Temas Selectos de Materiales Electrnicos
Preparacin y Caracterizacin de
Pelculas Delgadas
Dr. Stephen Muhl Saunders
Evaporacin Trmica en vaco
Presenta
Abril Fonseca Garca
24 de febrero de 2014
Introduccin
La tecnologa de la deposicin de pelculas delgadas ha experimentado un
impresionante avance en los ltimos aos.
Clasificacin de Pelculas
Es necesario tener en cuenta el intervalo de espesores que se obtiene con cada tipo
de tcnica de preparacin de pelculas.
Segn su valor estaremos ante una tcnica de pelcula delgada o gruesa.
Pelcula Delgada 1 m
Pelcula Gruesa o bulto 1 m
Va disminuyendo a medida que se produce el avance de la tecnologa.
1. Bol. Soc. Esp. Cerm. Vidrio, 33 [5] 245-258
(1994)
Mtodos de preparacin de Pelculas Delgadas
Bsicamente las tecnologas de las deposiciones son fsicas, qumicas o combinacion de
ambas:
Mtodos Fsicos
- Evaporacin (al vaco, reactiva, por haces de electrones,...)
- Epitaxia de haces moleculares (MBE, Molecular Beam Epitaxy).
Mtodos Fsico-qumicos
- Sputtering (de diodo, reactivo, de polarizacin, magntico,...).
- Procesos de plasma (multimagntico, MIBERS, ECR, ablacin).
- Procesos trmicos de formacin (oxidacin, nitruracin, polimerizacin,...).
Mtodos Qumicos en Fase Gaseosa
- Deposicin qumica en fase vapor (CVD) (MOCVD, APCVD, LPCVD, PHCVD, LCVD,
PECVD).
- Epitaxia en fase vapor (VPE, Vapour Phase Epitaxy).
- Implantacin inica.
Mtodos Qumicos en Fase Lquida
- Electrodeposicin (anelectroltica, anodizacin, por desplazamiento, por reduccin,
electrofortica,...).
-Epitaxia en fase lquida (LPE, Liquid Phase Epitaxy).
-Tcnicas mecnicas (inmersin, centrifugacin, pulverizacin).
Bol. Soc. Esp. Cerm. Vidrio, 33 [5] 245-258 (1994)
Evaporacin Trmica
Probablemente fue Faraday en el ao 1857 el primero en obtener
una pelcula por evaporacin.
La evaporacin trmica se realiza haciendo pasar una corriente elctrica a travs del
material a evaporar o a travs de un soporte que contenga el material.
La evaporacin tiene indudables ventajas asociadas a la sencillez de montaje y la
posibilidad de evaporar materiales en forma simple bajo coste.
La evaporacin requiere que siempre el proceso sea en vaco (~10 torr) para evitar
los problemas asociados a la oxidacin a altas temperaturas.
Michael Faraday
El proceso consiste en generar un vapor por ebullicin o
sublimacin de un material, el vapor generado es transportado
desde la fuente hasta una superficie que denominamos substrato
provocando una condensacin del vapor, por lo que formando
una pelcula slida sobre la superficie del substrato.
Qu es la evaporacin Trmica?
Tabla de clasificacin de Vaco y generacin de monocapa de xido
Presin de Vapor de un slido o lquido, Pvap:
En un sistema aislado cerrado conteniendo un lquido, al cabo de un cierto tiempo se alcanza
un equilibrio dinmico entre el flujo de molculas que escapa de la superficie y de las que
retoman desde la fase gas. La presin del vapor viene dada por:
Modelo de Hertz-Knundsen para la evaporacin en Vaco
Pero cuando la evaporacin se hace en vaco el sistema ya no se encuentra aislado y este
modelo para la presin de vapor ya no es valida y se aplica el modelo de Herzt-Knundsen,
supone el proceso de evaporacin de un lquido o slido esta regido por una ley similar, el ritmo
de la evaporacin Vevap, expresado como el numero de tomos o molculas que abandona la
superficie por unidad de rea y tiempo,
= Coef. De evaporacin
P = Presin hidrosttica del evaporante en Torr.
Vevap depende linealmente de la presin de vapor, pero la presin de vapor depende
exponencialmente de la temperatura del material a travs de la ecuacin de Clausius
Clapeyron:
En la grafica se representa la variacin de la presin de
vapor con la temperatura, donde se observa el aume to
de la presin de vapor al variar la temperatura.
Control difcil del ritmo la evaporacin
Efecto de la direccionalidad de los tomos evaporados
El cambio de la masa colectada respecto al rea receptora proporcional al producto de los ngulos
presentados al momento de la evaporizacin y condensacin de la masa sobre el cuadrado de la
distancia a la que se encuentran la muestra del substrato.
Elementos del equipo para Evaporacin Trmica en Vaco
El mtodo ms simple de calentamiento consiste en la utilizacin
de un hilo de Tungsteno no conductor, en forma de espiral y
rodeando el material a evaporar, al cual se hace pasar la corriente
elctrica hasta que el hilo alcanza la temperatura desea.
Cuando se trata de un material en polvo a evaporar en lugar de un
hilo, se utiliza una hoja metlica sobre ella que se deposita el
polvo a evaporar y en la cual se aplica la corriente elctrica.
La alimentacin de la corriente elctrica se hace desde el exterior
de la campana de Vacio, con una fuente de alimentacin de bajo
voltaje y alta corriente, para evitar la formacin de descargas
elctricas entre los hilos de contacto.
Los materiales tpicos para el filamento una hoja metlica suelen
ser de alto punto de fusin (Ta, Mo, W)
Fuentes de Evaporacin Trmica
Hilo de Tungsteno
Hoja metlica
Cuando se trata de evaporar materiales que pueden reaccionar a la temperatura de
fusin con el propio metal de la resistencia, otra alternativa es calentamiento
resistivo consiste en la utilizacin de un crisol cermico calentando a travs de un
arrollamiento metlico, bien sea mediante corriente elctrica o por induccin de
radiofrecuencia (RF) cuando el evaporante es conductor.
Los materiales para el crisol puedes ser grafito, xidos y nitruros, refractarios de
almina o nitruro de boro, son muy inertes a temperaturas de fusin de muchos
materiales
Campana de Vacio
Puede ser de Vidrio Pirex o acero inoxidable, debe cerrar el sistema y no tener
fugas.
Campana de metal
para evaporadora
Campana de vidrio
para evaporadora
Proteccin para
campana de
evaporadora
Fuentes de Sublimacin
Son para calentamiendo directo,
mediante un horno de materiales
voltiles, es decir aquellos para los cuales
la temperatura de evaporacion es menor
que la temperatua de fusin como
ejemplo el cromo.
Celdas de Efusin o Knudsen:
El crisol tiene un pequeo orificio o tubo
de salida.
En condiciones de ultra alto vacio el flujo
de salida del vapor se realiza en regimen
molecular , en forma de haz molecular,
ests celdas se usan en Epitaxial de haces
Moleculares.
Bombas empleadas para Evaporacin trmica en Vaco
Bomba Turbomolecular
Bomba Difusora (Aceite)
Bomba Rotaria de
Apoyo
Can de Electrones
Esta tcnica esta basada en el calentamiento producido por el bombardeo de un
haz de electrones de alta energa sobre el material a depositar keV.
Fundamento: Emisin de electrones producida mediante un filamento
incandescente (ctodo), los cuales son acelerados hacia un nodo mediante un
voltaje elevado (kV). El anodo puede ser el propio crisol o un disco perforado
situado en sus aproimaciones. A menudo se incluye un campo magnetico para
curvar la trayecctoria de les electrones y dirigirla de forma controlada hacia el
crisol.
Caracteristicas:
Alta densidad de potencia (kW) que
controla la vel. De evaporacin desde
valores bajos hasta muy altos.
Crisol refrigerado que evita
problemas de contaminacion
Posibilidad de evaporar metales de
alto punto de fusin.
Equipo complejo de alto costo.
Evaporacin Reactiva
Es una variante de la evaporacin, consiste en una reaccin qumica entre los
constituyentes evaporados y el gas de la atmsfera de la cmara (gas reactivo),
depositndose a bajas velocidades. Se suele activar dicha reaccin trmicamente o
mediante radiacin ultravioleta y bombardeo inico o electrnico.
Datos de evaporacin Reactiva de algunos xidos
Importante: Pueden presentarse problemas para conseguir una
condensacin alta de molculas de oxigeno, cuando se manejan presiones
altas de este gas debido a su dificultad de disociacin de O.
Soluciones: Manejar velocidades de evaporacin bajas, temperatura de
substrato alta y/o activacin mediante plasma.
Evaporacin Activa Reactiva
Los problemas de disociacin de molculas reactivas como el oxigeno, necesarias para
la preparacin de xidos, queda resuelto al utilizar una variante en la evaporacin
Reactiva que es la que se conoce como evaporacin Activa-Reactiva, la cual consiste en
provocar una descarga en forma de plasma entre dos electrodos en la regin del vapor,
con objeto de disociar las molculas del vapor de O o del gas reactivo por efecto de
plasma.
El potencial aplicado suele ser pequeo de 20 a 100 V. sin embargo la descarga puede
ser mantenida por efecto de los electrones secundarios emitidos en el crisol que acta
de ctodo.
Como resultado, hay un cierto intercambio de cargas entre las partculas evaporadas y
los iones del plasma, que son acelerados hacia los substratos donde se produce la
reaccin.
Aplicable: xidos, nitruros
y carburos.
