CN101582005A - 坐标检测装置 - Google Patents
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Abstract
一种坐标检测装置包括：电阻膜，形成在基片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。坐标检测装置通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用电极沿基片的边缘部分形成。在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻膜不存在的一个或多个区域。其中电阻膜不存在的L形电阻膜缺少区域提供在基片的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
Description
技术领域
本发明涉及一种坐标检测装置。
背景技术
触摸面板例如已经用作用于计算机系统的输入装置。安装在显示器上的触摸面板可检测显示器上的坐标位置，并且得到与坐标位置相对应的检测信号。触摸面板允许数据的直接、容易、及直观输入。
已经提出有各种类型的触摸面板，如电阻型、光学型、及电容耦合型触摸面板。主要使用具有简单结构和控制系统的电阻触摸面板。作为电阻触摸面板，依据在电阻膜上电极的排列，有四-导线型、五-导线型、八-导线型触摸面板等。
在这些中，在五-导线型触摸面板中，在操作表面侧上提供的顶部基片的导电膜被简单地只用于读出电位，这与四-导线型和八-导线型电阻触摸面板不同。因而，五-导线型触摸面板不具有边缘滑动的问题，边缘滑动是四-导线型和八-导线型触摸面板的缺陷。因此，五-导线型触摸面板已经用于在严酷使用环境中或长时间上要求耐久性的市场中。
图12是五-导线型电阻触摸面板的构造图。五-导线型电阻触摸面板1由顶部基片11和底部基片12形成。作为底部基片12，透明电阻膜22形成在玻璃基片21的整个表面上。在透明电阻膜22上，形成X-轴坐标检测电极23和24、和Y-轴坐标检测电极25和26。作为顶部基片11，透明电阻膜32形成在膜基片31上。坐标检测电极33形成在透明电阻膜32上。
首先，通过将电压施加到X-轴坐标检测电极23和24上，在底部基片12的透明电阻膜22的X-轴方向上产生电位分布。在这时，通过检测底部基片12的透明电阻膜22的电位，可检测底部基片12与顶部基片11的接触位置的X-坐标。其次，通过将电压施加到Y-轴坐标检测电极25和26上，在底部基片12的透明电阻膜22中Y-轴方向上产生电位分布。在这时，通过检测底部基片12的透明电阻膜22的电位，可检测底部基片12与顶部基片11的接触位置的Y-坐标。
在这种情况下，在这样一种类型的触摸面板中，有在底部基片12的透明电阻膜22中如何产生均匀电位分布的问题。为了在底部基片12的透明电阻膜22中产生均匀电位分布，一种在周缘中提供多级电位分布校正图案的方法公开在专利文件1中。
另外，专利文件2公开了一种将共用电极提供成围绕输入表面的周缘的方法。专利文件3公开了一种在透明电阻膜上提供的绝缘膜中形成开口和通过开口施加电位的方法。
专利文件1：日本专利申请公报No.10-83251
专利文件2：日本专利申请公报No.2001-125724
专利文件3：日本专利申请公报No.2007-25904
响应坐标输入装置安装到其上的装置的尺寸减小等，要求坐标输入装置在框架尺寸方面较窄。然而，一直难以用较窄框架形成专利文件1中公开的坐标输入装置，因为在周缘中必须提供多级电位分布图案。
况且，通过如专利文件2中公开的那样提供围绕输入表面周缘的共用电极的方法，已经有如下问题：透明电阻膜的电位分布成为不均匀的，除非增大在透明电阻膜与图案电阻之间的电阻比值。
此外，尽管上述两个问题可通过如专利文件3中公开的那样在形成的绝缘膜中提供开口的方法而解决，但制造过程在这种情况下变得复杂。具体地说，已经有如下一些情形：在制造过程中引起的材料和电阻值的变化，成为降低希望产品性能的生产率的因素。
发明内容
鉴于以上情况已经形成本发明，并且本发明可以提供一种坐标检测装置，该坐标检测装置能够形成有较窄框架，并且改进坐标位置的检测精度。
根据本发明的一个方面，坐标检测装置包括：电阻膜，形成在基片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用电极沿基片的边缘部分形成。在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻膜不存在的一个或多个电阻膜缺少区域(更好的是，将这些叫做“无电阻膜区域”)。其中电阻膜不存在的L形电阻膜缺少区域提供在基片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
根据本发明的另一个方面，坐标检测装置包括：电阻膜，形成在基片上；和共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上。坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标。基片由正方形形状的绝缘体形成。共用电极沿基片的边缘部分形成。其中电阻膜不存在的第一电阻膜缺少区域提供成与共用电极相邻，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。在共用电极和第一电阻膜缺少区域的相邻侧之间的空隙是0mm至5mm。L形第二电阻膜缺少区域提供在基片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
附图说明
图1是坐标检测装置的系统构造图；
图2A至2E是面板单元111的构造图；
图3A和3B是平面图，每个表示第一电阻膜缺少区域133的实质部分；
图4A至4C是每个表示L形电阻膜缺少区域(第二电阻膜缺少区域)233的图；
图5A和5B是顶部基片122的构造图；
图6是接口板112的处理流程图；
图7A和7B是每个表示底部基片121的电位分布的状态的图；
图8A至8F是表示底部基片121的制造步骤的图；
图9A至9E是第二实施例的面板单元的构造图；
图10是平面图，表示第二电阻膜缺少区域233的实质部分；
图11A至11C是表示第二实施例的L形电阻膜缺少区域(第二电阻膜缺少区域)233的图；及
图12是五-线型电阻触摸面板的构造图。
具体实施方式
其次，下面描述本发明的优选实施例。
[第一实施例]
描述本发明的第一实施例。这个实施例涉及坐标检测装置。
(系统构造)
图1表示这个实施例的坐标检测装置的系统构造。在这个实施例中，所谓的五-导线型模拟电阻触摸面板被描述为坐标输入系统100。这个实施例的坐标输入系统100由面板单元111和接口板112形成。
面板单元111包括底部基片121、顶部基片122、垫片123、及FPC电缆124。底部基片121和顶部基片122被粘合在一起，使垫片123插入在它们之间。由绝缘双面带等形成的垫片123粘合底部基片121和顶部基片122，同时在底部基片121与顶部基片122之间提供预定空隙。而且，FPC电缆124由在柔性印刷基片上形成的第一至第五导线形成。FPC电缆124例如通过由热压而接合各向异性导电膜等被连接到底部基片121上。
(底部基片121)
其次，参照图2A至2E描述底部基片121的构造。图2A是底部基片121的平面图，图2B是沿在图2A中的线A-A得到的横截面图，图2C是沿在图2A中的线B-B得到的横截面图，图2D是沿在图2A中的线C-C得到的横截面图，及图2E是沿在图2A中的线D-D得到的横截面图。
底部基片121由玻璃基片131、透明电阻膜132、电阻膜缺少区域133、共用电极134、第一绝缘膜135、导线136、及第二绝缘膜137形成。透明电阻膜132形成在玻璃基片131的几乎整个表面上。透明电阻膜132通过诸如真空镀积之类的方法由例如ITO(铟锡氧化物)形成。透明电阻膜132透射在光谱的可见区域中的光，并且具有预定电阻。注意，在电阻膜缺少区域133中不是除去透明电阻膜132的全部。通过除去电阻膜缺少区域133的边缘部分的透明电阻膜132，在电阻膜缺少区域133中剩余的透明电阻膜132和在电阻膜缺少区域133外的透明电阻膜132被电气绝缘。以这种方式，通过绝缘在电阻膜缺少区域133中的透明电阻膜132和在电阻膜缺少区域133外的透明电阻膜132，可得到与在电阻膜缺少区域133中除去透明电阻膜132的全部的情形相似的效果。作为结果，可改进生产率，因为有较少透明电阻膜132被除去。注意，在图2A中仅除去在电阻膜缺少区域133的边缘部分中的透明电阻膜132。由于电压从在电阻膜缺少区域133外的共用电极134施加，所以在电阻膜缺少区域133的边缘部分内的透明电阻膜132对于电压分布没有影响。
(电阻膜缺少区域133)
用作第一电阻膜缺少区域的电阻膜缺少区域133提供在玻璃基片131的周缘边缘部分中、和在其中形成共用电极134的区域中。明确地说，共用电极134形成在透明电阻膜132上，在该透明电阻膜132中形成电阻膜缺少区域133。作为结果，共用电极134和在相邻电阻膜缺少区域133之间的透明电阻膜132被连接，以形成电位施加区域。在这个实施例中，如图3A中所示，在相互相邻电阻膜缺少区域133之间的空隙W，就是说，在相邻电阻膜缺少区域133之间形成的电位施加区域的宽度形成为具有相同宽度，如下面描述的那样。在面板单元111的第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4的相对端部的周缘中，电阻膜缺少区域133形成有宽节距，并且节距向每侧的中央部分变窄。明确地说，电阻膜缺少区域133的节距P1、P2、P3、P4、...从相对端部向中央部分形成为具有P1＞P2＞P3＞P4...的关系。
(L形电阻膜缺少区域233)
用作第二电阻膜缺少区域的L形电阻膜缺少区域233以L形形成在由共用电极134的四侧形成的正方形的四个角部处，并且在电阻膜缺少区域133内，就是说，在电阻膜缺少区域133的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。下面参照图4简短地描述用来形成L形电阻膜缺少区域233的原因。
当不形成L形电阻膜缺少区域233时，仅形成电阻膜缺少区域133。在这种情况下，电位分布容易在由共用电极134的四侧形成的正方形的四个角部处变得不均匀。
当电阻膜缺少区域133如图4A中所示在四个角部处彼此接触时，在四个角部处不从共用电极134施加电位。因此，电位分布成为由线D1所表示的那样，这是没有角部的倒圆形状的不均匀电位分布。
而且，当电阻膜缺少区域133如图4B中所示在四个角部处彼此分开时，电位在四个角部处从共用电极134施加。因此，电位分布成为由线D2所表示的那样，这是延伸到四个角部的形状的不均匀电位分布。
在这个实施例中，如图4C中所示，电阻膜缺少区域133在四个角部处形成为彼此分开，并且在电阻膜缺少区域133内，就是说在电阻膜缺少区域133的与其中基片中心位于的侧相同的侧上，提供的电阻膜132以L形被除去，以形成L形电阻膜缺少区域233。作为结果，电位分布成为由线D3所表示的那样，这是具有保持四个角部的几乎理想的均匀电位分布。
以上所描述的L形电阻膜缺少区域233形成在这个实施例的坐标检测装置的底部基片121中。注意，这个L形电阻膜缺少区域233与电阻膜缺少区域133同时形成。因此，在制造过程中几乎不产生额外负荷。
(电位施加区域)
电位施加区域形成在共用电极134和在相邻电阻膜缺少区域133之间的透明电阻膜132的接触区域中。在这个实施例中，当参照图3B明确地描述时，电位施加区域在面板单元111的第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4的相对端部的周缘中形成有宽节距，并且节距向每一侧的中央部分变窄。借助于这样一种构造，可减少在第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4处(在该处电位分布往往大大地向内扭曲)引起的电位分布的失真。况且，可使在透明电阻膜132中的电位分布均匀。因此，可正确地检测坐标位置。
注意，电位施加区域的形状不限于在图3B中表示的形状。通过除去透明电阻膜132的一部分，其中透明电阻膜132和共用电极134接触的区域可以形成有向面板单元111的第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4的相对端部变窄的节距，并且形成有向中央部分变宽的节距。
(共用电极134)
共用电极134在电阻膜缺少区域133和在电阻膜缺少区域133之间的透明电阻膜132上由例如Ag-C形成。
(第一绝缘膜135)
第一绝缘膜135堆积在电阻膜缺少区域133上，以覆盖共用电极134。在第一绝缘膜135中，第一至第四通孔151-1至151-4形成在底部基片121的四个角部处。第一至第四通孔151-1至151-4形成驱动电压施加部分。
(第一至第四导线136-1至136-4)
第一导线136-1由例如诸如Ag之类的低电阻材料形成。第一导线136-1在第一绝缘膜135上沿底部基片121的第一侧171-1形成。在这种情况下，第一导线136-1形成为，填充在第一绝缘膜135中形成的第一通孔151-1。而且，第一导线136-1连接到FPC电缆124的第一导线上。
第二导线136-2由例如诸如Ag之类的低电阻材料形成。第二导线136-2在第一绝缘膜135上沿与底部基片121的第一侧171-1相对的第二侧171-2形成。在这种情况下，第二导线136-2形成为，填充在第一绝缘膜135中形成的第二通孔151-2。第二导线136-2连接到FPC电缆124的第二导线上。
第三导线136-3由例如诸如Ag之类的低电阻材料形成。第三导线136-3在第一绝缘膜135上沿第三侧171-3在第二侧171-2侧上的半部形成。第三侧171-3垂直地跨过底部基片121的第一侧171-1和第二侧171-2。第三导线136-3形成为，填充在第一绝缘膜135中形成的第三通孔151-3。而且，第三导线136-3连接到FPC电缆124的第三导线上。
第四导线136-4由例如诸如Ag之类的低电阻材料形成。第四导线136-4在第一绝缘膜135上沿第三侧171-3在第一侧171-1侧上的半部形成。第三侧171-3垂直地跨过底部基片121的第一侧171-1和第二侧171-2。第四导线136-4形成为，填充在第一绝缘膜135中形成的第四通孔151-4。而且，第四导线136-4连接到FPC电缆124的第四导线上。
第二绝缘膜137形成在第一绝缘膜135上，以覆盖第一导线136-1、第二导线136-2、第三导线136-3、及第四导线136-4。而且，将顶部基片122粘合到第二绝缘膜137上，使垫片123插入在它们之间。
(顶部基片122)
以后，参照图5A和5B描述顶部基片122的构造。图5A是顶部基片122的俯视图，并且图5B是顶部基片122的横截面视图。顶部基片122包括膜基片211、透明电阻膜212、及电极213。膜基片211由例如柔性树脂膜，如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)，形成。在膜基片211的面对底部基片121的侧的整个表面上，形成透明电阻膜212。透明电阻膜212由诸如ITO之类的透明导电材料形成。电极213提供在顶部基片122的透明电阻膜212上在X1方向上的端部部分处。电极213通过未表示的触点连接到FPC电缆124的第五导线上，该FPC电缆124连接到底部基片121上。通过由接口板112通过将顶部基片122用作检测针而检测底部基片121的电位，检测坐标位置。
(检测顺序)
其次，描述在这个实施例的坐标检测装置中检测坐标位置的顺序。图6表示接口板112的处理流程图，并且图7A和7B每个表示底部基片121的电位分布。图7A表示在检测X-坐标时的电位分布，并且图7B表示在检测Y-坐标时的电位分布。
接口板112在步骤S1-1中，将电压Vx施加到第一导线136-1和第二导线136-2上，并且将第三导线136-3和第四导线136-4接地。作为结果，在透明电阻膜132中可产生由在图7A中的虚线所表示的均匀电场分布。注意，传统电位分布如由在图7A中的交替长和短划线(点划线)表示的那样已经失真。因此，根据这个实施例，可正确地检测X-坐标。
其次，接口板112在步骤S1-2中检测底部基片121的电位，并且在步骤S1-3中检测与底部基片121的电位相对应的X-坐标。
以后，接口板112在步骤S1-4中，将电压Vy施加到第一导线136-1和第四导线136-4上，并且将第二导线136-2和第三导线136-3接地。作为结果，在透明电阻膜132中可产生由在图7B中的虚线所表示的均匀电场分布。注意，传统电位分布如由在图7B中的交替长和短划线表示的那样已经失真。因此，根据这个实施例，可正确地检测Y-坐标。
其次，接口板112在步骤S1-5中检测底部基片121的电位，并且在步骤S1-6中检测与底部基片121的电位相对应的Y-坐标。
根据这个实施例，由于导线136-1至136-4堆积在共用电极134上，所以面板单元111可形成有较窄框架。况且，当检测X-轴坐标或Y-轴坐标时由电位施加区域施加到底部基片121的透明电阻膜132上的电位在检测区域中可均匀地分布。因此，可正确地检测坐标。
(制造方法)
其次，描述根据这个实施例的坐标检测装置的制造方法。明确地说，这个实施例涉及底部基片121的制造方法。这个实施例参照图8A至8F描述。
首先，如图8A中所示，通过溅射、真空镀积或类似方式，将诸如ITO之类的透明电阻膜132形成在玻璃基片131上。
随后，如图8B中所示，在透明电阻膜132中形成电阻膜缺少区域133和未表示的L形电阻膜缺少区域233。明确地说，通过用紫外(UV)射线激光或红外激光照射待除去的透明电阻膜132的区域，通过烧蚀除去或通过加热蒸发在这个区域中的透明电阻膜132。可选择地，在形成覆盖除透明电阻膜132的电阻膜缺少区域133和L形电阻膜缺少区域233之外的区域的光致抗蚀图案之后，通过使用盐酸或磷酸的化学蚀刻，可以蚀刻透明电阻膜132。
随后，如图8C中所示，在透明电阻膜132上形成由Ag-C形成的共用电极134。明确地说，在通过丝网印刷而印刷包括Ag-C的糊剂之后，将糊剂烘烤，以形成共用电极134。作为结果，电位施加区域形成在透明电阻膜132上在相邻电阻膜缺少区域133之间。
随后，如图8D中所示，形成包括第一至第四通孔151-1至151-4的第一绝缘膜135。明确地说，在通过丝网印刷方法印刷绝缘糊剂的图案之后，将绝缘糊剂烘烤，以形成第一绝缘膜135。
随后，如图8E中所示，在第一绝缘膜135上形成由Ag形成的第一至第四导线136-1至136-4。明确地说，在通过丝网印刷方法印刷包括Ag的导电糊剂的图案之后，将导电糊剂烘烤，以形成第一至第四导线136-1至136-4。
随后，如图8F中所示，形成第二绝缘膜137。明确地说，在通过丝网印刷方法印刷绝缘糊剂的图案之后，将绝缘糊剂烘烤，以形成第二绝缘膜137。
按以上描述的方式，可制造底部基片121。
注意，在这个实施例中已经描述了五-导线电阻模拟触摸面板，然而，本发明不限于此，并且可应用于其它触摸面板，如四-导线或七-导线电阻触摸面板。
[第二实施例]
接下来，描述本发明的第二实施例。在这个实施例中，描述一种坐标检测装置，在该坐标检测装置中，电阻膜缺少区域133形成在共用电极134内，就是说在共用电极134的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
下面描述这个实施例的坐标检测装置的底部基片121。
(底部基片121)
下面，参照图9A至9E描述底部基片121的构造。图9A是底部基片121的平面图，图9B是沿在图9A中的线A-A得到的横截面图，图9C是沿在图9A中的线B-B得到的横截面图，图9D是沿在图9A中的线C-C得到的横截面图，及图9E是沿在图9A中的线D-D得到的横截面图。
底部基片121由玻璃基片131、透明电阻膜132、电阻膜缺少区域133、共用电极134、第一绝缘膜135、导线136、及第二绝缘膜137形成。透明电阻膜132形成在玻璃基片的几乎整个表面上。透明电阻膜132通过诸如真空镀积之类的方法由例如ITO(铟锡氧化物)形成。透明电阻膜132透射在光谱的可见区域中的光，并且具有预定电阻。
(电阻膜缺少区域133)
在这个实施例中用作第一电阻膜缺少区域的电阻膜缺少区域133形成在玻璃基片131的周缘边缘部分中并在内侧，就是说在其中形成共用电极134的区域的、与其中基片中心位于的侧相同的侧上。在共用电极134和第一电阻膜缺少区域133的相邻侧之间的空隙是0mm至5mm。在这个实施例中，如图10中所示，在相互相邻电阻膜缺少区域133之间的空隙W，就是说，在相邻电阻膜缺少区域133之间形成的、用来施加电位的区域的宽度，形成为具有相同宽度，如下面描述的那样。在面板单元111的第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4的相对端部的周缘中，电阻膜缺少区域133形成有宽节距，并且节距向中央部分变窄。明确地说，电阻膜缺少区域133的节距P1、P2、P3、P4、...从相对端部向中央部分形成为具有P1＞P2＞P3＞P4...的关系。
(L形电阻膜缺少区域233)
用作第二电阻膜缺少区域的L形电阻膜缺少区域233以L形形成在由共用电极134的四侧形成的正方形的四个角部处，并且在内侧，就是说，在电阻膜缺少区域133的、与其中基片中心位于的侧相同的侧上。下面参照图11A至11C简短地描述用来形成L形电阻膜缺少区域233的原因。
当不形成L形电阻膜缺少区域233时，仅形成电阻膜缺少区域133。在这种情况下，电位分布容易在由共用电极134的四侧形成的正方形的四个角部处变得不均匀。
当电阻膜缺少区域133如图11A中所示在四个角部处彼此接触时，在四个角部处不从共用电极134施加电位。因此，电位分布成为由线D4所表示的那样，这是没有角部的倒圆形状的不均匀电位分布。
而且，当电阻膜缺少区域133如图11B中所示在四个角部处彼此分开时，电位在四个角部处从共用电极134施加。因此，电位分布成为由线D5所表示的那样，这是延伸到四个角部的形状的不均匀电位分布。
在这个实施例中，如图11C中所示，电阻膜缺少区域133在四个角部处形成为彼此分开，并且在电阻膜缺少区域133的、与其中基片中心位于的侧相同的侧上，提供的电阻膜132以L形被除去，以形成L形电阻膜缺少区域233。作为结果，电位分布成为由线D6所表示的那样，这是具有保持四个角部的几乎理想的均匀电位分布。
以上所描述的L形电阻膜缺少区域233形成在这个实施例的坐标检测装置的底部基片121中。注意，这个L形电阻膜缺少区域233与电阻膜缺少区域133同时形成，因此，在制造过程中几乎不产生额外负荷。
(电位施加区域)
用来施加电位的区域是在相互相邻电阻膜缺少区域133之间的透明电阻膜132的区域。电位通过这个区域施加到整个透明电阻膜132上。在这个实施例中，当参照图10明确地描述时，用来施加电位的区域在面板单元111的第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4的相对端部的周缘中形成有宽节距，并且节距向中央部分变窄。借助于这样一种构造，可减少在第一侧171-1、第二侧171-2、第三侧171-3、及第四侧171-4处(在该处电位分布往往大大地向内扭曲)引起的电位分布的失真。况且，可使在透明电阻膜132中的电位分布均匀。因此，可正确地检测坐标位置。
注意，电阻膜缺少区域133的形状不限于在图10中表示的形状。电阻膜缺少区域133可以为任何形状，只要透明电阻膜132的电位分布成为均匀的。
(共用电极134)
共用电极134在电阻膜缺少区域133的外侧上在透明电阻膜132上由例如Ag-C形成。
在这个实施例中，由于共用电极134不形成在电阻膜缺少区域133上，所以在形成共用电极134之后，可形成L形电阻膜缺少区域233和电阻膜缺少区域133。
根据一个实施例，通过除去连接到共用电极上的透明电阻膜的一部分，可形成用来将电位施加到透明电阻膜上的电位施加部分，或者可改变施加电位的分布。因此，可均匀地设置在透明电阻膜上的电位分布。而且，可改进坐标位置的检测精度。
尽管为了完整和清晰公开根据特定实施例已经描述了本发明，但本发明不限于上述实施例，并且可以进行变更和修改而不脱离本发明的范围。
本申请基于和要求在2008年5月15日提交的日本专利申请No.2008-128141的优先权利益，该专利申请的全部内容通过参考由此包括。
Claims (7)
1.一种坐标检测装置，包括：
电阻膜，形成在基片上；和
共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上，
所述坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标，
其中，基片由正方形形状的绝缘体形成；
共用电极沿基片的边缘部分形成；
在共用电极下方的电阻膜具有其中电阻膜不存在的一个或多个电阻膜缺少区域；及
其中电阻膜不存在的L形电阻膜缺少区域提供在基片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
2.一种坐标检测装置，包括：
电阻膜，形成在基片上；和
共用电极，形成在电阻膜上，用来将电压施加到电阻膜上，
所述坐标检测装置构造成通过将电压从共用电极施加到电阻膜上而在电阻膜中产生电位分布，并且构造成通过检测电阻膜接触位置的电位而检测电阻膜接触位置的坐标，
其中，基片由正方形形状的绝缘体形成；
其中电阻膜不存在的第一电阻膜缺少区域提供成与共用电极相邻，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上；
在共用电极和第一电阻膜缺少区域的相邻侧之间的空隙是0mm至5mm；及
L形第二电阻膜缺少区域提供在基片的正方形形状的一个或多个角部中，并且在共用电极的与其中基片中心位于的侧相同的侧上。
3.根据权利要求1所述的坐标检测装置，其中，在与共用电极的预定区域相对应的位置处具有接触孔的绝缘膜形成在共用电极上；并且导电材料提供在接触孔中，以形成用来通过共用电极将电压施加到电阻膜上的驱动电压施加单元。
4.根据权利要求1所述的坐标检测装置，其中，电阻膜由在光谱的可见区域中是透明的材料形成；并且通过用具有红外区域或紫外区域的发光波长的激光照射电阻膜，形成第二电阻膜缺少区域。
5.根据权利要求1所述的坐标检测装置，其中，第一电阻膜缺少区域具有其中除去电阻膜的边缘部分、和其中电阻膜保持在边缘部分的内侧上的内部部分；并且内部部分与电阻膜电气绝缘，并提供在边缘部分外侧。
6.根据权利要求1所述的坐标检测装置，还包括堆积在共用电极上的导线，使层间绝缘膜插入在它们之间。
7.根据权利要求1所述的坐标检测装置，还包括用来检测坐标位置的电阻或静电电容器型坐标定位单元。
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