CN101357845A - 一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料及其制备方法,该陶瓷材料以氧化锆为基体,以过渡金属氧化物氧化锰作为稳定剂,具体制备方法为:将称量好的氧化锆和氧化锰混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,采用单向干压法,在8~10MPa的压力下将粉料压结成一定形状的陶瓷片,将陶瓷片放入高温管式炉中烧结,使用的热处理制度为:升温速率小于300℃/h,氩气气氛下1300~1400℃保温12h~24h,然后随炉冷却。本发明工艺简单,成本低,采用固态烧结工艺制备四方氧化锆陶瓷,得到的材料具有良好的稳定性,是一种优异的结构陶瓷材料和固体电解质材料,有利于新型氧化锆陶瓷材料的应用推广。
Description
技术领域
本发明涉及一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料及其制备方法,属于氧化锆基陶瓷技术领域。
背景技术
氧化锆(ZrO2)陶瓷具有高熔点和良好的化学稳定性,从20世纪70年代开始得到研究者的重视。在不同温度下,氧化锆主要以三种同质异形体存在,即单斜晶系(m-ZrO2)、四方晶系(t-ZrO2)和立方晶系(c-ZrO2)。纯的ZrO2在烧结冷却过程中发生四方相到单斜相的马氏体相变时伴随有3%~5%的体积变化,从而导致材料容易开裂,使得氧化锆块材在工程应用上受到限制。
为了消除相变引起的体积变化,研究发现在纯的ZrO2中加入稳定剂,在高温烧结时将形成四方相或立方相固熔体,在冷却时可以消除四方相向单斜相转变。常用的稳定剂有Y2O3、MgO、CaO、CeO2和Sc2O3等。稳定的ZrO2具有高韧性和耐磨性,优异的隔热性能,热膨胀系数接近于金属等优点,因此被广泛应用于结构陶瓷领域。但是,研究发现Y2O3稳定的ZrO2(YSZ)在100-400℃的低温区长期使用时,材料表面向内部发生四方相到单斜相的等温相变,导致力学性能急剧下降,即发生低温性能老化。CeO2稳定的ZrO2具有较高的断裂韧度和良好的抗低温水热老化性能,不足之处是硬度和强度偏低。
同时稳定的ZrO2也是优良的氧离子导体,在固体氧化物燃料电池、氧传感器中作为固体电解质材料得到了广泛的应用。对于ZrO2固体电解质材料,目前研究较多的是YSZ。在ZrO2基的电解质材料中,掺杂效果最好的是Sc2O3掺杂的ZrO2,其电导率在1000℃时可达到0.3S·cm-1,是目前文献报道较好的8%-10%(摩尔分数)Y2O3稳定的氧化锆(8YSZ)电导率的两倍。但是大多数Sc2O3-ZrO2的材料,由于在烧结过程中形成亚稳态相,会使电导率下降很快,稳定性很差。Teighery等也对Al2O3掺杂的YSZ进行了研究,发现5%-10%(质量百分数)Al2O3的掺杂对8YSZ材料的性能有很大的改善。
常见的ZrO2稳定剂是稀土或碱土氧化物,而且只有离子半径与Zr4+半径相差不超过40%的氧化物才能作为氧化锆的稳定剂。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种具有很好稳定性的氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料,其特征在于由以下摩尔百分数的原料组成:稳定剂10%~30%,氧化锆70%~90%,所述稳定剂为过渡金属氧化物氧化锰。
本发明的另一目的是提供一种工艺简单、成本低的制备氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料的方法,其特征在于制备过程为:首先称量氧化锆和氧化锰,将称量好的氧化锆和氧化锰混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,采用单向干压法,在8~10MPa的压力下将所述混合粉压结成陶瓷片,将所述陶瓷片放入高温管式炉中烧结,使用的热处理制度为:升温速率小于300℃/h,氩气气氛下1300~1400℃高温保温12h~24h,然后随炉冷却,即制得氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料。
本发明以氧化锆为基体,一种过渡金属氧化物氧化锰作为稳定剂,采用固态烧结法制备单一稳定剂稳定的氧化锆陶瓷。合成工艺技术条件及操作方法简明,为开发稳定氧化锆技术提供了新的思路。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
1、突破传统的利用稀土或碱土金属氧化物来稳定氧化锆的局限,独具特色地采用过渡金属氧化物来制备稳定氧化锆,为开发稳定氧化锆技术提供了新的思路。
2、合成工艺技术条件及操作方法简明,具有准确、高效、反应条件易控制、反应充分等特点。
3、制备的氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料的稳定性良好。
下面通过实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
具体实施方式
实施例1
将分析纯的ZrO2和Mn2O3按照Zr0.75Mn0.25O2-δ的化学计量比称量,将称量好的混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,使用天平称量按每份1.5g称取若干粉料,采用单向干压法,在8MPa的压力下将粉料压结成50mm×5mm×2mm的陶瓷片,将陶瓷片放入最高温度可达1600℃的高温管式炉中采用300℃/h的升温速率,在氩气气氛下,1300℃保温12h,然后随炉冷却。得到的氧化锆陶瓷经XRD检测为单一四方相。
实施例2
将分析纯的ZrO2和Mn2O3按照Zr0.8Mn0.2O2-δ的化学计量比称量,将称量好的混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,使用天平称按量每份2g称取若干粉料,采用单向干压法,在10MPa的压力下将粉料压结成50mm×5mm×3mm的陶瓷片,将陶瓷片放入高温管式炉中采用300℃/h的升温速率,在氩气气氛下,1400℃保温12h,然后随炉冷却。得到的氧化锆陶瓷经XRD检测为单一四方相。
实施例3
将分析纯的ZrO2和Mn2O3按照Zr0.75Mn0.25O2-δ的化学计量比称量,将称量好的混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,使用天平称量按每份1.5g称取若干粉料,采用单向干压法,在10MPa的压力下将粉料压结成20mm×2mm的陶瓷片,将陶瓷片放入高温管式炉中采用200℃/h的升温速率,在氩气气氛下,1300℃保温16h,然后随炉冷却。得到的氧化锆陶瓷经XRD检测为单一四方相。
Claims (2)
1.一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料,其特征在于由以下摩尔百分数的原料组成:稳定剂10%~30%,氧化锆70%~90%,所述稳定剂为过渡金属氧化物氧化锰。
2.制备如权利要求1所述的一种氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料的方法,其特征在于制备过程为:首先称量氧化锆和氧化锰,将称量好的氧化锆和氧化锰混合粉倒入研钵中,进行充分的研磨混合,采用单向干压法,在8~10MPa的压力下将所述混合粉压结成陶瓷片,将所述陶瓷片放入高温管式炉中烧结,使用的热处理制度为:升温速率小于300℃/h,氩气气氛下1300~1400℃高温保温12h~24h,然后随炉冷却,即制得氧化锰稳定的四方氧化锆陶瓷材料。
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