CN101256859B

CN101256859B - 一种稀土合金铸片及其制备方法

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Publication number: CN101256859B
Application number: CN2007101518018A
Authority: CN
Inventors: 于敦波; 李红卫; 徐静; 李世鹏; 李宗安; 颜世宏; 胡权霞; 袁永强; 李扩社
Original assignee: Grirem Advanced Materials Co Ltd
Current assignee: Grirem Advanced Materials Co Ltd
Priority date: 2007-04-16
Filing date: 2007-09-17
Publication date: 2011-01-26
Anticipated expiration: 2027-09-17
Also published as: JP2008264875A; JP4776653B2; CN101256859A

Abstract

本发明为一种稀土合金铸片及其制备方法。合金铸片的厚度均匀，至少80％合金铸片的厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ²≤0.011mm²。其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为0.1～1.0mm；σ²为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度。稀土合金铸片的成分为R(Fe，M)B，其中R代表包括Sc、Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0～50.0wt％，M为除Fe以外的过渡族元素、Al、Ga、In、C、N、Si、Ge、Sn、Pb、Mg、Ca中的一种或多种，百分含量为0～10.0wt％，硼的百分含量为0～1.5wt％，余量为铁及不可避免的杂质。其制备方法是将上述成分的稀土合金熔融后通过旋转的水冷金属辊甩成片状合金。用该合金铸片可制成高性能的烧结稀土永磁体。

Description

一种稀土合金铸片及其制备方法

技术领域

本发明属于稀土材料制造领域，涉及一种厚度均匀的稀土合金铸片及其制备方法。

技术背景

NdFeB磁体由于优异的磁性能被广泛地应用于计算机、信息电子、国防等领域，在高新技术及人们的日常生活中起着非常重要的作用。随着器件的小型化和智能化，高性能钕铁硼磁体的应用会越来越广。磁体用钕铁硼合金的制备工艺主要分为铸锭工艺和铸片工艺。其中传统的铸锭工艺由于冷却速缓慢，在铸造过程中一方面容易形成α-Fe，α-Fe具有可变形性并降低合金粉碎时的粉碎效率，而且影响成分波动、粒度分布，降低磁体性能，另一方面容易造成钕铁硼合金微观组织中富R相的偏析，导致富R相在铸锭中形成局部大聚集体，使富R相与R₂T₁₄B相混合不均匀。为了解决上述问题，提出了铸片工艺。铸片工艺的出现是传统铸锭工艺的一次重大变革，在铸片工艺中，将熔融合金浇铸到旋转的水冷辊上形成厚度为0.1～1.0mm的合金铸片。在浇铸过程中，熔融合金通过迅速冷却固化，抑制了α-Fe的析出，而且组织细小，结晶粒微细分散，晶界面积大，由于富R相在晶界内扩散得很薄，所以富R相在基体中分散均匀，从而改善母合金的微观组织，提高磁性能。因此采用钕铁硼合金铸片制备高性能磁体是烧结钕铁硼行业发展的必然趋势。

中国专利ZL97111284.3及美国专利US6322637、US2002017340公开了一种钕铁硼合金铸片及其制造方法，该专利主要包括铸片的成分、组织及制备方法，中国专利ZL02805097.5、ZL02800585.6公开了钕铁硼合金铸片的成分、组织及其铸片表面的粗糙度。美国专利US5930582公开了钕铁硼合金铸片的制备工艺。日本专利JP05-222488、JP08-111307、JP09-170055、JP10-036949、JP2000-219942和JP2004-143595报导了钕铁硼合金铸片的成分、组织及制备方法，主要内容包括：R为27.0～34.0wt％，其中R为稀土元素中的一种或多种；富钕相间距(即主相晶粒的宽度)为3～15μm，主相Nd₂Fe₁₄B的体积百分数至少为88％；带片厚度为0.03～10mm；制备方法为：将上述成分的合金熔液浇铸到旋转的辊轮上，经冷却后形成铸片。但以上专利均忽略了一个衡量铸片质量的重要指标即厚度均匀性，制备的磁体的性能都稍低。

最近本发明人通过研究发现，稀土铁硼合金铸片的厚度均匀性对微观组织有着较大影响，从而影响烧结稀土永磁体的性能。厚度均匀的合金铸片具有优良的显微组织，适合制备高性能稀土永磁体，影响机理如下：

(1)铸片中晶粒尺寸近似球形，不存在尖锐的棱边与角以及凸出部位，有利于提高矫顽力。

因为这些位置往往存在很大的散磁场，最大的散磁场可达4πMs，它会诱发反磁化畴形成，导致矫顽力降低；

(2)铸片中Nd₂Fe₁₄B晶粒被一层厚度约2nm的富稀土相薄层所包围，使晶粒与晶粒之间彼此孤立，不存在磁交换藕合作用，有利于提高矫顽力；

(3)铸片中主相Nd₂Fe₁₄B的体积分数大；细小的富稀土相均匀分布，在烧结过程中起液相烧结作用，有利于提高烧结磁体的密度ρ，因而有利于制备高剩磁Br和高磁能积(BH)max的稀土烧结磁体。

本发明人在原有铸片工艺(Strip casting technology)的基础上，发明了一种厚度均匀并可控的稀土合金铸片及其制备方法。在烧结稀土铁硼磁体制备过程中，采用该稀土合金铸片能获得更高的磁性能。以平均厚度μ均为0.3mm、厚度均匀性不同的A、B两种钕铁硼合金铸片为例，A为本发明的合金铸片，其厚度的方差σ²为0.002，而B为传统铸片工艺制备的铸片，方差σ²为0.02。其中A铸片中作为主相的柱状晶沿逆热流方向平行生长，晶粒大小均匀；而B铸片中柱状晶的晶粒大小不够均匀。为了比较这两种稀土合金铸片质量的优劣，采用相同工艺将A、B铸片同时做成烧结钕铁硼磁体。结果表明：用A合金铸片制备的烧结NdFeB磁体的最大磁能积(BH)_max高达406kJ/m³；用B合金铸片得到的最大磁能积(BH)_max仅为371kJ/m³。可见，厚度均匀性是稀土合金铸片质量的一个重要指标，采用厚度均匀性不同的铸片制备的稀土磁体会存在较大的性能差别。

技术内容

本发明的目的在于研制出一种厚度均匀的稀土合金铸片及其制备方法，该合金铸片具有均匀的微观组织，采用该合金铸片能制备高性能的稀土永磁体。

本发明提供了一种稀土合金铸片，其特征在于：

(1)至少80％合金铸片的厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ²≤0.011mm²，其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为0.1～1.0mm；σ²为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度；

(2)合金中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数至少为80％，柱状晶的宽度为0.2～50.0μm，长度为1.0～500μm。

本发明提供的稀土合金铸片，其特征在于：合金铸片的成分为R(Fe，M)B，R代表包括Sc、Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0～50.0wt％，M为除Fe以外的过渡族元素、Al、Ga、In、C、N、Si、Ge、Sn、Pb、Mg、Ca中的一种或多种，百分含量为0～10.0wt％，B是硼，百分含量为0～1.5wt％，余量为铁及不可避免的杂质。

本发明提供的稀土合金铸片的制备方法，其特征在于：将配好的原料在坩埚内熔炼，然后将合金液通过浇铸槽浇铸到旋转的水冷辊上，通过控制合金液流量、甩带宽度(即稀土合金液浇铸到旋转的水冷辊上的宽度)、浇铸温度和水冷辊转速，形成厚度均匀的合金铸片。

本发明合金铸片的厚度控制方法包括形成稳定的合金液流量、稳定的甩带宽度、稳定的浇铸温度和稳定的水冷辊转速，将这四项优化组合，得到厚度均匀的稀土合金铸片。相应地，合金铸片中的晶粒大小和微观组织十分均匀。厚度均匀性控制的原理在于：合金铸片厚度的主要影响因素为合金液流量、甩带宽度、浇铸温度和水冷辊转速。首先，在同等条件下，合金液流量越大，合金铸片的厚度也越大；甩带宽度增加，合金铸片的厚度越小；浇铸温度越高，合金铸片的厚度越小；水冷辊的转速越大，合金铸片的厚度越小。因此，要得到厚度均匀一致的稀土合金铸片，需要将合金液通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷辊上，然后严格控制合金液流量、甩带宽度、浇铸温度和水冷辊转速的大小，要求这四个参数可调并且能够稳定控制。

本发明提供了一种稀土合金铸片，其特征在于：

(1)至少80％合金铸片的厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ²≤0.011mm²，

其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为0.1～1.0mm；σ²为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度。

(2)至少90％合金铸片的厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ²≤0.01mm²。

(3)至少95％合金铸片的厚度分布在[μ-0.1mm，μ+0.1mm]的范围内，σ²≤0.008mm²。

(4)至少80％合金铸片的厚度分布在[μ-0.05mm，μ+0.05mm]的范围内，σ²≤0.008mm²。

(5)至少90％合金铸片的厚度分布在[μ-0.05mm，μ+0.05mm]的范围内，σ²≤0.006mm²。

(6)合金铸片的平均厚度μ为0.1～1.0mm。

本发明提供的稀土合金铸片的制备方法，其特征在于：

(1)熔炼合金的加热方式为中频感应熔炼、高频感应熔炼、电弧熔炼、电阻丝加热熔炼中的一种。

(2)合金液流量大小在100g/s～10000g/s范围内可调并且可以稳定控制。

(3)甩带宽度在50mm～600mm范围内可调并且可以稳定控制。

(4)浇铸温度在1300℃～1600℃范围内可调并且可以稳定控制。

(5)水冷辊转速在0.2m/s～5.0m/s范围内可调并且可以稳定控制。

(6)合金铸片的厚度控制方法包括形成稳定的合金液流量、稳定的甩带宽度、稳定的浇铸温度和稳定的水冷辊转速，将这四项优化组合，得到厚度均匀的稀土合金铸片。

本发明的稀土合金铸片，其厚度的测量方法为：在单个稀土合金铸片的不同部位任意取5点，用螺旋测微器或游标卡尺进行测量，测得的平均值即为单个合金铸片的厚度，记为X_i。本发明中稀土合金铸片的平均厚度

μ = \frac{1}{N} \cdot Σ_{i = 1}^{N} x_{i},

方差

δ^{2} = \frac{1}{N} Σ_{i = 1}^{N} {(x_{i} - μ)}^{2},

其中N表示合金铸片的总数，N越大越好，但考虑到效率，一般选N为30～100，本发明所涉及的相关数据皆以N＝50为基础。

本发明涉及的一种稀土合金铸片，合金铸片厚度的控制过程可以用单辊法的液膜形成机理来解释。单辊法合金铸片成形过程的抽象模型见附图5.

合金液与辊轮上的任意一点一旦接触即在其表面发生凝固，凝固层逐渐增厚，在其脱离熔池时凝固层厚度已经达到一定值y_m。此时固液分离，y_m即为最终获得的合金铸片厚度。设熔池与单辊接触的长度为x_d，则液膜凝固过程的热平衡条件为

α (T_{m} - T_{r}) \frac{x_{d}}{rω} = y_{m} (Δh + cΔ T_{m})

式中α一辊轮与合金液的界面传热系数；

T_m一合金液温度；

ΔT_m一合金液过热度；

T_r一辊轮表面温度；

ω一旋转角速度；

R一辊轮的半径；

c一合金质量热容；

Δh一凝固潜热。

其中x_d/(rω)为凝固时间，合金铸片厚度的计算公式为

y_{m} = \frac{α (T_{m} - T_{r}) x_{d}}{rω (Δh + cΔ T_{m})}

从上式可知，合金铸片厚度的主要影响因素为辊轮与合金液的界面传热系数α、辊轮速度ω、合金液温度T_m、合金质量热容c、凝固潜热Δh。对于一定成分的合金而言，合金铸片厚度的主要影响因素为界面传热系数α、辊轮速度ω与合金液温度T_m。实际工艺中，影响界面传热系数α的因素较多，其中合金液流量大小和甩带宽度大小对α具有较大的影响。因此，合金铸片厚度的主要影响因素为合金液流量、甩带宽度、浇铸温度和水冷辊转速，合金铸片的厚度均匀性主要由这四个因素共同决定。

本发明的优点是：针对普通的稀土合金铸片厚度不均匀、微观组织不均匀、难以获得较高的磁体性能这一问题，提出了一种厚度均匀的稀土合金铸片及其制备方法，其特征在于：将配好的原料在坩埚内熔炼，然后将合金液浇铸到旋转的水冷辊上，通过控制合金液流量、甩带宽度、浇铸温度和水冷辊转速，形成厚度均匀的合金铸片。合金铸片的厚度控制方法包括形成稳定的合金液流量、稳定的甩带宽度、稳定的浇铸温度和稳定的水冷辊转速，将这四项优化组合，得到厚度均匀的稀土合金铸片。本发明的稀土合金铸片具备均匀的微观组织，适合制备高性能稀土铁硼磁体。

附图说明

图1为本发明稀土合金铸片的制备示意图。

图中，1为熔炼坩埚，2为浇铸槽，3为合金铸片，4为辊轮，5为合金铸片收集器。

图2为本发明实施例1的稀土合金铸片的金相照片，沿厚度方向的截面，放大100倍。

图3为本发明实施例1的稀土合金铸片的金相照片，沿厚度方向的截面，放大200倍。

图4为本发明实施例1的稀土合金铸片的金相照片，沿厚度方向的截面，放大500倍。

从图2～图4中可以看出，本发明的稀土合金铸片中沿厚度方向的截面几乎全部由柱状晶构成，铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为近似平行排列的柱状晶，体积百分率至少为80％。其宽度为0.2～50.0μm，长度为1.0～500μm。

图5为单辊法合金铸片成形过程的抽象模型。

图中，1为固液界面，2为固相，3为带材，4为熔池，5为喷嘴，6为液相，7为坩埚，8为单辊表面。

具体实施方式

下面用实例对本发明的一种稀土合金铸片及其制备方法作进一步的说明，将有助于更好地理解本发明的稀土合金铸片及其制备方法的特点和优点。本发明保护范围不受以下实施例的限制，本发明的保护范围由权利要求书决定。

实施例1

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为31.4wt％，包括Nd为31.1wt％，Dy为0.30wt％。M为0wt％，B为1.1wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为100g/s，甩带宽度为50mm，浇铸温度为1300℃，水冷辊转速为0.2m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为1×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为100℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.35mm，其中80％合金铸片的厚度分布在0.25～0.45mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.011。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为85％，其宽度为0.2～20.0μm，长度为2.0～350μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例2

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电阻丝加热熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为150mm，浇铸温度为1350℃，水冷辊转速为1.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为80℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.4mm，其中90％合金铸片的厚度分布在0.30～0.50mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.01。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为93％，其宽度为0.2～10.0μm，长度为3.0～400μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例3

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电弧熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为5000g/s，甩带宽度为300mm，浇铸温度为1390℃，水冷辊转速为2.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为7×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为50℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.32mm，其中95％合金铸片的厚度分布在0.22～0.42mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.009。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为94％，其宽度为1.5～4.5μm，长度为3.0～320μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例4

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为10000g/s，甩带宽度为600mm，浇铸温度为1450℃，水冷辊转速为3.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为9×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为30℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.25mm，其中80％合金铸片的厚度分布在0.20～0.30mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.008。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为1.0～4.0μm，长度为3.0～250μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例5

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为29.0wt％，包括Nd16.0wt％，Tb5.0wt％，Dy为8.0wt％。M为Al0.52wt％，Cu0.45wt％，Co3.50wt％，Ga0.25wt％，Nb0.30wt％，B为1.0wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为8000g/s，甩带宽度为550mm，浇铸温度为1460℃，水冷辊转速为4.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为20℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中80％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.007。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为1.5～3.8μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例6

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为6000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1400℃，水冷辊转速为3.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为10℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，90％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.006。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为1.0～3.7μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例7

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为4000g/s，甩带宽度为300mm，浇铸温度为1350℃，水冷辊转速为2.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为8×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为8℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.005。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为97％，其宽度为0.8～3.5μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例8

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为200mm，浇铸温度为1440℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为9×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为5℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，98％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.004。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.3μm，长度为1.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例9

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为50.0wt％，包括Nd32.0wt％，Pr3.0wt％，Tb5.0wt％，Dy为10.0wt％。M为Al0.52wt％，Cu0.34wt％，Co2.48wt％，Ga0.25wt％，Nb0.30wt％，B为0wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为10000g/s，甩带宽度为600mm，浇铸温度为1500℃，水冷辊转速为5.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为1×10²℃/s，800℃～600℃的冷却速度为100℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为1.0mm，其中，90％合金铸片的厚度分布在0.90～1.10mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.01。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为80％，其宽度为1.0～50.0μm，长度为2.0～500μm。将本实施例的稀土合金铸片与含硼的合金通过双合金工艺制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例10

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为8000g/s，甩带宽度为500mm，浇铸温度为1500℃，水冷辊转速为4.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10²℃/s，800℃～600℃的冷却速度为80℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.6mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.50～0.70mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.008。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为84％，其宽度为1.0～40.0μm，长度为2.0～400μm。将本实施例的稀土合金铸片与含硼的合金通过双合金工艺制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例11

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为4000g/s，甩带宽度为300mm，浇铸温度为1450℃，水冷辊转速为3.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10²℃/s，800℃～600℃的冷却速度为60℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.5mm，其中，90％合金铸片的厚度分布在0.45～0.55mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.006。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为88％，其宽度为1.0～30.0μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片与含硼的合金通过双合金工艺制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例12

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为150mm，浇铸温度为1430℃，水冷辊转速为2.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为7×10²℃/s，800℃～600℃的冷却速度为40℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.4mm，其中，90％合金铸片的厚度分布在0.35～0.45mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为90％，其宽度为1.0～10.0μm，长度为2.0～400μm。将本实施例的稀土合金铸片与含硼的合金通过双合金工艺制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例13

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为30.5wt％，包括Nd24.0wt％，Pr3.5wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％。M为Al0.30wt％，Mg0.10wt％，Cu0.35wt％，Co1.50wt％，Ga0.25wt％，Nb0.30wt％，Ti0.15wt％，Si0.15wt％，B为0.95wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为8000g/s，甩带宽度为550mm，浇铸温度为1460℃，水冷辊转速为4.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为20℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中90％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.006。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为1.5～3.8μm，长度为2.0～200μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例14

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为30.5wt％，包括Nd24.0wt％， Pr3.5wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％。M为Al0.30wt％，Mg0.10wt％，Cu0.35wt％，Co1.50wt％，Ga0.25wt％，Nb0.30wt％，Ti0.15wt％，Si0.15wt％，B为0.95wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为6000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1400℃，水冷辊转速为3.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为10℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，92％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.004。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为1.0～3.7μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例15

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为200mm，浇铸温度为1350℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为7×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为5℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为97％，其宽度为0.4～3.5μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例16

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为500g/s，甩带宽度为50mm，浇铸温度为1440℃，水冷辊转速为1.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为1×10⁴℃/s，800℃～600℃的冷却速度为2℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.002。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.3μm，长度为1.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例17

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为31.5wt％，包括Nd24.0wt％，Gd4.5wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％。M为Al0.30wt％，V0.10wt％，Cu0.35wt％，Co1.50wt％，Cr0.35wt％，Nb0.30wt％，Mn0.25wt％，Si0.15wt％，N0.05wt％，B为0.9wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电弧熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为9000g/s，甩带宽度为600mm，浇铸温度为1520℃，水冷辊转速为5.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为1×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为15℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中90％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.006。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为0.5～3.5μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例18

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电阻丝加热熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为6000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1400℃，水冷辊转速为3.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为7℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.25mm，其中，92％合金铸片的厚度分布在0.20～0.30mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.004。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为0.4～3.4μm，长度为1.0～250μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例19

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为300mm，浇铸温度为1350℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为4℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.20mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.15～0.25mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为97％，其宽度为0.3～3.3μm，长度为1.0～200μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例20

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为4000g/s，甩带宽度为100mm，浇铸温度为1440℃，水冷辊转速为1.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为7×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为1℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.1mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.05～0.15mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.002。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.0μm，长度为1.0～150μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例21

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为30wt％，包括Nd24.0wt％，La0.2wt％，Ce0.2wt％，Pr1.5wt％，Sm0.1wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％，Ho1.0wt％。M为Al0.30wt％，Ga0.20wt％，In0.10wt％，Co1.50wt％，Cr0.35wt％，Si0.15wt％，Ge0.15wt％，Sn0.10wt％，Pb0.10wt％，Mg0.15wt％，Ca0.10wt％，C0.10wt％，B为0.95wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电弧熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为10000g/s，甩带宽度为600mm，浇铸温度为1600℃，水冷辊转速为4.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为1×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为20℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.40mm，其中90％合金铸片的厚度分布在0.30～0.50mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.01。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为90％，其宽度为0.5～5.5μm，长度为2.0～ 300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例22

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电阻丝加热熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为6000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1550℃，水冷辊转速为3.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为15℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.35mm，其中，92％合金铸片的厚度分布在0.30～0.40mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.005。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为0.4～4.4μm，长度为1.0～350μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例23

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为200mm，浇铸温度为1450℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为10℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为0.3～3.5μm，长度为1.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例24

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为30wt％，包括Nd24.0wt％，La0.2wt％，Ce0.2wt％，Pr1.5wt％，Sm0.1wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％，Ho1.0wt％。M为 Al0.30wt％，Ga0.20wt％，In0.10wt％，Co1.50wt％，Cr0.35wt％，Si0.15wt％，Ge0.15wt％，Sn0.10wt％，Pb0.10wt％，Mg0.15wt％，Ca0.10wt％，C0.10wt％，B为0.95wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为500g/s，甩带宽度为50mm，浇铸温度为1400℃，水冷辊转速为0.8m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为7×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为1℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.25mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.20～0.25mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.002。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.0μm，长度为1.0～250μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例25

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为32wt％，包括Nd22.0wt％，Pr1.0wt％，Eu0.5wt％，Gd1.0wt％，Dy为2.5wt％，Er1.0wt％，Tm0.5wt％，Yb0.5wt％，Lu0.5wt％，Sc1.0wt％，Y1.5wt％。M为Ti0.30wt％，V0.20wt％，Mn0.10wt％，Ni0.20wt％，Cu0.30wt％，Zn0.15wt％，Zr0.15wt％，Nb0.10wt％，Mo0.10wt％，Cd0.15wt％，C0.10wt％，N0.10wt％，B为1.5wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为9000g/s，甩带宽度为550mm，浇铸温度为1500℃，水冷辊转速为3.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为2×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为50℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.40mm，其中92％合金铸片的厚度分布在0.30～0.50mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.01。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为90％，其宽度为0.5～6.5μm，长度为2.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例26

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电阻丝加热熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为6000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1470℃，水冷辊转速为2.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为30℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.35mm，其中，93％合金铸片的厚度分布在0.30～0.40mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.005。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为0.4～5.0μm，长度为1.0～350μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例27

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为3000g/s，甩带宽度为300mm，浇铸温度为1430℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为20℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为0.3～3.5μm，长度为1.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例28

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为100mm，浇铸温度为1340℃，水冷辊转速为1.2m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为9×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为10℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.25mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.20～0.25mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.002。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.0μm，长度为1.0～250μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例29

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为28.5wt％，包括Nd22.5wt％，Pr3.0wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％。M为Ti0.50wt％，V0.50wt％，Co5.0wt％，Ni2.4wt％，Cu0.50wt％，Al0.30wt％，Zr0.20wt％，Nb0.50wt％，Mo0.10wt％，B为1.05wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为8000g/s，甩带宽度为600mm，浇铸温度为1460℃，水冷辊转速为4.0m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为2×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为25℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.40mm，其中92％合金铸片的厚度分布在0.30～0.50mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.01。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为90％，其宽度为0.5～8.0μm，长度为2.0～400μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例30

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用电阻丝加热熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为5000g/s，甩带宽度为500mm，浇铸温度为1430℃，水冷辊转速为2.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为3×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为15℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.35mm，其中，93％合金铸片的厚度分布在0.30～0.40mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.005。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为95％，其宽度为0.4～5.0μm，长度为1.0～350μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例31

本实施例的稀土合金铸片，其成分为R(Fe，M)B，其中R为28.5wt％，包括Nd22.5wt％，Pr3.0wt％，Tb1.0wt％，Dy为2.0wt％。M为Ti0.50wt％，V0.50wt％，Co5.0wt％，Ni2.4wt％， Cu0.50wt％，Al0.30wt％，Zr0.20wt％，Nb0.50wt％，Mo0.10wt％，B为1.05wt％，余量为Fe。

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用高频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为3000g/s，甩带宽度为400mm，浇铸温度为1400℃，水冷辊转速为1.5m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为5×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为10℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.30mm，其中，94％合金铸片的厚度分布在0.25～0.35mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.003。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为96％，其宽度为0.3～3.7μm，长度为1.0～300μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

实施例32

其制备方法是：在真空或氩气保护下，用中频感应熔炼形成稀土合金熔液，然后通过浇铸槽以平面流的方式浇铸到旋转的水冷铜辊上，合金液流量为1000g/s，甩带宽度为100mm，浇铸温度为1360℃，水冷辊转速为1.2m/s，其中熔点～800℃的冷却速度为9×10³℃/s，800℃～600℃的冷却速度为1℃/s。得到稀土合金铸片的平均厚度μ为0.25mm，其中，96％合金铸片的厚度分布在0.20～0.25mm的范围内，合金铸片厚度的方差σ²＝0.002。该合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数为98％，其宽度为0.2～3.3μm，长度为1.0～250μm。将本实施例的稀土合金铸片制备成烧结稀土铁硼磁体，性能见表1。

比较例1

与实施例1同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例1相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例2

与实施例2同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例2相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例3

与实施例3同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例3相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例4

与实施例4同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例4相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例5

与实施例5同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例5相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例6

与实施例6同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例6相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例7

与实施例7同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例7相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例8

与实施例8同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例8相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例9

与实施例9同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例9相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例10

与实施例10同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例10相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例11

与实施例11同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例11相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例12

与实施例12同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例12相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例13

与实施例13同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例13相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例14

与实施例14同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例14相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例15

与实施例15同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例15相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例16

与实施例16同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例16相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例17

与实施例17同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例17相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例18

与实施例18同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例18相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例19

与实施例19同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例19相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例20

与实施例20同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例20相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例21

与实施例21同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例21相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例22

与实施例22同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例22相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例23

与实施例23同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例23相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例24

与实施例24同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例24相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例25

与实施例25同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例25相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例26

与实施例26同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例26相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例27

与实施例27同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例27相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例28

与实施例28同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.018合金铸片，再通过与实施例28相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例29

与实施例29同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例29相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例30

与实施例30同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.021合金铸片，再通过与实施例30相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例31

与实施例31同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例31相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

比较例32

与实施例32同成分的稀土合金通过铸片工艺制备成厚度的方差σ²＝0.020合金铸片，再通过与实施例32相同的工艺制备成烧结磁体，性能见表1。

表1

编号	剩磁	内禀矫顽力	磁感矫顽力	最大磁能积
					Br(T)	Hcj(kA/m)	Hcb(kA/m)	(BH)max(kJ/m³)
实施例1	1.45	1000	872	401
					比较例1	1.37	876	861	354
实施例2	1.46	1010	894	408
					比较例2	1.37	881	868	357

实施例3	1.47	1044	925	412
					比较例3	1.37	883	892	358
实施例4	1.48	1045	935	420
					比较例4	1.38	884	893	359
实施例5	1.25	2015	918	296
					比较例5	1.18	1690	883	264
实施例6	1.24	2068	929	290
					比较例6	1.18	1712	880	264
实施例7	1.23	2426	964	283
					比较例7	1.18	1999	897	262
实施例8	1.2	2530	975	272
					比较例8	1.18	2140	914	261
实施例9	1.26	2004	916	299
					比较例9	1.2	1681	874	267
实施例10	1.25	2065	925	294
					比较例10	1.2	1690	876	270
实施例11	1.23	2420	960	286
					比较例11	1.18	1992	893	265
实施例12	1.21	2520	971	275
					比较例12	1.18	2131	905	264
实施例13	1.26	2001	913	300
					比较例13	1.2	1679	872	269
实施例14	1.26	2062	923	297
					比较例14	1.21	1687	875	274
实施例15	1.24	2417	959	289
					比较例15	1.18	1990	890	265
实施例16	1.2	2419	970	272
					比较例16	1.18	2127	902	261
实施例17	1.25	2019	921	294
					比较例17	1.18	1694	886	262
实施例18	1.24	2071	933	289
					比较例18	1.18	1716	885	263
实施例19	1.22	2530	964	278
					比较例19	1.18	2003	898	260
实施例20	1.2	2540	977	271
					比较例20	1.17	2145	917	259
实施例21	1.31	1430	917	330
					比较例21	1.25	1023	675	298
实施例22	1.33	1456	927	331
					比较例22	1.26	1075	877	292
实施例23	1.33	1451	962	339

比较例23	1.29	994	695	296
					实施例24	1.32	1545	1073	335
比较例24	1.28	1001	705	294

实施例25	1.25	2017	919	293
					比较例25	1.18	1696	884	263
实施例26	1.24	2072	933	287
					比较例26	1.18	1715	883	262
实施例27	1.23	2428	966	281
					比较例27	1.18	2003	900	260
实施例28	1.2	2535	978	270
					比较例28	1.18	2144	917	259
实施例29	1.25	2021	925	292
					比较例29	1.18	1697	889	261
实施例30	1.24	2073	936	286
					比较例30	1.18	1719	887	260
实施例31	1.22	2434	966	280
					比较例31	1.18	2007	899	258
实施例32	1.19	2546	982	268
					比较例32	1.17	2149	918	257

Claims

1.一种稀土合金铸片，采用下列方法制备而成：

采用铸片法将熔融的稀土合金液通过浇铸槽浇铸到旋转的水冷辊上形成厚度均匀的合金铸片，其中熔点～800℃的冷却速度为10²～10⁴℃/s，800℃～600℃的冷却速度为100℃/s以下；浇铸温度在1300℃～1600℃范围内可调并稳定控制，合金液流量大小在100g/s～10000g/s范围内可调并稳定控制，稀土合金液浇铸到旋转的水冷辊上的宽度在50mm～600mm范围内可调并稳定控制，水冷辊转速在0.2m/s～5.0m/s范围内可调并稳定控制，其特征在于：

至少90％的合金铸片厚度分布在[μ-0.05mm，μ+0.05mm]的范围内，σ²≤0.006mm²，其中μ为合金铸片的平均厚度，范围为0.2～0.5mm；σ²为合金铸片厚度的方差，表示合金铸片厚度的分散程度；

合金铸片的成分为R(Fe，M)B，R代表包括Sc、Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0～50.0wt％，M为除Fe以外的过渡族元素、Al、Ga、In、C、N、Si、Ge、Sn、Pb、Mg、Ca中的一种或多种，百分含量为0～10.0wt％，B是硼，百分含量为0～1.5wt％，余量为铁及不可避免的杂质；

合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B晶粒为柱状晶，柱状晶的体积百分数至少为80％，柱状晶的宽度为0.2～50.0μm，长度为1.0～500μm。

2.根据权利要求1所述的稀土合金铸片，其特征在于：合金铸片的成分为R(Fe，M)B，R代表包括Sc、Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为26.0～38.0wt％，M为除Fe以外的过渡族元素、Al、Ga、In、C、N、Si、Ge、Sn、Pb、Mg、Ca中的一种或多种，百分含量为0～10.0wt％，B是硼，百分含量为0.8～1.5wt％，余量为铁及不可避免的杂质。

3.根据权利要求1所述的稀土合金铸片，其特征在于：合金铸片的成分为R(Fe，M)B，R代表包括Sc、Y在内的17种稀土元素中的一种或多种，百分含量为28.0～35.0wt％，M为Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Ta、W、Al、Ga、C、Ge、Sn、Pb、Mg、Ca中的一种或多种，百分含量为0～8.0wt％，B是硼，百分含量为0.8～1.5wt％，余量为铁及不可避免的杂质。

4.根据权利要求1所述的稀土合金铸片，其特征在于：合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B的体积百分数至少为85％。

5.根据权利要求1所述的稀土合金铸片，其特征在于：合金铸片中主相Nd₂Fe₁₄B体积百分数至少为91％。

6.一种含稀土的合金粉末，其特征在于，由权利要求1～5所述的稀土合金铸片通过机械破碎或氢破碎的方式制备。

7.一种稀土磁体，其特征在于由权利要求1～5所述的稀土合金铸片为原料制成。