其存储于作用位点然后在一段相当长的时间里小剂量释放活性物质(存贮效应、控制释放)。因此，二氧化硅作为活性物质储库而发挥作用，其含有吸收、吸附或化学吸附形式的活性物质。二氧化硅也用于催化、油墨、纸和食品工业中。
授予Huang Yung Hui的美国专利(公布)2006/0027142 A1(2006年2月9日)描述了生产窄粒度分布的沉淀二氧化硅和/或硅酸盐材料的新方法。这种方法基本上在一种可能的优选实施方式中，通过利用更有效的干燥/蒸发成分使得制造成本明显降低，这种二氧化硅和/或硅酸盐材料的生产后直接是液压室压滤步骤，结合随后的真空脱水，导致需要的最终颗粒粉碎。由此生成的最终沉淀二氧化硅和/或硅酸盐在粉碎前显示更大的密度，从而比以前利用的和流行的喷雾/闪蒸干燥设备更倾向于均匀的研磨。该发明也包含产生的沉淀二氧化硅和/或硅酸盐微粒，包括那些令人惊讶地表现极高的透光性能的沉淀二氧化硅和/或硅酸盐微粒，从而潜在地提供用于清晰(透明)的终端应用的优质窄粒度分布的二氧化硅材料。该方法包括使用与真空脱水结合的液压室机压滤步骤的合成后处理以获得窄的粒度分布。这将增加生产成本。
授予Schaefer等人的美国专利(公布)US 2005/0228106A1(2005年10月13日)描述了一种制备具有大约5nm半径的初级颗粒、280-350m2/g的BET比表面积和0.4-0.6g/cc的堆积密度的易于分散的沉淀二氧化硅的方法。该发明的沉淀二氧化硅在降低的钠离子强度和60-100℃的高温下，通过以不同的步骤中和硅酸钠溶液获得。使用的中和剂是硫酸和硅酸。该方法包括通过有机硅烷对初级颗粒和聚集体的表面修饰，以防止聚集体的凝聚，以获得具有胶体范围颗粒大小的疏水表面。通过小角X射线散射(SAXS)技术测量初级颗粒；但没有提及对二级(聚集体)或三极(凝聚体)颗粒的大小。在该发明中，所述方法的一个步骤中使用硅酸使方法复杂化，因为硅酸通过将硅酸盐溶液经过阳离子交换树脂柱而制备，且该溶液不稳定而不能储存较长时间。由此获得的硅酸应该立即使用，且只可以在较低的温度下存储几个小时。另一个缺点是反应时间较长，完全中和需要大约150-200分钟。
授予Maus等人的美国专利6,902,715(2005年6月7日)描述了一项发明，提供包括以下物理特性的二氧化硅颗粒：BET表面积：100-700m2/g；DBP吸收：100-500g/100g；夯实密度：100-250g/l；＞63μ的ALPINE筛余物：＜5％；和粒径(累积体积分布)：d95＜40μm；d50＜20μm；和d5＜10μm。该发明还提供一种生产具有窄的粒度分布的二氧化硅的方法，其包括在脉冲燃烧干燥器中干燥二氧化硅悬浮液，以产生具有以下粒径分布(累积体积分布)的二氧化硅颗粒：d5＜10μm、d50＜20μm和d95＜40μm。根据该发明，通过合成后处理获得细粒径的微粒，这需要特定类型的脉冲燃烧干燥器。这可能会增加生产成本。
Raksh Vir Jasra等人的美国专利7,037,476(2006年5月)描述了一种从金伯利岩(Kimberlite)尾矿(钻石开采的废弃物)制备自由流动的水合无定形二氧化硅的新方法。该方法包括用酸处理金伯利岩，进一步将其与碱溶液反应，以获得可溶性的金属硅酸盐溶液，随后用无机酸中和所述溶液以聚合二氧化硅为不溶性的沉淀。该产品可作为磨料等用于橡胶、涂料中。该方法的缺点是为用酸处理金伯利岩、过滤和清洗以除去粘附的可溶盐及在高温下在碱中溶解二氧化硅是费时的，这增加了对于生产一批产 品的总时间。更多数量的单元操作对该方法的经济效益造成不利影响。
授予Chevallier等人的美国专利申请20030118500(2003)公开了一种制备沉淀二氧化硅的方法，包括硅酸盐与酸化剂的反应，由此获得沉淀二氧化硅的悬浮液，接着是分离和干燥该悬浮液，特征在于按以下方法进行沉淀：(i)形成包含用于反应的硅酸盐总量中的至少一部分和至少一种电解质的初始原溶液，在所述初始原溶液中硅酸盐(以SiO2表示)的浓度是50-60g/l；(ii)向所述原溶液加入酸化剂，直至反应介质的pH值达到7-8.5；(iii)向反应介质加入酸化剂，在适当情况下与剩余量的硅酸盐一起同时加入，额外量的酸化剂添加到反应介质中，优选直至反应介质的pH值为4-6。分离包括使用配备压缩装置的过滤器进行过滤和洗涤操作，具有低于17重量％的固含量的悬浮液通过喷雾干燥。该方法的缺点是，需要同时加入两种溶液，且它们的速度需要非常严格地控制。加入速度的轻微变化可能会影响反应物的pH和随后的二氧化硅的质量。获得所需粒度的二氧化硅需要进行喷雾干燥。这需要高能量输入。
授予Chevallier等人的美国专利6,468,493(2002)描述了一种制备沉淀二氧化硅的方法，其包括以下步骤：i)制备包含用于反应的硅酸盐总量中的至少一部分和至少一种电解质的初始原溶液。所述初始原溶液中以SiO2计的硅酸盐浓度是40-330g/l，且电解质浓度是12-20g/l。向原溶液加入酸化剂，直至获得pH值为7-8.5。以使得反应混合物pH值不发生改变的方式向该溶液中同时加入酸化剂和剩余的硅酸盐溶液。随后向反应混合物加入额外量的酸化剂，以使得反应混合物的pH值下降到4.5-5.5。反应介质的温度保持在68-98℃。该方法的缺点是将pH值降至低于8.5的酸的最始加入是关键的，因为它会导致凝胶形成的可能性。此外，溶液同时加入时严格控制速度，以维持pH值。
授予Uhriahdt等人的美国专利6180076(2001)描述了一种制备具有120-200m2/g的BET比表面积、150-300的DBP指数的易于分散的沉淀二氧化硅的方法，且某些颗粒在通过超声颗粒降解后小于1μm。具有＜3.4μm的降解率wK的颗粒容易分散。wK系数定义为1-100μm范围的非降解微粒的峰值高度(最大值)与经100W的超声处理4.5分钟后的＜1μm 的降解颗粒的最大值的比率。在连续搅拌、65-95℃的温度和7.0-11.0的pH值下，通过碱金属硅酸盐与无机酸的反应获得沉淀二氧化硅。持续反应到40-110g/l的固体浓度，且最终pH值调节到3-5。产物经过滤、洗涤，然后干燥。按照该发明的反应以两个步骤进行：1)加入水玻璃和酸15-25分钟，接着中断加入30-90分钟。2)加入水玻璃和酸50-70分钟。总反应时间为130-140分钟。按某些实施方式，在100W超声处理4.5分钟后获得的粒径是＜5μm。反应时间相对较长，且没有提及未经超声处理的情况下的粒径。
授予Chevallier等人的美国专利6,214,912(2001)描述了一种制备二氧化硅的方法，包括碱金属′M′的硅酸盐与酸化剂的反应，由此获得沉淀二氧化硅的悬浮液，然后分离并干燥该悬浮液，所述方法特征在于按以下方式进行沉淀：(i)形成包括参与反应的碱金属′M′的硅酸盐总量的一部分的初始原液，所述原液中以SiO2表示的硅酸盐浓度低于20g/l；(ii)向所述初始原液加入酸化剂，直至中和所述初始原液中存在的至少5％的量的M2O；(iii)向反应混合物同时加入酸化剂和剩余量的碱金属硅酸盐，使得固结比(consolidation ratio)(即，相对于初始原液中存在的硅酸盐(以SiO2表示)的量，所加入的硅酸盐(以SiO2表示)的量的比例)是12-100。在阶段(iii)中，优选加入的酸化剂的量使得80-99％的加入量的M2O中和。熟化反应混合物1-60分钟。最后，经过沉淀，向反应混合物加入额外量的酸化剂以达到3-6.5的pH。该方法的缺点是，在阶段(iii)中同时加入硅酸盐和酸的过程中，难于调整中和80-99％的加入量的Na2O的酸化剂的量，这使得该方法复杂化。
授予Turk等人的美国专利5,851,502(1998)公开了可以通过以下步骤制备沉淀二氧化硅：将水引入沉淀槽(precipitation vessel)，加入水玻璃直至碱值为5-15，并同时加入水玻璃溶液和硫酸直至反应物的pH值为8.5左右，中断沉淀一段时间，然后进一步继续用酸中和直至浆料的pH值是大约4。该方法的缺点是，需要同时加入两种溶液，且其速度需要非常严格地控制。获得所需的产品需要喷雾干燥，这需要高能量输入。
授予Mody等人的印度专利176707(1996)公开了在室温下使用盐酸 制备沉淀二氧化硅的方法。该方法包括制备具有1-1.3N的Na+离子浓度的硅酸钠水溶液，持续搅拌下、在10-60分钟里以恒定速度向所述溶液加入14-16％的盐酸以降低生成的混合物的pH值至大约10.8，持续加入同样的酸3-6小时以降低pH值到3-4之间，以获得沉淀二氧化硅。最后，通过已知方法分离、洗涤、干燥和粉碎上述沉淀二氧化硅。该方法的缺点是在室温下碱金属硅酸盐溶液的完全中和需要很长的时间，这使得该方法不经济。此外，该方法在技术上只可以用盐酸而不能用其它酸。
授予Persello的美国专利5,342,598(1994)描述了一种方法，其中，通过在不断搅拌下向胶体二氧化硅分散液中同时加入硅酸钠和稀酸制备二氧化硅微粒。在反应完成时，悬浮液的pH值为3-7。在该方法中，胶体二氧化硅用作成核剂，并通过在大约75℃加热硅酸钠溶液和加入酸直至最终的pH值大约9.5而单独制备。该方法的缺点是，需要同时加入两种溶液，且它们的速度需要非常严格地控制。此外，需要稀胶体二氧化胶用于沉淀二氧化胶。
授予Krivak等人的美国专利5,094,829(1992)公开了一种制备具有220-340m2/g的BET比表面积、9-20nm的孔径的强化的沉淀二氧化硅的方法。该方法包括在沉淀和老化的多个阶段中中和碱金属硅酸盐溶液。包括反应的大约9个阶段，其中，在某些阶段，反应混合物的pH值降到低于7，并再次升高pH至碱性状态。开始通过同时加入酸和硅酸盐溶液进一步沉淀，再次使pH值到达酸性状态。该方法包括至少三个熟化步骤。在低于50℃的温度进行反应的第一步骤，然后温度提高到80-95℃。该方法的缺点是反应时间为160分钟以上，这使得该方法不经济。没有提及产品的粒径。
授予Kerner等人的美国专利5,034,207(1991)和5,123,964(1992)描述了制备具有150-350m2/g的BET比表面积、60-120克/升的堆积密度的二氧化硅的方法，且具有1-6μm大小的至少70％的颗粒可以通过在搅拌、70-80℃下加热水玻璃溶液，向水玻璃溶液中加入浓硫酸直至存在的碱的一半被中和，剪切反应混合物并任选地同时升高温度至86℃来 获得。酸加入中断30-120分钟，继续酸加入直至悬浮液的pH值为3-3.5。任选地用水稀释硅酸盐悬浮液，离心泵和水力旋流器分离粗颗粒。通过过滤分离二氧化硅，洗涤，再次悬浮于水中，并喷雾干燥。在反应过程中，通过使其通过剪切单元(例如，Dispax反应器)剪切悬浮液，并再从反应容器顶部引入。在该现有技术中通过剪切单元剪切悬浮液，这需要高能量的投入，其也增加了成本。
授予Nauroth等人的美国专利4,495,167(1985)描述了一种制备具有超过400m2/g的比表面积、高于300的DBP值和超过99％的颗粒＜63μm的沉淀二氧化硅的方法。通过以使得反应容器中存在的水具有6-7的pH值的方式在40-42℃、搅拌下同时加入硅酸钠和硫酸来制备该产品。用涡轮型剪切设备在整个反应过程(即，146分钟)中剪切反应悬浮液。第13分钟后，中断酸和硅酸盐溶液的加入90分钟，再以同样的速度恢复加入，这在以前用来获得46克/升的最终的二氧化硅浓度。然后在室温下再次熟化该产物的悬浮液12-17小时。通过过滤分离产物，洗涤，再悬浮于水中并喷雾干燥。通过喷射研磨获得的产物显示几乎99.99％的颗粒具有小于63μm的粒径。但是，该发明中没有提及小于63μm大小的颗粒的粒径分布。该方法需要12-19小时的长时间，且剪切的使用要求高能量投入和用于该方法的额外的成本。
授予Donnet等人的美国专利4,243,428(1981)描述了一种通过在影响最终获得的二氧化硅的性质的条件下用酸中和硅酸钠溶液以获得二氧化硅的方法。获得的具有100-600m2/g的比表面积(由于强酸对于碱性硅酸盐的作用，其经干燥不发生变化)的产品特征在于以下事实：向碱硅酸盐加入强酸中断1-3次。根据该现有技术的另一种实施方式，反应介质的温度在被一次中断分隔的向硅酸盐相继加入强酸的两个阶段中发生变化。这一现有技术的另一种实施方式是酸加入的速度。根据这一在先发明获得具有小于大约20μm的粒径的二氧化硅的一种优选实施方式，以一种根据以下规律变化的速度向硅酸盐加入酸，所述规律使得残余的碱度和总的二氧化硅浓度线性下降按照以下公式随反应时间变化：
其中，D＝任何时刻′t′的流量；Vi＝初始硅酸盐溶液的体积；Ci＝以克/升表示的初始硅酸盐的Na2O浓度；Ca＝以克/升表示的所用酸的浓度；T＝反应的总时间；t＝以分钟计的时间。但是，为了维持所述条件，在反应过程中酸加入的速度不断发生改变，从而方法变得复杂。
发明目的
本发明的主要目的是提供一种制备微细的沉淀二氧化硅的方法，其具有超过75％颗粒小于10μm，平均粒径为5-6μm，粒度分布指数[I＝(d0.9-d0.1)/2d0.5]为0.8-1.2。
本发明的另一个目的是使用水溶性的碱金属硅酸盐制备具有细粒径的沉淀二氧化硅。碱金属硅酸盐可以是硅酸钠。
本发明的再另一个目的是使用SiO2∶Na2O摩尔比范围为3.0-3.5的硅酸钠。
本发明的再另一个目的是在60-90℃的高温下使用酸化剂逐步中和硅酸钠溶液，以获得具有5-6μm的平均粒径的沉淀二氧化硅。
本发明的更另一个目的是使用无机酸如硫酸和酸性硅溶胶(硅酸)的稀溶液制备具有所需特性的沉淀二氧化硅。
本发明的更另一个目的是制备沉淀二氧化硅，其适宜用作具有极高的透明度的聚丙烯和聚乙烯膜的抗粘连剂，用作弹性体(如橡胶)的增强剂，用作所有类型的活性材料的载体材料，用作牙膏制剂中的磨料，用作涂料、清漆和油墨中的增稠剂和消光剂。
发明概述
本发明提供了一种制备微细沉淀二氧化硅的方法，所述方法包括以下步骤：
(i)制备具有40-70g SiO2/升的二氧化硅浓度的硅酸钠稀溶液；
(ii)通过加入0.1-1.0摩尔/升的钠盐，调节步骤(i)的硅酸盐溶液的钠离子浓度；
(iii)制备浓度为1-10N的稀无机酸溶液；
(iv)在室温下，通过不断搅拌下向步骤(iii)制备的无机酸中加入步骤(i)的5-30％的硅酸钠溶液，单独制备稳定的硅溶胶；
(v)在50-90℃的温度下，加热步骤(i)制备的稀硅酸钠溶液；
(vi)在搅拌、50-90℃的温度下，在5-20分钟的时间内，用步骤(iii)制备的稀酸溶液中和步骤(v)的上述硅酸钠溶液中存在的总碱中10-30％的碱；
(vii)保持所述高温的同时，中断硅酸钠的中和5-30分钟；
(viii)在搅拌下，在10-30分钟内，进一步用步骤(iv)制备的稳定的硅溶胶中和步骤(vii)获得的硅酸钠溶液；
(ix)再次中断上述中和过程3-10分钟；
(x)在5-30分钟内，向上述步骤(viii)的反应物中加入剩余的无机酸，使得反应混合物的最终pH值为3-5；
(xi)熟化上述反应混合物2-10分钟；
(xii)在反应步骤(vi)-(xi)的过程中，以15-20个循环/小时的速度通过离心泵不断循环上述反应物；
(xiii)通过过滤从反应物分离固体二氧化硅，用水洗涤滤饼以除去粘附的硫酸盐杂质；
(xiv)在90-110℃的温度干燥滤饼；和
(xv)粉碎二氧化硅以获得细粉末，并喷射研磨该粉末以获得微细的二氧化硅粉末。
在本发明的一种实施方式中，用于步骤(ii)的硅酸钠中的SiO2/Na2O摩尔比是3.0-3.5。
在更另一种实施方式中，使用的无机酸是浓度为1-10N的硫酸。
在更另一种实施方式中，在步骤(vi)使用的反应温度是60-85摄氏度。
在更另一种实施方式中，在分别保持温度和酸浓度为20-40摄氏度和1-10N的情况下制备硅溶胶。
在更另一种实施方式中，步骤(vii)中酸加入的间歇中断保持为2-15分钟。
在更另一种实施方式中，在步骤(ix)中向反应混合物加入剩余的化学计算量的酸以达到3-5的最终pH 的时间是5-20分钟。
在更另一种实施方式中，在步骤(vi)-步骤(xi)中通过离心泵循环反应物的循环速度是15-20个循环/小时。
在再另一种实施方式中，获得的微细沉淀二氧化硅具有以下特征：
BET表面积(m2/g) 200-390
油吸收能力(g/100g) 200-280
堆积密度(g/cc) ＜0.10
平均粒径，d0.5(μm) 5-6
(用Mastersizer 2000 Malvern Instrument测量)
粒径(％＜10μm)
(用Mastersizer 2000 Malvern Instrument测量) 75-97
粒度分布指数[I＝(d0.9-d0.1)/2d0.5] 0.8-1.2。
发明详细说明
本发明的目标在于提供制备具有非常细小的粒径的微细沉淀二氧化硅的方法。该方法包括在高温和受控的条件(即，反应物浓度、温度、中和的时间和方式)下，用中和剂(即，无机酸)和稳定的硅溶胶的组合可控地中和碱性硅酸盐溶液。为了颗粒生长，间歇地中断中和过程。在中和过程中，持续搅拌反应物，以控制颗粒的凝聚。该方法可以在开口容器中进行，且产物可以容易地通过常规过滤技术回收，并干燥和粉碎以获得细粉末。
该方法包括在作为凝聚剂的电解质存在下，可控地中和硅酸钠溶液。在50-90℃的高温下，通过使用在1-10N浓度的稀无机酸和稳定的硅溶胶进行硅酸盐溶液的中和。在该方法中，进行中和以使得10-30％的总碱被中和，并在搅拌下熟化反应物5-20分钟。随后，在搅拌反应 物并保持反应温度的同时，加入单独制备的稳定的硅溶胶。再次熟化反应物至少3分钟，并在5-30分钟里加入剩余的无机酸。达到3-5的pH时停止酸加入。在中和过程中，反应混合物以整个反应过程中15-20个循环/小时的速度通过离心泵连续循环。
按下列方式测定按本发明获得的沉淀二氧化硅的特性。
如Brunauer，Emmet和Teller在Journal of the American Chemical Society，第60卷第309页(1938)所述的使用表面积分析仪ASAP 2010C，Micromeritics USA，通过在液氮温度下的氮吸附测定BET表面积。
通过以下方法测定油吸附值：
装置由固定于木制框架中的6英寸乘以6英寸的玻璃板和带有手柄的锐缘不锈钢压刮刀(spatula)(2英寸宽)构成。将精确称量的5.0g样品放于板上。用双煮沸的亚麻籽油(double boiled linseed oil)注入滴管。向粉末逐滴滴入油，并通过刮刀与粉末混合。当与粉末混合的油产生不破碎或分离的硬的、腻子状的糊状物时，测试完成。记录加入的油的体积。根据油的密度计算油的重量。由此，如下计算吸百分率：
油吸收能力＝(油重/样品重)×100。
通过下面的方法测定堆积密度的值。
采用“用于橡胶工业的轻质碱式碳酸镁”(′Light Basic MagnesiumCarbonate for Rubber Industry′)的印度标准说明书(IS：1420-1959)描述的方法来测定堆积密度。该装置由木架、带有橡胶软木的量筒组成。零和250毫升刻度线之间的距离为200mm。圆筒的自由下落高度为25mm。将预称重的量(W)的过筛和干燥样品轻轻塞入圆筒。然后将带有橡胶软木的圆筒装到木架上。轻轻地提高圆筒到25mm的高度以使得它不冲撞顶部障碍，然后平稳释放。调整上升和释放的时间使得每两秒钟产生一次轻叩(tap)。共产生50次轻叩。然后，记录体积(V)，并如下计算堆积密度：
堆积密度(g/ml)＝粉末重量(W)/粉末体积(V)。
使用干粉，利用Mastersizer 2000，Malvern Instruments通过激光衍射技术进行粒度分布分析。
本发明提供一种制备特征为以下性质的沉淀二氧化硅的方法：
BET表面积(m2/g) 200-390
油吸收能力(g/100g) 200-280
堆积密度(g/cc) ＜0.10
平均粒径，d0.5(μm) 5-6
(用Mastersizer 2000 Malvern Instrument测量)
粒径(％＜10μm) 75-97
(用Mastersizer 2000 Malvern Instrument测量)
粒度分布指数[I＝(d0.9-d0.1)/2d0.5] 0.8-1.2
可以如本文所述的在变量的大范围内，通过用酸化剂(即无机酸)和稳定的硅溶胶的组合中和剂硅酸盐溶液来制备本发明的微细的无定形沉淀二氧化硅。可以理解，这种具有间歇性中断的中和有助于颗粒的可控的原位生长，其全面控制最终产品的粒度分布。现有技术没有透露，也没有教导如何通过在初始阶段利用无机酸、在中间阶段利用酸性硅溶胶和最终再次用无机酸调整pH，可控制地中和稀的碱金属硅酸盐溶液中的碱(Na2O)来制备具有小于10微米的75％颗粒的微细二氧化硅。迄今已知的方法披露了合成后处理和/或反应混合物经历高剪切(sheer)，以减小制备的二氧化硅的粒径。本发明所采取的创造性步骤是：(i)在严格控制pH值下，该方法不需要同时加入碱金属硅酸盐溶液和无机酸；(ii)该方法不需要使用离子交换树脂来制备稳定的硅溶胶；(iii)可以在80分钟内完成中和，且它在反应过程中不需要长的中断时间。
通过示例方式给出下面的实施例，因此下面的实施例不应解释为限制本发明的范围。
实施例1
在反应容器中制备含有具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的12.0kg硅酸钠的64升硅酸钠溶液，并在剧烈搅拌溶液的同时将2.45kg的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以13.23升/小时的速度向该溶液加入 3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以64.2升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向5.4升3N硫酸加入含有3kg硅酸钠的16升硅酸钠溶液而制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼、粉碎以获得产品，任选地进行喷射研磨(jet milled)。获得具有276m2/g的BET表面积、240g/100g的油吸收能力、0.08g/cc的堆积密度、5.8μm的平均粒径且75％的颗粒＜10μm的产品。产品的喷射研磨导致粒度分布的进一步改善，使得94％的颗粒小于10μm。
实施例2
如实施例1所述制备沉淀二氧化硅。唯一所作的变化是电解质的浓度，不是2.45kg硫酸钠，而是将2.1kg硫酸钠溶于初始的硅酸钠溶液中。产品干燥后进行喷射研磨。获得具有360m2/g的BET表面积、240g/100g的油吸收能力、0.1g/cc的堆积密度、5.0μm的平均粒径且74％的颗粒＜10μm的产品。产品的喷射研磨导致粒度分布的进一步改善，使得84％的颗粒小于10μm。
实施例3
在反应容器中制备含有14.0kg具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的75升硅酸钠溶液，在剧烈搅拌溶液的同时将2.88kg的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以15.64升/小时的速度向该溶液加入3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以75.3升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向6.4升3N硫酸中加入含有3.5kg硅酸钠的18.7升硅酸钠溶液来制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌 下，熟化反应混合物5分钟。在整个反应过程中以16个循环/小时的速度，通过离心泵从反应容器的底部循环反应混合物并从顶部送回反应器中。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼，将粉碎产物，任选地进行喷射研磨。获得的产品66％的颗粒＜10μm、具有7.0μm的平均粒径和325m2/g的比表面积。经喷射研磨后，产品的平均粒径减小到4.9μm，且82％的颗粒小于10μm。
实施例4
在反应容器中制备含有14.0kg具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的75升硅酸钠溶液，并在剧烈搅拌溶液的同时将2.02kg的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以15.64升/小时的速度向该溶液加入3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以75.3升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向6.4升3N硫酸中加入含有3.5kg硅酸钠的18.7升硅酸钠溶液来制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。在整个反应过程中以16个循环/小时的速度，通过离心泵从反应容器的底部循环反应混合物并从顶部送回反应容器。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼，粉碎，并任选地进行喷射研磨。如此获得的产品具有373m2/g的表面积、0.09g/cc的堆积密度、5.0μm的平均粒径，且79％的颗粒在喷射研磨前小于10μm。经喷射研磨后，获得小于10μm的93％颗粒，且平均粒径为4.0μm。
实施例5
在反应容器中制备含有14.0kg具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的75升硅酸钠溶液，并在剧烈搅拌溶液的同时将1.92kg的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以15.64升/小时的速度向该溶液加入3 N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以75.3升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向6.4升3N硫酸中加入含有3.5kg硅酸钠的18.7升硅酸钠溶液来制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。在整个反应过程中以16个循环/小时的速度，通过离心泵从反应容器的底部循环反应混合物并从顶部送回反应容器。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼、粉碎并任选地进行喷射研磨。在喷射研磨前，获得具有0.09g/cc的堆积密度、265g/100g的油吸收能力、360m2/g的表面积、81％的颗粒＜10μm和具有5μm的平均粒径的产品。产品经喷射研磨后，小于10μm的颗粒增加到97％，且平均粒径为3.7μm。
实施例6
在反应容器中制备含有640g具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的2.5升硅酸钠溶液，在剧烈搅拌溶液的同时将65.9g的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以720毫升/小时的速度向该溶液加入3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以2.82升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向292ml的3N硫酸中加入含有160g硅酸钠的650ml硅酸钠溶液来制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼，粉碎并任选地进行喷射研磨。在喷射研磨前，产品具有73％的颗粒＜10μm并具有5.8μm的平均粒径，其经喷射研磨后分别改变为87％和4.6μm。
实施例7
在反应容器中制备含有640g具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的2.5升硅酸钠溶液，在剧烈搅拌溶液的同时将65.9g的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以822毫升/小时的速度向该溶液加入3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以2.82升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向292ml的3N硫酸中加入含有160g硅酸钠的650ml硅酸钠溶液来制备。中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼并粉碎。获得的产品具有80％的颗粒＜10μm，并具有5.5μm的平均粒径、0.09g/cc的堆积密度和220g/100g的油吸收能力。
实施例8
在反应容器中制备含有1.88kg具有等于3.4的SiO2/Na2O摩尔比的硅酸钠的7.56升硅酸钠溶液，在剧烈搅拌溶液的同时将193.9g的硫酸钠溶于其中。加热溶液至75℃，以2.45升/小时的速度向该溶液加入3N的硫酸，经过10分钟的沉淀时间后，中断酸的加入10分钟。以8.24升/小时的速度向该反应混合物加入单独制备的酸性硅溶胶20分钟。酸性硅溶胶通过在室温、搅拌下向856ml的3N硫酸中加入含有470g的硅酸钠1.89升硅酸钠溶液来制备。当？时，中断酸性硅溶胶的加入5分钟，接着加入3N的硫酸10分钟，以使反应混合物的pH值为4。在75℃、搅拌下，熟化反应混合物5分钟。在整个反应过程中以13个循环/小时的速度，通过离心泵从反应容器的底部循环反应混合物并从顶部送回反应容器。通过真空过滤分离沉淀二氧化硅，并洗涤湿滤饼直至获得不含硫酸盐的滤液。在110℃的盘式干燥器中干燥滤饼、粉碎，并任选地进行喷射研磨。产品具有0.07g/cc的堆积密度、280g/100g的油吸收能力和390m2/g的表面积。产品经喷射研磨后，小于10μm的微粒从83 ％增加到97％，且平均粒径为3.7μm。该产品在喷射研磨前的平均粒径是5.1μm。
本发明的优点
1.该方法包括用无机酸或酸性硅溶胶逐步中和硅酸钠溶液，因而不需要同时加入酸和硅酸钠溶液。
2.采取简单的中和过程，其中，只需要控制加入稀酸和酸性硅溶胶的速度。
3.酸性硅溶胶的制备步骤只包括室温下向酸溶液中加入硅酸钠溶液，并不包括阳离子交换树脂的使用。
4.用无机酸中和碱金属硅酸盐溶液中存在的碱可在短时间内完成。
5.无需合成后的处理来获得沉淀二氧化硅的微细颗粒和窄的粒度分布。
本发明的创造性步骤包括通过在电解质存在下用稀无机酸部分中和硅酸钠溶液产生足量的核。优化酸加入的中断时间以使得在第一步骤已经形成的核生长到所需的大小，从而避免形成硅凝胶结构。控制硅酸钠溶液的钠离子浓度和pH值以使得通过在进一步的中和过程中合适的酸/硅溶胶(硅酸)加入速度二氧化硅颗粒聚集而形成聚集体，聚集体经历需要程度的强化而没有进一步的成核和颗微生长。因此，本发明产生具有窄的粒度分布和期望的性质的原位微细沉淀二氧化硅。
Claims (7)
1.一种制备微细沉淀二氧化硅的方法，所述方法包括以下步骤：
(i)制备具有40-70g SiO2/升的二氧化硅浓度的硅酸钠稀溶液；
(ii)通过加入0.1-1.0摩尔/升的钠盐，调节步骤(i)的硅酸盐溶液的钠离子浓度；
(iii)制备浓度为1-10N的稀无机酸溶液；
(iv)在室温、不断搅拌下，通过向步骤(iii)制备的无机酸加入步骤(i)的5-30％的硅酸钠溶液，单独制备稳定的硅溶胶；
(v)在50-90℃的温度下，加热步骤(i)制备的稀硅酸钠溶液；
(vi)在搅拌、50-90℃的温度下，在5-20分钟的时间内，用步骤(iii)制备的稀酸溶液中和步骤(v)的上述硅酸钠溶液中存在的总碱中10-30％的碱；
(vii)保持所述高温的同时，中断硅酸钠的中和5-30分钟；
(viii)在搅拌下，在10-30分钟的时间内，进一步用步骤(iv)制备的稳定的硅溶胶中和步骤(vii)获得的硅酸钠溶液；
(ix)再次中断上述中和过程3-10分钟；
(x)在5-30分钟内，向上述步骤(viii)的反应物中加入剩余的无机酸，使得反应混合物的最终pH值为3-5；
(xi)熟化上述反应混合物2-10分钟；
(xii)在反应步骤(vi)-(xi)的过程中，以15-20个循环/小时的速度通过离心泵不断循环上述反应物；
(xiii)通过过滤从反应物分离固体二氧化硅，用水洗涤滤饼以除去粘附的硫酸盐杂质；
(xiv)在90-110℃的温度干燥滤饼；和
(xv)粉碎二氧化硅以获得细粉末，并喷射研磨该粉末以获得微细的二氧化硅粉末。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述用于步骤(ii)的硅酸钠的SiO2/Na2O的摩尔比是3.0-3.5。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所使用的无机酸是浓度为1-10N的硫酸。
4.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述在步骤(vi)使用的反应温度是60-85摄氏度。
5.如权利要求1或2所述的方法，其中，步骤(vii)中酸加入的间歇性中断保持为5-15分钟。
6.如权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤(x)中向反应混合物加入剩余的化学计算量的酸以达到3-5的最终pH的时间是5-20分钟。
7.如权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤(vi)-步骤(xi)中通过离心泵循环反应物的循环速度是15-20个循环/小时。
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