CN101423619B - 塑胶件表面清洁方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及塑胶件表面处理技术领域，更具体地说涉及一种用于清洁塑胶手机外壳的塑胶件表面清洁方法，它包括以下步骤，第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；第二步，真空镀炉设备内抽真空；第三步，真空镀炉设备内注入氩气；第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面；该塑胶件表面清洁方法具有降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。
Description
技术领域：
本发明涉及塑胶件表面处理技术领域，更具体地说涉及一种塑胶件表面清洁方法。
背景技术：
塑胶手机外壳质感好，耐磨性好，成本较低，因此大量用于手机产品上。塑胶手机外壳在镀膜前、后均要进行清洁，以便提高产品质量。
目前，传统的清洁方法为，采用超声波清洗设备进行清洗，这种超声波清洗设备的工作原理是，由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质-清洗溶剂中，超声波在清洗液中疏密相间地向前辐射，使液体流动而产生数以万计的直径为50-500μm的微小气泡，这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长，而在正压区迅速闭合，在这个过程中，气泡闭合可形成几百度的高温和超过1000个气压的瞬间高压，连续不断地产生瞬间高压，就象一连串小“爆炸”不断地冲击物件表面，使物件的表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到物件表面清洗净化的目的。采用这种方法的缺点是，超声波清洗设备成本高，占地广，容易残留水份影响产品品质。
还有一种传统的清洁方法，即手工擦试，利用手工对塑胶手机外壳进行擦拭清洁。采用这种方法的缺点是，需要投入大量的人力，而且效率低，清洁效果不好，产品品质不稳定。
发明内容：
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种塑胶件表面清洁方法，该方法可降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度。
为实现上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：塑胶件表面清洁方法，它包括以下步骤：
第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；
第二步，真空镀炉设备内抽真空；
第三步，真空镀炉设备内注入氩气；
第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面。
所述第二步中，真空镀炉设备内抽真空后的真空度为2.0×10-2Pa。
所述第三步中，氩气注入量为50～300ml。
所述第四步中，氩离子轰击塑胶件表面的时间为3～5min。
所述第四步中，氩气注入量为50～200ml/min。
所述第四步中，离子发射源的工作电压为250Ua×10Ua，工作电流为0.3A±0.1A。
本发明的有益效果：本发明只需在真空镀炉设备基础上增加一套离子发射源设备，利用氩气在离子发射源的激荡下，产生氩离子，氩离子对塑胶件表面进行表面物理轰击与化学反应，使塑胶件表面发生活化作用，从而达到去除表面污渍的目的，因此，该塑胶件表面清洁方法具有降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。
具体实施方式：
实施例，塑胶件表面清洁方法，它包括以下步骤：
第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内，对真空镀炉 设备进行密封操作；
第二步，使用抽真空装置对真空镀炉设备内进行抽真空，使真空度为2.0×10-2Pa；
第三步，真空镀炉设备内注入氩气，使氩气注入量为50～300ml；
第四步，打开负电源，负电源启动真空镀炉设备上的离子发射源，离子发射源产生氩离子，离子发射源的工作电压为250Ua×10Ua，工作电流为0.3A±0.1A，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面，氩离子轰击塑胶件表面的时间为3～5min；轰击的同时，真空镀炉设备内注入氩气，氩气注入量为50～200ml/min，以保证真空镀炉设备内氩气的浓度满足要求。
氩气在离子发射源的激荡下，产生氩离子，氩离子对塑胶件表面进行表面物理轰击与化学反应，使塑胶件表面发生活化作用，从而达到去除表面污渍的目的，因此，该塑胶件表面清洁方法具有降低设备成本、提高生产效率、保证产品品质、提高表面洁净度的优点。
以上所述仅是本发明的较佳实施例，故凡依本发明专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本发明专利申请范围内。
Claims (5)
1.塑胶件表面清洁方法，其特征在于，它包括以下步骤：
第一步，将塑胶件组装到工件架上，装入真空镀炉设备内；
第二步，真空镀炉设备内抽真空；
第三步，真空镀炉设备内注入氩气；
第四步，打开负电源，真空镀炉设备内注入氩气，使真空镀炉设备上的离子发射源产生氩离子，氩离子在真空环境下高能量轰击塑胶件表面。
2.根据权利要求1所述的塑胶件表面清洁方法，其特征在于：所述第二步中，真空镀炉设备内抽真空后的真空度为2.0×10-2Pa。
3.根据权利要求1所述的塑胶件表面清洁方法，其特征在于：所述第三步中，氩气注入量为50～300ml。
4.根据权利要求1所述的塑胶件表面清洁方法，其特征在于：所述第四步中，氩离子轰击塑胶件表面的时间为3～5min。
5.根据权利要求4所述的塑胶件表面清洁方法，其特征在于：所述第四步中，氩气注入量为50～200ml/min。
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| CN1095187A (zh) * | 1993-05-13 | 1994-11-16 | 瓦克化学电子工业原料有限公司 | 工件的湿化学处理方法 |
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