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CH304057A - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten. - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten.

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Publication number
CH304057A
CH304057A CH304057DA CH304057A CH 304057 A CH304057 A CH 304057A CH 304057D A CH304057D A CH 304057DA CH 304057 A CH304057 A CH 304057A
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
deep
production
printing plates
relief printing
etched relief
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
A S Cliche
Original Assignee
Cliche As
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cliche As filed Critical Cliche As
Publication of CH304057A publication Critical patent/CH304057A/de

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
CH304057D 1951-09-10 1951-09-11 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten. CH304057A (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEA14006A DE893147C (de) 1951-09-10 1951-09-10 Verfahren und Apparat zur Tiefaetzung, vorzugsweise von Klischees

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH304057A true CH304057A (de) 1954-12-31

Family

ID=27208849

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH304057D CH304057A (de) 1951-09-10 1951-09-11 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten.
CH321003D CH321003A (de) 1951-09-10 1953-09-12 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten

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CH321003D CH321003A (de) 1951-09-10 1953-09-12 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von tiefgeätzten Hochdruckplatten

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BE (1) BE522759A (de)
CH (2) CH304057A (de)
DE (2) DE893147C (de)
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GB (2) GB721873A (de)

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FR1090047A (fr) 1955-03-25
CH321003A (de) 1957-04-15
GB749021A (en) 1956-05-16
FR1042106A (fr) 1953-10-29
US2692828A (en) 1954-10-26
BE522759A (de)
DE893147C (de) 1953-10-12
GB721873A (en) 1955-01-12
DE932475C (de) 1955-09-01

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