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CN101672629A - 一种凸轮轮廓的误差在线测量方法 - Google Patents

一种凸轮轮廓的误差在线测量方法 Download PDF

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CN101672629A CN200910153323A CN200910153323A CN101672629A CN 101672629 A CN101672629 A CN 101672629A CN 200910153323 A CN200910153323 A CN 200910153323A CN 200910153323 A CN200910153323 A CN 200910153323A CN 101672629 A CN101672629 A CN 101672629A
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潘旭华
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Abstract

本发明属于测量方法类，具体是一种凸轮轮廓的误差在线测量方法，其特征在于：将测量头由测量头座安装在砂轮架导轨上，测量头的垂直面紧靠待测凸轮外表面，砂轮架导轨上装有光栅尺，测量头上装有位置测量装置，凸轮轴上装有编码器，旋转凸轮轴，并同步移动砂轮架导轨，使凸轮轴旋转与砂轮架导轨移动符合凸轮的转角－升程曲线，带动测量头座水平移动，测出凸轮在各个角度上的砂轮架导轨光栅尺显示的砂轮架位置尺寸与测量头上位置测量装置显示的位置尺寸，并将两者相加，即可得出实际的凸轮转角－升程曲线，与要求的转角－升程曲线相比较，即可计算出凸轮在各个角度的轮廓升程误差。本发明方法简单，测量方便，科学合理，经济性好。

Description

一种凸轮轮廓的误差在线测量方法
技术领域
本发明属于测量方法类，具体是一种凸轮轮廓的误差在线测量方法。
背景技术
在机械传动中常常用到凸轮，但由于凸轮磨削加工难度较大，必须在线测量误差，使机床的数控系统根据测量结果校正数据程序，从而达到凸轮轮廓加工较高的精度。凸轮轮廓误差测量的实质是凸轮在各个角度时，与水平面垂直并与凸轮相切的平面的位置与所要求的转角-升程曲线对比得出误差值，单独用测量头移动测量升程时，测量头行程必须大于凸轮升程，当凸轮升程较大时，如100mm以上大行程，测量头就很复杂，导致该方法装置结构复杂，造价昂贵，使用过程中故障率较高。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足，提供一种采用移动砂轮架导轨的方法简单、使用方便、科学合理的凸轮轮廓的误差在线测量方法。
本发明的技术方案如下：
一种凸轮轮廓的误差在线测量方法，其特征在于：将测量头由测量头座安装在砂轮架导轨上，测量头的垂直面紧靠待测凸轮外表面，砂轮架导轨上装有光栅尺，测量头上装有位置测量装置，凸轮轴上装有编码器，旋转凸轮轴，并同步移动砂轮架导轨，使凸轮轴旋转与砂轮架导轨移动符合凸轮的转角-升程曲线，带动测量头座水平移动，测出凸轮在各个角度上的砂轮架导轨光栅尺显示的砂轮架位置尺寸与测量头上位置测量装置显示的位置尺寸，并将两者相加，即可得出实际的凸轮转角-升程曲线，与要求的转角-升程曲线相比较，即可计算出凸轮在各个角度的轮廓升程误差。
本发明采用砂轮架导轨的移动，以砂轮架导轨作大行程运动，只需微动测量头就可精确测量凸轮轮廓的升程误差，方法简单，测量方便，科学合理，经济性好。
附图说明
图1为本发明示意图。
具体实施方式
实施例1
如图1所示，一种凸轮轮廓的误差在线测量方法，具体是
A、将测量头3由测量头座2安装在砂轮架导轨1上，测量头3的垂直面紧靠待测凸轮外表面；
B、砂轮架导轨1上装光栅尺5，能准确地反映出砂轮架所在的位置；
C、测量头3上装位置测量装置；
D、凸轮轴4上装有编码器，能准确地反映凸轮旋转的角度，当凸轮在某一角度时，砂轮架导轨光栅尺5显示的砂轮架位置尺寸加上测量头上测量装置显示的位置尺寸，即是凸轮与垂直平面的切点在x轴上的坐标值；
E、旋转凸轮轴4，并同步移动砂轮架导轨1，使凸轮轴4旋转与砂轮架导轨1移动符合凸轮的转角-升程曲线，带动测量头座水平移动，测出凸轮在各个角度上的砂轮架导轨光栅尺显示的砂轮架位置尺寸与测量头上位置测量装置显示的位置尺寸，并将两者相加，即可得出实际的凸轮转角-升程曲线；
F、与要求的转角-升程曲线相比较，即可计算凸轮在每个角度的轮廓升程误差。

Claims (1)

1.一种凸轮轮廓的误差在线测量方法，其特征在于：将测量头由测量头座安装在砂轮架导轨上，测量头的垂直面紧靠待测凸轮外表面，砂轮架导轨上装有光栅尺，测量头上装有位置测量装置，凸轮轴上装有编码器，旋转凸轮轴，并同步移动砂轮架导轨，使凸轮轴旋转与砂轮架导轨移动符合凸轮的转角-升程曲线，带动测量头座水平移动，测出凸轮在各个角度上的砂轮架导轨光栅尺显示的砂轮架位置尺寸与测量头上位置测量装置显示的位置尺寸，并将两者相加，即可得出实际的凸轮转角-升程曲线，与要求的转角-升程曲线相比较，即可计算出凸轮在各个角度的轮廓升程误差。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20100317